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Photoelectric properties ofβ-Ga_(2)O_(3) thin films annealed at different conditions 被引量:3
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作者 Tuo Sheng Xing-Zhao Liu +2 位作者 Ling-Xuan Qian Bo Xu Yi-Yu Zhang 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第4期1375-1379,共5页
In this work,metal–semiconductor–metal solar-blind ultraviolet photoconductors were fabricated based on theβ-Ga_(2)O_(3) thin films which were grown on the c-plane sapphire substrates by molecular beam epitaxy.Then... In this work,metal–semiconductor–metal solar-blind ultraviolet photoconductors were fabricated based on theβ-Ga_(2)O_(3) thin films which were grown on the c-plane sapphire substrates by molecular beam epitaxy.Then,the effects ofβ-Ga_(2)O_(3) annealing on both its material character-istics and the device photoconductivity were studied.Theβ-Ga_(2)O_(3) thin films were annealed at 800,900,1000,and 1100°C,respectively.Moreover,the annealing time was fixed at 2 h,and the annealing ambients were oxygen,nitro-gen,and vacuum(4.9×10^(-4 )Pa),respectively.The crys-talline quality and texture of theβ-Ga_(2)O_(3) thin films before and after annealing were investigated by X-ray diffraction(XRD),showing that higher annealing temperature can result in a weaker intensity of(402)diffraction peak and a lower device photoresponsivity.Furthermore,the vacuum-annealed sam-ple exhibits the highest photoresponsivity compared with the oxygen-and nitrogen-annealed samples at the same annealing temperature.In addition,the persistent photoconductivity effect is effectively restrained in the oxygen-annealed sample even with the lowest photoresponsivity. 展开更多
关键词 Molecular beam epitaxy β-ga_(2)o_(3)thin fllms ANNEALING PHoToCoNDUCToR
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Al掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜光学性质的影响研究
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作者 钟琼丽 王绪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第8期1352-1360,共9页
近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_... 近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)复合结构,经高温退火使Al原子热扩散进入薄膜中,形成Al掺杂的β-Ga_(2)O_(3)薄膜。采用激光区熔法使薄膜区域熔化再结晶,进一步提升掺杂质量。对Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体性质、杂质含量及光学性质进行了测试表征。结果表明:Al掺杂不改变β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体结构;随着Al层溅射时间延长,掺杂含量逐渐增加;当Al溅射时间为5和10 s时,薄膜紫外吸收率分别为40%和50%;随着Al溅射时间的增加,Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜紫外区域光吸收率逐渐增强,Al溅射时间为300 s时,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的光吸收率接近90%;低浓度的Al掺杂会导致β-Ga_(2)O_(3)薄膜的禁带宽度变窄。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3)薄膜 AL掺杂 磁控溅射 ga_(2)o_(3)/Al/ga_(2)o_(3)/Al/ga_(2)o_(3)复合结构 光吸收 光学带隙
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p-Si/n-Ga_(2)O_(3)异质结制备与特性研究
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作者 陈沛然 焦腾 +6 位作者 陈威 党新明 刁肇悌 李政达 韩宇 于含 董鑫 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期73-81,共9页
本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长T... 本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长Ti/Au电极并进行I-V特性曲线、开启电压、开关电流比、反向饱和电流、理想因子、零偏压下的势垒高度等结特性测试,研究了掺杂浓度与薄膜厚度对PN结特性的影响,并对其原因进行了分析;通过二步生长法和缓冲层温度优化实验,减少了Si衬底与β-Ga_(2)O_(3)之间的晶格失配与热失配带来的影响,对薄膜与器件特性进行了优化。最终获得了表面粗糙度最低可达到4.21 nm的高质量n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,以及具有较低理想因子(42.1)的PN结。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3)薄膜 金属有机化学气相沉积 p-Si/n-ga_(2)o_(3) PN结 晶体质量 电学特性
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基于云母衬底生长的非晶Ga_(2)O_(3)柔性透明日盲紫外光探测器研究 被引量:5
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作者 玄鑫淼 王加恒 +7 位作者 毛彦琦 叶利娟 张红 李泓霖 熊元强 范嗣强 孔春阳 李万俊 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第23期363-371,共9页
基于宽禁带半导体材料氧化镓(Ga_(2)O_(3))制备日盲深紫外(UV)光电探测器是当前研究的热点课题之一,但如何制备出高性能的Ga_(2)O_(3)基日盲探测器应用于柔性透明光电子领域仍然存在挑战.本文采用射频磁控溅射技术在柔性云母衬底上生长... 基于宽禁带半导体材料氧化镓(Ga_(2)O_(3))制备日盲深紫外(UV)光电探测器是当前研究的热点课题之一,但如何制备出高性能的Ga_(2)O_(3)基日盲探测器应用于柔性透明光电子领域仍然存在挑战.本文采用射频磁控溅射技术在柔性云母衬底上生长了具有高透射率的非晶Ga_(2)O_(3)薄膜.在此基础之上,采用铝掺杂氧化锌(AZO)作为电极材料,制备了非晶Ga_(2)O_(3)薄膜基金属-半导体-金属(MSM)结构的透明日盲深紫外光电探测器,并系统对比分析了平面状态和多次弯曲后的器件性能.结果表明,非晶Ga_(2)O_(3)基透明探测器具有超高的可见光透明度,并显示出良好的日盲紫外光电特性.器件在254 nm光照下的响应率为2.69 A/W,响应和恢复时间为0.14 s/0.31 s.经过300次机械弯曲后,器件具有与其平面状态相近的光响应行为,器件性能没有发生明显的衰减现象,表现出良好的柔韧性和稳定性.本工作证实了AZO薄膜可作为下一代柔性和可见光透明的Ga_(2)O_(3)基探测器的电极材料,并为研制高性能柔性透明日盲深紫外探测器提供一定参考. 展开更多
关键词 ga_(2)o_(3)薄膜 非晶态 日盲紫外探测器 透明 柔性
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热原子层沉积钛掺杂氧化镓薄膜的光学性能
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作者 李存钰 朱香平 +2 位作者 赵卫 李继超 胡景鹏 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期118-127,共10页
在250℃的低温下,以三甲基镓、四(二甲氨基)钛为前躯体源,O_(3)为反应气体,采用热原子层沉积制备了Ti掺杂Ga_(2)O_(3)(TGO)薄膜。Ga_(2)O_(3)和TiO_(2)的生长速率分别为0.037 nm/cycle和0.08 nm/cycle,TGO薄膜厚度低于理论计算值。X射... 在250℃的低温下,以三甲基镓、四(二甲氨基)钛为前躯体源,O_(3)为反应气体,采用热原子层沉积制备了Ti掺杂Ga_(2)O_(3)(TGO)薄膜。Ga_(2)O_(3)和TiO_(2)的生长速率分别为0.037 nm/cycle和0.08 nm/cycle,TGO薄膜厚度低于理论计算值。X射线光电子能谱仪测试结果表明膜中Ti浓度随Ga_(2)O_(3)/TiO_(2)循环比减少而增加,O 1s、Ga 2p和Ti 2p的峰位置向较低的结合能移动,这是因为Ti原子取代了Ga原子的某些位点引起了结合能降低,表明Ti元素成功掺杂到Ga_(2)O_(3)薄膜中。TiO_(2)和Ga_(2)O_(3)的芯能级光谱分析表明薄膜中存有Ti^(4+)和Ga^(3+)离子。TGO薄膜的O 1s芯能级光谱中Ga-O键随着Ti-O键含量增加而下降,表明TGO薄膜中形成Ga_(2)O_(3)-TiO_(2)复合材料。掠入射X射线衍射图中没有出现衍射峰,表明沉积的Ga_(2)O_(3)和TGO薄膜为非晶态。原子力显微镜观察到薄膜表面平整光滑,均方根粗糙度为0.377 nm,这得益于原子层沉积逐层生长的优势。TGO薄膜在可见光区表现出较高的透明度,对紫外光强烈吸收。随着Ti掺杂浓度的增加,TGO薄膜的折射率由于化学变化从1.75增加到1.99,紫外光区消光系数增大引起透过率减小,吸收边缘出现了红移,光学带隙从4.9 eV减小到4.3 eV。分光光度法和X射线光电子能谱法测定薄膜光学带隙所得的结果一致。 展开更多
关键词 氧化镓薄膜 Ti掺杂ga_(2)o_(3)薄膜 热原子层沉积 折射率 光学带隙
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磁控溅射衬底加热温度和后退火温度对制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响 被引量:3
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作者 高灿灿 姬凯迪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第2期296-301,309,共7页
作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热... 作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热温度的影响。溅射完成后通过高温退火处理提升薄膜质量,研究衬底加热温度和后退火温度对氧化镓薄膜晶体结构和表面形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试手段对β-Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌等进行分析表征。实验结果表明,随着衬底加热温度的升高,β-Ga_(2)O_(3)薄膜表面粗糙度逐渐降低,薄膜晶体质量得到显著提升;在氧气气氛中进行后退火,合适的后退火温度有利于氧化镓薄膜重新结晶、增大晶粒尺寸,能够有效修复薄膜的表面态和点缺陷,对于改善薄膜晶体质量有明显优势。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3)薄膜 宽禁带半导体 磁控溅射 衬底加热温度 高温退火 晶体结构 表面形貌
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生长气压对分子束外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响 被引量:1
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作者 蔡文为 刘祥炜 +8 位作者 王浩 汪建元 郑力诚 王永嘉 周颖慧 杨旭 李金钗 黄凯 康俊勇 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第7期1152-1157,共6页
本文采用分子束外延技术在具有6°斜切角的c面蓝宝石衬底上外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜,系统研究了生长气压对薄膜特性的影响。X射线衍射谱和表面形貌分析表明,不同生长气压下所外延的薄膜表面平整,均具有(201)择优取向。并且,其结晶质... 本文采用分子束外延技术在具有6°斜切角的c面蓝宝石衬底上外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜,系统研究了生长气压对薄膜特性的影响。X射线衍射谱和表面形貌分析表明,不同生长气压下所外延的薄膜表面平整,均具有(201)择优取向。并且,其结晶质量和生长速率均随生长气压增大而逐渐提高。通过X射线光电子能谱分析发现,生长气压增大使得氧空位的浓度大幅下降,高价态Ga比例增大,最终使得O/Ga原子数之比接近理想Ga_(2)O_(3)材料的化学计量比值。利用Tauc公式和乌尔巴赫带尾模型进行计算,结果表明随着生长气压的增大,样品的光学带隙由4.94 eV增加到5.00 eV,乌尔巴赫能量由0.47 eV下降到0.32 eV,证明了生长气压的增大有利于降低薄膜中的缺陷密度,提高薄膜晶体质量。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3)薄膜 分子束外延 生长气压 缺陷密度 晶体质量 光学特性
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溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜物理特性的影响 被引量:2
8
作者 李蓉 杨非凡 +4 位作者 周毅坚 彭文博 梅梦岩 赵洋 王辉 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第10期783-787,818,共6页
采用射频磁控溅射法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。X射线衍射结果显示,温度过低不利于薄膜晶化,随着温度的升高,结晶质量变好;通过计算薄膜晶体... 采用射频磁控溅射法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。X射线衍射结果显示,温度过低不利于薄膜晶化,随着温度的升高,结晶质量变好;通过计算薄膜晶体的粒径、晶面间距、非均匀应变和织构系数,发现四组样品均沿(201)晶面择优生长,450℃时所制备的Ga_(2)O_(3)薄膜结晶质量最好。扫描电子显微镜(SEM)结果表明,随着温度的升高,Ga_(2)O_(3)薄膜粒径逐渐增大,结晶质量变好。光学吸收谱图表明,随着温度的升高,Ga_(2)O_(3)薄膜禁带宽度先增大后减小,平均值为4.88 eV。透射谱图表明,Ga_(2)O_(3)薄膜在可见光波段的平均透过率约为85%,适合作为高信噪比紫外探测器的吸收层。该项研究为Ga_(2)O_(3)在紫外探测及高功率电子器件领域的应用提供了参考。 展开更多
关键词 磁控溅射 ga_(2)o_(3)薄膜 溅射温度 晶体结构 光学特性
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不同浓度的Si掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的制备及研究 被引量:1
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作者 张晓霞 邓金祥 +3 位作者 孔乐 李瑞东 杨子淑 张杰 《真空》 CAS 2021年第5期57-61,共5页
本文采用射频磁控溅射法在Si(100)和石英衬底制备纯β-Ga_(2)O_(3)和不同浓度的Si掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并且研究Si掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜结构、表面形貌和光学性质的影响。X射线衍射(XRD)测试结果表明,Si掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜... 本文采用射频磁控溅射法在Si(100)和石英衬底制备纯β-Ga_(2)O_(3)和不同浓度的Si掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并且研究Si掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜结构、表面形貌和光学性质的影响。X射线衍射(XRD)测试结果表明,Si掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜都未出现新的衍射峰,随着Si浓度的增加,β-Ga_(2)O_(3)的特征峰(111)逐渐向大角度方向移动。X射线光电子能谱(XPS)表明β-Ga_(2)O_(3)薄膜中成功掺入了Si元素。本文使用原子力显微镜(AFM)表征薄膜的表面形貌,结果表明薄膜表面的粗糙度随着Si浓度增加呈现单调递增的趋势。紫外-可见光(UV-visible)透射光谱表明薄膜均在可见光波段具有高透光率,薄膜的光学带隙随Si掺杂浓度的变大而变大。Si掺杂实现了β-Ga_(2)O_(3)的带隙可调,表明Si是一种有潜力的掺杂剂。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 Si掺杂β-ga_(2)o_(3)薄膜 带隙宽度 结构
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不同浓度的Mg掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的制备与研究 被引量:1
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作者 杨子淑 段苹 +3 位作者 邓金祥 张晓霞 张杰 杨倩倩 《真空》 CAS 2021年第3期30-34,共5页
本文采用射频磁控溅射方法在石英和高阻硅衬底上制备纯茁-Ga_(2)O_(3)薄膜和不同掺杂浓度的Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜,研究了薄膜的结构、光学和电学性质。X射线衍射测试结果表明,在我们的掺杂浓度内,Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜没有出现... 本文采用射频磁控溅射方法在石英和高阻硅衬底上制备纯茁-Ga_(2)O_(3)薄膜和不同掺杂浓度的Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜,研究了薄膜的结构、光学和电学性质。X射线衍射测试结果表明,在我们的掺杂浓度内,Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜没有出现其他晶相的衍射峰,随着Mg掺杂浓度变大,薄膜的(401)和(601)衍射峰强度变弱。使用X射线光电子能谱测试薄膜中各元素的结合能和化学态。紫外-可见透射光谱测试结果表明薄膜在测试波段平均透光率高达80%以上,薄膜的带隙宽度随着Mg掺杂浓度变大而变大。霍尔效应测试结果表明我们采用射频磁控溅射方法制备的Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜的导电类型为p型,载流子浓度由3.76×10^(10)cm^(-3)增加到1.89×10^(13)cm^(-3),说明Mg掺杂茁-Ga_(2)O_(3)薄膜是一种很有潜力的p型半导体材料。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 Mg掺杂β-ga_(2)o_(3)薄膜 带隙宽度 P型掺杂
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氨化反应自组装GaN纳米线 被引量:1
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作者 王显明 杨利 +1 位作者 王翠梅 薛成山 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期684-687,共4页
通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~... 通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~ 12 0nm ,长可达 5 0 μm;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN ,沿 [110 ]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线 ,简单新颖 。 展开更多
关键词 纳米ga2o3薄膜 gaN纳米线 射频磁控溅射 氨化
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后退火对射频磁控溅射法制备Mg掺杂Ga2O3薄膜性质的影响 被引量:4
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作者 李如永 段苹 +3 位作者 崔敏 王吉有 原安娟 邓金祥 《真空》 CAS 2019年第3期37-40,共4页
本文采用双靶材交替溅射的射频磁控溅射法生长了高质量的Mg掺杂氧化镓薄膜,并将制备的样品在1000℃条件下进行后退火处理,以研究退火前后Mg掺杂Ga2O3薄膜的性质变化。XRD结果表明,退火后的(004)、(202)和(120)峰从无到有,(401)、(601)和... 本文采用双靶材交替溅射的射频磁控溅射法生长了高质量的Mg掺杂氧化镓薄膜,并将制备的样品在1000℃条件下进行后退火处理,以研究退火前后Mg掺杂Ga2O3薄膜的性质变化。XRD结果表明,退火后的(004)、(202)和(120)峰从无到有,(401)、(601)和(122)峰由强变弱,表明退火改变了Mg掺杂Ga2O3薄膜的结构。AFM结果表明,退火后的薄膜表面均方根粗糙度由1.3637nm增大到17.1133nm。EDS结果表明,退火处理后的Mg元素重量百分比有所提高。紫外可见透射光谱研究表明,退火前薄膜在200-1500nm波长范围内的平均光透过率较低,大约为80%,退火后平均光透过率明显提高到90%以上,此外薄膜光学吸收边蓝移,带隙宽度变大,表明退火有助于改善薄膜结构,增强光透性。光致发光谱实验结果表明,相比较退火处理后的薄膜,退火前的光致发光峰几乎可以忽略不计,这说明退火可显著改变Mg掺杂Ga2O3薄膜的光致发光特性。 展开更多
关键词 后退火 Mg掺杂ga2o3薄膜 光透过率 带隙宽度 光致发光谱
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Si基ZnO/Ga_2O_3氨化反应制备GaN薄膜 被引量:1
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作者 庄惠照 高海永 +2 位作者 薛成山 王书运 董志华 《微细加工技术》 2004年第2期37-41,共5页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga_2O_3薄膜,然后ZnO/Ga_2O_3膜在开管炉中850℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成GaN薄膜。XRD测量结果表明利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga_2O_3薄膜,然后ZnO/Ga_2O_3膜在开管炉中850℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成GaN薄膜。XRD测量结果表明利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构的薄膜,利用傅里叶红外吸收光谱仪测量了薄膜的红外吸收谱,利用SEM和TEM观测了薄膜形貌,PL测量结果发现了位于350nm和421nm处的室温光致发光峰。 展开更多
关键词 ga2o3薄膜 Zno缓冲层 氨化 自组装 射频磁控溅射
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Ga_2O_3∶Mn电致发光薄膜的微结构及光谱特性研究 被引量:1
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作者 张修太 黄蕙芬 《电子器件》 CAS 2004年第4期581-584,共4页
采用电子束蒸发法在硅衬底或 Ba Ti O3陶瓷基片上沉积了 Ga2 O3∶Mn电致发光膜 ,并进行了不同温度热处理 ,制备了电致发光器件。用 X射线衍射 ( XRD)分析了 Ga2 O3∶ Mn薄膜晶体结构 ;用荧光分光光度计测试了电致发光器件的发射光谱。... 采用电子束蒸发法在硅衬底或 Ba Ti O3陶瓷基片上沉积了 Ga2 O3∶Mn电致发光膜 ,并进行了不同温度热处理 ,制备了电致发光器件。用 X射线衍射 ( XRD)分析了 Ga2 O3∶ Mn薄膜晶体结构 ;用荧光分光光度计测试了电致发光器件的发射光谱。研究了 Ga2 O3∶ Mn薄膜的晶体结构与其光谱特性之间的关系。实验结果表明 ,Ga2 O3∶ Mn薄膜结晶度随热处理温度的提高而提高 ,且晶体结构和结晶取向也随之改变 ;经 5 0 0℃热处理的 Ga2 O3∶ Mn薄膜电致发光器件发绿光 ,其光谱主峰分布在 495~ 5 3 5 nm之间 ,且随驱动电压增高 。 展开更多
关键词 电致发光 电子束蒸发 ga2o3:Mn薄膜 晶体结构 荧光分光光度计
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Synthesis of free-standing Ga_2O_3 films for flexible devices by water etching of Sr_3Al_2O_6 sacrificial layers 被引量:1
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作者 Xia Wang Zhen-Ping Wu +5 位作者 Wei Cui Yu-Song Zhi Zhi-Peng Li Pei-Gang Li Dao-You Guo Wei-Hua Tang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第1期166-170,共5页
Flexible electronic devices have attracted much attention due to their practical and commercial value. Integration of thin films with soft substrate is an effective way to fabricate flexible electronic devices. Ga_2O_... Flexible electronic devices have attracted much attention due to their practical and commercial value. Integration of thin films with soft substrate is an effective way to fabricate flexible electronic devices. Ga_2O_3 thin films deposited directly on soft substrates would be amorphous mostly. However, the thickness of the thin film obtained by mechanical exfoliation method is difficult to control and the edge of the film is fragile and easy to be damaged. In this work, we fabricated free-standing Ga_2O_3 thin films using the water-soluble perovskite Sr_3Al_2O_6 as a sacrificial buffer layer. The obtained Ga_2O_3 thin films were polycrystalline. The thickness and dimension of the films were controllable. A flexible Ga_2O_3solar-blind UV photodetector was fabricated by transferring the free-standing Ga_2O_3 film on a flexible polyethylene terephthalate substrate. The results displayed that the photoelectric performances of the flexible Ga_2O_3 photodetector were not sensitive to bending of the device. The free-standing Ga_2O_3 thin films synthesized through the method described here can be transferred to any substrates or integrated with other thin films to fabricate electronic devices. 展开更多
关键词 FREE-STANDING ga2o3 thin film CRYSTALLINE Sr3Al2o6 FLEXIBLE PHoToDETECToR
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射频磁控溅射氧气流量对制备的Ga_(2)O_(3)∶Cr薄膜光致发光性能的影响
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作者 赵鑫 刘粉红 +1 位作者 张晓东 刘昌龙 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第8期1353-1360,共8页
在不同氧气流量下,采用双靶射频磁控共溅射的方法在蓝宝石(α-Al_(2)O_(3))基底上制备得到系列掺Cr的Ga_(2)O_(3)(Ga_(2)O_(3)∶Cr)薄膜,详细研究了薄膜在900℃退火前后的结构和光学性能。结果表明,未退火的Ga_(2)O_(3)∶Cr薄膜为非晶结... 在不同氧气流量下,采用双靶射频磁控共溅射的方法在蓝宝石(α-Al_(2)O_(3))基底上制备得到系列掺Cr的Ga_(2)O_(3)(Ga_(2)O_(3)∶Cr)薄膜,详细研究了薄膜在900℃退火前后的结构和光学性能。结果表明,未退火的Ga_(2)O_(3)∶Cr薄膜为非晶结构,其发光主要位于蓝绿波段。经900℃退火后,薄膜的结构由非晶变为多晶,且在近红外波段观测到了来源于Cr^(3+)掺杂的发光。退火后的薄膜结晶质量和近红外发光均与氧气流量密切相关,而其光学带隙不受氧气流量的影响。在所研究的氧气流量范围,4 mL/min氧气流量下薄膜的近红外发光强度最强,这与此条件下薄膜结晶质量较好以及Cr^(3+)替代Ga 3+的数量较多有关。以上研究成果可为制备高质量Ga_(2)O_(3)∶Cr薄膜提供参考。 展开更多
关键词 ga_(2)o_(3)∶Cr薄膜 射频磁控溅射 蓝宝石基底 氧气流量 退火 光学性能 结晶质量
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氨化合成一维GaN纳米线 被引量:2
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作者 王显明 杨利 +1 位作者 王翠梅 薛成山 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期670-672,共3页
用氨化溅射Ga2O3薄膜的方法,成功地合成了一维GaN纳米线。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和高分辨电镜(HRTEM)对样品进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑,其直径为20 nm^90 nm,长可达50 祄;纳米线为高质量的单晶六... 用氨化溅射Ga2O3薄膜的方法,成功地合成了一维GaN纳米线。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和高分辨电镜(HRTEM)对样品进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑,其直径为20 nm^90 nm,长可达50 祄;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN,沿[110]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线,避免了在制备过程中引入杂质,合成的纳米线纯度较高。 展开更多
关键词 氨化 ga2o3薄膜 gaN纳米线 射频磁控溅射
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RF磁控溅射和氨化法制备GaN纳米棒和纳米颗粒
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作者 胡丽君 庄惠照 +3 位作者 高海永 何建廷 薛守斌 薛成山 《微纳电子技术》 CAS 2005年第9期411-414,419,共5页
利用射频磁控溅射法分别溅射ZnO中间层和Ga2O3薄膜到Si(111)衬底上,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式石英炉中常压下通氨气进行氨化,高温下ZnO在氨气气氛中被还原生成Zn而升华,而在不同的氨化时间下Ga2O3和氨气反应合成出GaN纳米棒和纳米颗粒。... 利用射频磁控溅射法分别溅射ZnO中间层和Ga2O3薄膜到Si(111)衬底上,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式石英炉中常压下通氨气进行氨化,高温下ZnO在氨气气氛中被还原生成Zn而升华,而在不同的氨化时间下Ga2O3和氨气反应合成出GaN纳米棒和纳米颗粒。X射线衍射(XRD)测量结果表明,利用该方法制备GaN纳米棒和颗粒具有沿c轴择优取向生长的六方纤锌矿结构。利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶红外透射谱(FTIR)及选区电子衍射(SAED)观测和分析了样品的形貌、成分和晶格结构。研究分析了此种方法合成GaN纳米结构的反应机制。 展开更多
关键词 gaN纳米棒和纳米颗粒 Zno/ga2o3薄膜 射频磁控溅射 氨化
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氮化时间对扩镓硅基GaN晶体膜质量的影响
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作者 曹文田 孙振翠 +3 位作者 魏芹芹 薛成山 庄惠照 高海永 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2004年第3期364-368,共5页
采用射频磁控溅射在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,然后氮化反应组装GaN晶体膜,并研究氮化时间对薄膜晶体质量的影响。测试结果表明:采用两步法生长得到六方纤锌矿结构的GaN多晶膜,扩镓硅层有效的抑制了硅衬底的氮化和弛豫了GaN与Si衬底的热... 采用射频磁控溅射在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,然后氮化反应组装GaN晶体膜,并研究氮化时间对薄膜晶体质量的影响。测试结果表明:采用两步法生长得到六方纤锌矿结构的GaN多晶膜,扩镓硅层有效的抑制了硅衬底的氮化和弛豫了GaN与Si衬底的热失配。同时显示:在相同的氮化温度下,晶粒尺寸随氮化时间的增加而增大,薄膜的晶化程度相应的得到提高。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 ga2o3薄膜 gaN晶体膜 氮化温度 氮化时间 半导体
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