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镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
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作者
刘柱方
蒋利民
+5 位作者
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)...
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
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关键词
镍
三维
微
图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微
系统技术
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职称材料
题名
镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
1
作者
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室
哈尔滨工业大学机器人研究所
出处
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
基金
科技部 863计划项目 (2 0 0 2AA40 41 70 )资助
文摘
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
关键词
镍
三维
微
图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微
系统技术
Keywords
Confined etchant layer technique (CELT), Nickel, 3D-microfabrication, Chemical etching, Electrochemistry
分类号
TG176 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
镍表面三维微图形的复制加工
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004
2
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职称材料
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