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电子束光刻三维仿真研究
被引量：
3
1
作者
宋会英
杨瑞
赵真玉
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第3期617-619,631,共4页
本文利用MonteCarlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算,建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉...
本文利用MonteCarlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算,建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉积模型,采用重复增量扫描策略对正梯锥三维微结构进行了光刻仿真.理论分析和仿真结果表明,利用分层的三维能量沉积分布模型能更精确地实现电子束光刻的三维仿真.
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关键词
电子束光刻
邻近效应
曝光强度
三维
能量
沉积
模型
下载PDF
职称材料
题名
电子束光刻三维仿真研究
被引量：
3
1
作者
宋会英
杨瑞
赵真玉
机构
中国石油大学(华东)计算机与通信工程学院
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第3期617-619,631,共4页
基金
山东省自然科学基金(No.Y2007G21)
文摘
本文利用MonteCarlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算,建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉积模型,采用重复增量扫描策略对正梯锥三维微结构进行了光刻仿真.理论分析和仿真结果表明,利用分层的三维能量沉积分布模型能更精确地实现电子束光刻的三维仿真.
关键词
电子束光刻
邻近效应
曝光强度
三维
能量
沉积
模型
Keywords
electron beam lithography
proximity effect
exposure intensity
three dimensional energy deposition model
分类号
TP305.1 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束光刻三维仿真研究
宋会英
杨瑞
赵真玉
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
3
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