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题名无掩模光刻技术研究
被引量：3
- 1
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作者
蒋文波
胡松
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机构
中国科学院光电技术研究所
中国科学院研究生院
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出处
《微细加工技术》
2008年第4期1-3,64,共4页
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基金
国家自然科基金资助项目(60706005
60776029)
863计划资助项目(2006AA03Z355)
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文摘
介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
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关键词
无掩模光刻
扫描电子束光刻
波带片阵列光刻
掩模版
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Keywords
maskless lithography
scanning electron-beam lithography
zone-plate-array lithography
mask
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名多光束无掩模光刻系统
被引量：3
- 2
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作者
沈易
吴翌旭
邢燕冰
周成刚
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机构
上海科学院集成电路制造装备研究中心
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期537-539,共3页
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文摘
介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并给出了多光束光刻的实验结果。实验表明:利用普通蓝紫光源和聚焦元件阵列可实现分辨率为400 nm的多光束并行光刻。
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关键词
无掩模光刻
多光束光刻
波带片阵列光刻
DMD
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Keywords
maskless lithography
multi-beam lithography
zone-plate-array lithography
digital micro-mirror device
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分类号
TN202
[电子电信—物理电子学]
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题名基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展
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作者
马延琴
杜惊雷
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机构
西南科技大学理学院
四川大学物理科学与技术学院
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出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2012年第7期40-46,共7页
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基金
国家自然科学基金(10676029
10776028)资助课题
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文摘
随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。
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关键词
光学制造
无掩模光学光刻
空间光调制器
波带片阵列光刻
表面等离子体激元
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Keywords
optical fabrication
optical maskless lithography
spatial light modulator
zone-plate-array lithography
surface-plasmon polartion
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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