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金属铀与铝薄膜界面的俄歇电子能谱研究 被引量：8
1
作者 吕学超 鲜晓斌 +1 位作者 张永彬 汪小琳 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第3期202-204,共3页
以磁控溅射沉积方法 ,采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属铀上制备了铝薄膜。俄歇电子能谱分析结果表明 :循环氩离子轰击镀获得的铝薄膜和铀基体的界面扩散比未循环轰击镀的显著增强 ,且界面发生化学反应 ,生成了UAl3和Al2 O... 以磁控溅射沉积方法 ,采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属铀上制备了铝薄膜。俄歇电子能谱分析结果表明 :循环氩离子轰击镀获得的铝薄膜和铀基体的界面扩散比未循环轰击镀的显著增强 ,且界面发生化学反应 ,生成了UAl3和Al2 O3相。 展开更多
关键词 界面 铀 铝薄膜 不氩离子轰击镀 俄歇电子能谱 磁控溅射沉积 镀铝 防腐
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