期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
STEM-Z衬度像在Au@Pd核壳结构二元合金纳米催化颗粒显微结构表征中的应用
被引量:
2
1
作者
相晨生
宋亚会
+1 位作者
夏海兵
田鹤
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期357-363,共7页
核壳结构二元合金纳米颗粒因其金属间的协同作用具有一些优异的性质,以Au@Pd为例,它是一种应用广泛的催化剂颗粒,但目前制备过程中过厚的Pd壳层会降低Pd前驱体的利用效率、催化性能,如何实现对包覆层厚度的调控是研究重点。本文利用STE...
核壳结构二元合金纳米颗粒因其金属间的协同作用具有一些优异的性质,以Au@Pd为例,它是一种应用广泛的催化剂颗粒,但目前制备过程中过厚的Pd壳层会降低Pd前驱体的利用效率、催化性能,如何实现对包覆层厚度的调控是研究重点。本文利用STEM-Z衬度像技术,以Au@Pd为研究对象,分别制备了包覆层为1、4、6的Au@Pd纳米催化颗粒。根据STEM-Z衬度像原理,计算出了最优的探测器角度,θ1、θ2分别为41.34 mrad及266.03 mrad,在此条件下二者散射截面比为2.93。确定了不同反应条件下的包覆层厚度,并基于表面结构探究了其生长机理及模式:当Pd壳层<4时,Pd的生长符合F-M模式,在4~6层时,其生长模式符合S-K模式,当包覆层>6层时,已经过渡为V-W模式,表面会出现明显的岛状团簇。通过调控前驱体用量实现了对包覆层的精准调控,确定了当包覆层为1层时,纳米颗粒其比表面积可达100.9 m2/g,基于Pd计算的质量电流密度可达13.2 A/mg,电流密度可达13.1 mA/cm2,优于目前商用Pd/C催化剂。实现了对Au@Pd纳米合金颗粒的可控合成。
展开更多
关键词
扫描透射电子显微术
STEM-Z衬度像
二元
合金
颗粒
核壳结构
下载PDF
职称材料
题名
STEM-Z衬度像在Au@Pd核壳结构二元合金纳米催化颗粒显微结构表征中的应用
被引量:
2
1
作者
相晨生
宋亚会
夏海兵
田鹤
机构
浙江大学电子显微镜中心
山东大学晶体材料国家重点实验室
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期357-363,共7页
基金
国家重点研发计划(No.2017YFB0703100).
文摘
核壳结构二元合金纳米颗粒因其金属间的协同作用具有一些优异的性质,以Au@Pd为例,它是一种应用广泛的催化剂颗粒,但目前制备过程中过厚的Pd壳层会降低Pd前驱体的利用效率、催化性能,如何实现对包覆层厚度的调控是研究重点。本文利用STEM-Z衬度像技术,以Au@Pd为研究对象,分别制备了包覆层为1、4、6的Au@Pd纳米催化颗粒。根据STEM-Z衬度像原理,计算出了最优的探测器角度,θ1、θ2分别为41.34 mrad及266.03 mrad,在此条件下二者散射截面比为2.93。确定了不同反应条件下的包覆层厚度,并基于表面结构探究了其生长机理及模式:当Pd壳层<4时,Pd的生长符合F-M模式,在4~6层时,其生长模式符合S-K模式,当包覆层>6层时,已经过渡为V-W模式,表面会出现明显的岛状团簇。通过调控前驱体用量实现了对包覆层的精准调控,确定了当包覆层为1层时,纳米颗粒其比表面积可达100.9 m2/g,基于Pd计算的质量电流密度可达13.2 A/mg,电流密度可达13.1 mA/cm2,优于目前商用Pd/C催化剂。实现了对Au@Pd纳米合金颗粒的可控合成。
关键词
扫描透射电子显微术
STEM-Z衬度像
二元
合金
颗粒
核壳结构
Keywords
STEM-Z contrast imaging
core-shell structure
bimetallic nanoparticles
分类号
O643 [理学—物理化学]
TN27 [理学—化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
STEM-Z衬度像在Au@Pd核壳结构二元合金纳米催化颗粒显微结构表征中的应用
相晨生
宋亚会
夏海兵
田鹤
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2020
2
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部