期刊文献+
共找到25篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
Si(111)衬底上IBE法外延生长β-FeSi_2薄膜的研究 被引量:8
1
作者 李慧 马辉 +1 位作者 丁维清 秦复光 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期264-268,共5页
本文采用质量分析的低能离子束外延法(以下简称IBE法)在Si(111)衬底上外延生长了β-FeSi2薄膜,并进行了X射线衍射测量分析;与扫描电镜配合验证了β-FeSi2外延薄膜的形成.实验结果表明:所得β-FeSi2(101)或(110)面基本平行... 本文采用质量分析的低能离子束外延法(以下简称IBE法)在Si(111)衬底上外延生长了β-FeSi2薄膜,并进行了X射线衍射测量分析;与扫描电镜配合验证了β-FeSi2外延薄膜的形成.实验结果表明:所得β-FeSi2(101)或(110)面基本平行于Si(111)面,验证了Si(111)上β-FeSi2外延薄膜的形成;并对失配度做了精确的计算;薄膜形貌呈岛屿状分布,同时分析了生长条件对薄膜形貌的影响. 展开更多
关键词 外延生长 半导体材料 衬底 薄膜
下载PDF
Si^+注入热生长SiO_2的光致发光激发谱与光电子能谱 被引量:6
2
作者 宋海智 鲍希茂 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第11期820-824,共5页
Si+注入的热生长SiO2,未退火及1000℃以下退火样品的光致发光谱为峰值在470nm的蓝光带,其光致发光激发谱主要为一个位于250nm的窄峰,且谱形不依赖于退火条件,光电子能谱显示样品注入层为比较均匀的SiOx;1000℃以上退火样品的发光... Si+注入的热生长SiO2,未退火及1000℃以下退火样品的光致发光谱为峰值在470nm的蓝光带,其光致发光激发谱主要为一个位于250nm的窄峰,且谱形不依赖于退火条件,光电子能谱显示样品注入层为比较均匀的SiOx;1000℃以上退火样品的发光谱为峰值在730nm的红光带,其激发谱有一个230nm的窄峰,同时在500nm附近还有一个随退火处理不断红移和增强的宽带,光电子能谱表明退火使样品注入层分离为SiO2和纳米硅晶粒两相.本文对两种发光带的复合过程、光吸收过程及其与微结构的关系进行了讨论. 展开更多
关键词 二氧化硅 硅离子 注入 PLE XPS 热生长
下载PDF
Evolution of stress in evaporated silicon dioxide thin films 被引量:5
3
作者 方明 胡达飞 邵建达 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第1期119-122,共4页
The evolution of stress in evaporated SiO2, used as optical coatings, is investigated experimentally through in situ stress measurement. A typical evolution pattern consisting of five subprocedures (thin film deposit... The evolution of stress in evaporated SiO2, used as optical coatings, is investigated experimentally through in situ stress measurement. A typical evolution pattern consisting of five subprocedures (thin film deposition, stopping deposition, cooling, venting the vacuum chamber, and exposing coated optics to the atmosphere) is put forward. Further investigations into the subprocedures reveal their features. During the deposition stage, the stresses are usually compressive and reach a stable state when the deposited film is thicker than 100 nm. An increment of compressive stress value is observed with the decrease of residual gas pressure or deposition rate. A very low stress of-20 MPa is formed in SiO2 films deposited at 3×10^-2 Pa. After deposition, the stress increases slightly in the compressive direction and is subject to the stabilization in subsequent tens of minutes. In the process of venting and exposure, the compressive component increases rapidly with the admission of room air and then reaches saturation, followed by a logarithmic decrement of the compressive state in the succeeding hours. An initial discussion of these behaviors is given. 展开更多
关键词 Optical coatings semiconducting silicon compounds SILICA silicon oxides Thin films
原文传递
真空紫外光直接光CVD法低温生长SiO_2薄膜及其性质 被引量:7
4
作者 杜开英 陈义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期303-308,共6页
使用真空紫外(VUV)光直接光CVD工艺,在低温(50-150℃)下成功地淀积出了优质的SiO2薄膜.测试结果表明:淀积膜的红外吸收峰与高温热生长膜的相符合;氧和硅原子的组分非常接近化学计量比;光折射率在1.42-1... 使用真空紫外(VUV)光直接光CVD工艺,在低温(50-150℃)下成功地淀积出了优质的SiO2薄膜.测试结果表明:淀积膜的红外吸收峰与高温热生长膜的相符合;氧和硅原子的组分非常接近化学计量比;光折射率在1.42-1.55之间;介电常数大于3.6;击穿电场强度在1×107V/cm的量级;用氯氟酸腐蚀液(参考配方:HF:H2O=1:12)测得膜的平均腐蚀速率约为1.27um/s.试用表明,当使用本实验工艺于硅器件的表面钝化、涂覆及层间隔离,替代PECVD和热CVD工艺时,器件的击穿特性和反向漏电流均明显地改善. 展开更多
关键词 二氧化硅薄膜 生长 低温 CVD法
下载PDF
Photonic crystal waveguides and their applications Invited Paper
5
作者 黄翊东 毛晓宇 +4 位作者 张超 曹磊 崔开宇 张巍 彭江得 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第10期704-708,共5页
Two-dimensional (2D) slab photonic crystal waveguides (PCWGs) on silicon-on-insulator (SOI) wafer were designed and fabricated. Full photonic band gap, band gap guided mode, and index guided mode were observed b... Two-dimensional (2D) slab photonic crystal waveguides (PCWGs) on silicon-on-insulator (SOI) wafer were designed and fabricated. Full photonic band gap, band gap guided mode, and index guided mode were observed by measuring the transmission spectra. Mini-stop-bands in the PCWG were simulated with different structure parameters. Coupling characteristics of PCWG were investigated theoretically considering the imperfections during the fabrication process. It was found that suppressing power reservation effect can realize both short coupling length and high coupling efficiency. 展开更多
关键词 Crystal atomic structure Energy gap Gallium alloys Guided electromagnetic wave propagation Laser optics Mechanisms Optical waveguides Photonic crystals POWDERS semiconducting silicon compounds silicon silicon wafers Two dimensional WAVEGUIDES
原文传递
Low threshold voltage light-emitting diode in silicon-based standard CMOS technology 被引量:2
6
作者 董赞 王伟 +3 位作者 黄北举 张旭 关宁 陈弘达 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第8期75-78,共4页
Low-voltage silicon (Si)-based light-emitting diode (LED) is designed based on the former research of LED in Si-based standard complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology. The low-voltage LED is de... Low-voltage silicon (Si)-based light-emitting diode (LED) is designed based on the former research of LED in Si-based standard complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology. The low-voltage LED is designed under the research of cross-finger structure LEDs and sophisticated structure enhanced LEDs for high efficiency and stable light source of monolithic chip integration. The device size of low-voltage LED is 45.85x38.4 (#m), threshold voltage is 2.2 V in common condition, and temperature is 27 ~C. The external quantum efficiency is about 10-6 at stable operating state of 5 V and 177 mA. 展开更多
关键词 CMOS integrated circuits Light emission Light sources Metallic compounds MOS devices Quantum theory semiconducting silicon semiconducting silicon compounds semiconductor diodes Threshold voltage
原文传递
Si_3N_4绝缘栅中两种表面基对pH-ISFET器件敏感特性的影响 被引量:3
7
作者 牛蒙年 丁辛芳 童勤义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第7期522-528,共7页
在表面基模型理论基础上,本文研究了含两种表面基的Si3N4绝缘体材料及其两种表面基(硅醇基和胺基)的比例系数对pH-ISFET器件敏感特性的影响.在硅醇基/胺基=7/3附近时,得到电解液一绝缘体(E-I)界面势对pH... 在表面基模型理论基础上,本文研究了含两种表面基的Si3N4绝缘体材料及其两种表面基(硅醇基和胺基)的比例系数对pH-ISFET器件敏感特性的影响.在硅醇基/胺基=7/3附近时,得到电解液一绝缘体(E-I)界面势对pH值的灵敏度最大,且线性响应范围宽;两种表面基的总数密度及其比值的稳定程度直接影响pH-ISFET器件的敏感响应和稳定特性.理论结果与实验观测结果相符,为进一步探索提高pH-ISFET传感器敏感特性的方法提供理论依据. 展开更多
关键词 氮化硅 绝缘栅 表面基模型 pH-ISFET器件
下载PDF
UVCVD/UHVCVD技术制备SiGe HBT材料 被引量:4
8
作者 戴显英 胡辉勇 +1 位作者 张鹤鸣 孙建诚 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期306-308,325,共4页
介绍了一种新的制备SiGe/Si材料的化学气相沉积技术.该技术组合了紫外光化学气相沉积和超高真空化学气相沉积两种技术的优点,具有超高真空背景和低温淀积的特点.应用该技术在10-7Pa超高真空背景、450℃淀积温度及低于10Pa反应压力的条件... 介绍了一种新的制备SiGe/Si材料的化学气相沉积技术.该技术组合了紫外光化学气相沉积和超高真空化学气相沉积两种技术的优点,具有超高真空背景和低温淀积的特点.应用该技术在10-7Pa超高真空背景、450℃淀积温度及低于10Pa反应压力的条件下,外延生长了器件级SiGeHBT材料.SIMS分析表明,材料层界面清晰,Ge组分和掺杂分布平坦.此外,还研制出了SiGeHBT器件. 展开更多
关键词 紫外光化学气相沉积 超高真空化学气相沉积 SIGE异质结双极晶体管 HBT UVCVD UHVCVD
下载PDF
Sb掺杂SnO_2/SiO_2纳米光学气敏薄膜的制备及其性质 被引量:2
9
作者 顾铮先 梁培辉 张伟清 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期423-427,共5页
采用溶胶 凝胶(sol gel)工艺制备了Sb掺杂SnO2/SiO2复合膜。通过X射线衍射(XRD)、傅立叶变换红外谱(FT IR)及原子力显微镜(AFM)表征了薄膜样品的物相结构与表面形貌,利用紫外 可见光谱研究了复合薄膜光学特性,利用p 偏振光双面反射法对... 采用溶胶 凝胶(sol gel)工艺制备了Sb掺杂SnO2/SiO2复合膜。通过X射线衍射(XRD)、傅立叶变换红外谱(FT IR)及原子力显微镜(AFM)表征了薄膜样品的物相结构与表面形貌,利用紫外 可见光谱研究了复合薄膜光学特性,利用p 偏振光双面反射法对薄膜的气敏特性进行了测试。实验结果表明,薄膜中的晶粒具有纳米尺寸(~35nm)的大小,比表面积大,孔隙率高;薄膜的透光率高,可见光波段近95%;纳米Sb:SnO2/SiO2复合膜的气敏灵敏度高于纯SnO2薄膜及Sb掺杂的SnO2薄膜。 展开更多
关键词 SnO2纳米薄膜 Sol-gel技术 溶胶凝胶工艺 光学气敏薄膜 Sb掺杂SnO2/SiO2复合膜 光学参数 气敏特性
原文传递
900MHz SiGe异质结双极晶体管的功率特性 被引量:4
10
作者 张进书 金晓军 +6 位作者 贾宏勇 陈培毅 钱佩信 罗台秦 杨增敏 黄杰 梁春广 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期284-286,共3页
本文对用准泡发射区基区工艺制备的SiGe异质结双极晶体管进行了微波功率性能的研究.SiGeHBT在偏置电压VCE=4V和偏置电流Ic=300mA时截止频率fT=7.5GHz.在共射结构C类工作状态下,SiGe异质结双... 本文对用准泡发射区基区工艺制备的SiGe异质结双极晶体管进行了微波功率性能的研究.SiGeHBT在偏置电压VCE=4V和偏置电流Ic=300mA时截止频率fT=7.5GHz.在共射结构C类工作状态下,SiGe异质结双极晶体管工作在900MHz时,连续波输出功率为5W,集电极转化效率为63%,功率增益为7.4dB. 展开更多
关键词 双极晶体管 功率特性 异质结
下载PDF
用显微喇曼扫描成像(mapping)法测集成电路中CoSi_2电极引起的应力 被引量:4
11
作者 李碧波 黄福敏 +2 位作者 张树霖 高玉芝 张利春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期299-303,共5页
本文用显微喇曼光谱方法,在μm尺度上对集成电路中由多晶硅衬底上生长CoSi2所引起的应力进行了测量,并对这种应力的类型和大小与含有CoSi2的电路结构间的关系做了研究.结果表明,CoSi2所引起的应力为压应力,其大小... 本文用显微喇曼光谱方法,在μm尺度上对集成电路中由多晶硅衬底上生长CoSi2所引起的应力进行了测量,并对这种应力的类型和大小与含有CoSi2的电路结构间的关系做了研究.结果表明,CoSi2所引起的应力为压应力,其大小随着面积的减小而增大,在边界处的应力与CoSi2区域中心处的应力类型相反,数值大一倍. 展开更多
关键词 二硅化钴 电极 集成电路 测量
下载PDF
用于薄介质栅的PECVD法低温形成SiO_xN_y薄膜及其电学特性 被引量:4
12
作者 陈蒲生 冯文修 +4 位作者 王川 王锋 刘小阳 田万廷 曾绍鸿 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第10期776-781,共6页
研究了用作薄介质栅的等离子体增强化学气相淀积(PECVD)方法低温形成的SiOxNy薄膜与其电学特性.探索该薄膜电学特性与微观组分,反应室气压,衬底工作温度,退火致密和金属化后退火等的相互关系.给出了获得电学特性优良的SiOxNy薄... 研究了用作薄介质栅的等离子体增强化学气相淀积(PECVD)方法低温形成的SiOxNy薄膜与其电学特性.探索该薄膜电学特性与微观组分,反应室气压,衬底工作温度,退火致密和金属化后退火等的相互关系.给出了获得电学特性优良的SiOxNy薄膜的优化PECVD工艺条件,同时对实验结果进行了理论分析与讨论. 展开更多
关键词 薄介质栅 薄膜晶体管 PECVD法 半导体薄膜技术
下载PDF
不同偏置电压下SiGe HBT Early电压的理论研究 被引量:3
13
作者 钱伟 金晓军 +3 位作者 张炯 林惠旺 陈培毅 钱佩信 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期261-266,共6页
Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGeHBT中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得... Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGeHBT中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得到了在其它参数相同的情况下,器件的Early电压VA随基区中Ge含量和偏置电压VCE的变化规律,表明Early电压VA是随VCE和Ge含量的增加而增加的.这些结果对SiGeHBT在模拟集成电路中的设计和应用提供了指导. 展开更多
关键词 锗化硅 HBT 应变层 Early电压
下载PDF
退火温度对Ge-SiO_2薄膜结构的影响 被引量:2
14
作者 汤乃云 叶春暖 +3 位作者 吴雪梅 诸葛兰剑 俞跃辉 姚伟国 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期324-325,331,共3页
用射频磁控溅射制备了Ge SiO2 薄膜。在N2 的保护下对薄膜进行了不同温度的退火处理。使用傅里叶变换红外光谱分析 (FTIR)技术 ,X射线衍射谱 (XRD) ,X射线光电子能谱(XPS)分析样品的微结构 ,研究样品在退火中发生的结构、组分的变化。... 用射频磁控溅射制备了Ge SiO2 薄膜。在N2 的保护下对薄膜进行了不同温度的退火处理。使用傅里叶变换红外光谱分析 (FTIR)技术 ,X射线衍射谱 (XRD) ,X射线光电子能谱(XPS)分析样品的微结构 ,研究样品在退火中发生的结构、组分的变化。结果表明退火温度对薄膜的结构 ,尤其是薄膜中的GeO含量和GeO晶粒的大小的影响是显著的 。 展开更多
关键词 退火温度 Ge-SiO2薄膜 结构 溅射
下载PDF
SiGe异质结双极晶体管频率特性分析 被引量:3
15
作者 张鹤鸣 戴显英 +3 位作者 吕懿 林大松 胡辉勇 王伟 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期293-297,共5页
在分析载流子输运和分布的基础上,建立了物理意义清晰的各时间常数模型.模型体现了时间常数与SiGe异质结双极晶体管结构参数及电流密度之间的关系,并且包含了基区扩展效应.同时对特征频率与上述参数之间的关系进行了模拟分析和讨论.
关键词 SIGE异质结双极晶体管 时间常数 特征频率 结构参数 电流密度 基区扩展效应
下载PDF
SOI近红外Si_(0.8)Ge_(0.2)/Si横向pin探测器的研制 被引量:1
16
作者 莫太山 张世林 +2 位作者 郭维廉 郭辉 郑云光 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1277-1280,共4页
给出了SOI近红外Si0.8Ge0.2/Si横向pin光电探测器的设计和制作过程。对制得的样管进行了典型光电参数的测试。测试结果表明,探测器的响应波长范围为0.4~1.3μm,峰值响应波长在0.93~0.97μm,峰值波长下响应度达0.38μA/μW,与Si光电探... 给出了SOI近红外Si0.8Ge0.2/Si横向pin光电探测器的设计和制作过程。对制得的样管进行了典型光电参数的测试。测试结果表明,探测器的响应波长范围为0.4~1.3μm,峰值响应波长在0.93~0.97μm,峰值波长下响应度达0.38μA/μW,与Si光电探测器相比,出现明显的响应波长范围和响应峰值波长红移,光电性能达到了预先的设计目标。 展开更多
关键词 SOI 近红外 Si0.8Ge0.2/Si横向pin探测器 响应波长 响应峰值 光电性能
原文传递
Thermal stress cleaving of silicon wafer by pulsed Nd:YAG laser
17
作者 刘剑 陆建 +2 位作者 倪晓武 戴罡 张梁 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第10期1000-1003,共4页
The applied laser energy absorbed in a local area in laser thermal stress cleaving of brittle materials using a controlled fracture technique produces tensile thermal stress that causes the material to separate along ... The applied laser energy absorbed in a local area in laser thermal stress cleaving of brittle materials using a controlled fracture technique produces tensile thermal stress that causes the material to separate along the moving direction of the laser beam. The material separation is similar to crack extension, but the fracture growth is controllable. Using heat transfer theory, we establish a three-dimensional (3D) mathematical thermoelastic calculational model containing a pre-existing crack for a two-point pulsed Nd:YAG laser cleaving silicon wafer. The temperature field and thermal stress field in the silicon wafer are obtained by using the finite element method (FEM). The distribution of the tensile stress and changes in stress intensity factor around the crack tip are analyzed during the pulse duration. Meanwhile, the mechanism of crack propagation is investigated by analyzing the development of the thermal stress field during the cleaving process. 展开更多
关键词 Brittle fracture Crack tips Finite element method Laser theory NEODYMIUM Pulsed lasers semiconducting silicon compounds silicon wafers Thermal stress THERMOELASTICITY Three dimensional
原文传递
Optoelectronic characterization of ZnS/PS systems
18
作者 王彩凤 李清山 胡波 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期432-434,共3页
ZnS thin films are deposited on porous silicon (PS) substrates with different porosities by pulsed laser deposition (PLD). The photoluminescence (PL) spectra of the samples are measured at room temperature. The ... ZnS thin films are deposited on porous silicon (PS) substrates with different porosities by pulsed laser deposition (PLD). The photoluminescence (PL) spectra of the samples are measured at room temperature. The results show that the PL intensity of PS after deposition of ZnS increases and is associated with a blue shift. With the increase of PS porosity, a green emission at about 550 nm is observed in the PL spectra of ZnS/PS systems, which may be ascribed to the defect-center luminescence of ZnS films. Junction current- voltage (I-V) characteristics were studied. The rectifying behavior of I-V characteristics indicates the formation of ZnS/PS heterojunctions, and the forward current is seen to increase when the PS porosity is increased. 展开更多
关键词 DISTILLATION Emission spectroscopy POROSITY Porous silicon Pulsed laser deposition semiconducting silicon compounds Zinc sulfide
原文传递
Mg-Si基热电材料量子化学计算 被引量:1
19
作者 姜洪义 刘琼珍 +1 位作者 张联盟 闵新民 《计算物理》 EI CSCD 北大核心 2004年第5期439-442,共4页
 对于掺杂合适的元素Sb,Te,Ag,Cu使得Mg Si基热电材料的热电性能大幅度提高的实验事实,欲从理论和计算上寻求支持,试图从原子、分子的层次上对此现象作出解释,因此建立了简化的Mg2Si量子化学计算模型,采用密度泛函离散变分Xα量子化学...  对于掺杂合适的元素Sb,Te,Ag,Cu使得Mg Si基热电材料的热电性能大幅度提高的实验事实,欲从理论和计算上寻求支持,试图从原子、分子的层次上对此现象作出解释,因此建立了简化的Mg2Si量子化学计算模型,采用密度泛函离散变分Xα量子化学计算法,计算了物质内部的结构信息,如共价键级和态密度等.计算结果表明,掺杂以后,晶体的共价键级被削弱,态密度图中的禁带宽度明显变窄,这与实验测试的结果是一致的. 展开更多
关键词 量子化学计算 态密度 共价键 密度泛函 变分 原子 禁带宽度 热电材料 热电性能 掺杂
下载PDF
硅中与钼有关能级的研究 被引量:2
20
作者 周洁 卢励吾 +1 位作者 韩志勇 吴汲安 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第1期8-13,共6页
利用深能级瞬态谱(DLTS)技术,并通过电子辐照、等时热退火等物理过程,鉴别了Si中与钼有关能级的本质.钼在Si中产生两个主要能级E(0.53)和H(0.36),前者为受主态,后者为施主态,这两个能级都与替位Mo原子有关.
关键词 能级 能级瞬态谱 电子辐照
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部