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一维Co单晶纳米线的x射线研究 被引量:2
1
作者 孟凡斌 胡海宁 +3 位作者 李养贤 陈贵锋 陈京兰 吴光恒 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期384-388,共5页
对电化学沉积法在多孔氧化铝中制备的一维单晶Co纳米线阵列的结构和形态利用各种x射线衍射测量方法进行了细致的表征 .确定了阵列中的纳米线在线长方向均为一致的晶体学取向 ,并以很高的平行度排列 .并且发现生长条件可能在一维纳米线... 对电化学沉积法在多孔氧化铝中制备的一维单晶Co纳米线阵列的结构和形态利用各种x射线衍射测量方法进行了细致的表征 .确定了阵列中的纳米线在线长方向均为一致的晶体学取向 ,并以很高的平行度排列 .并且发现生长条件可能在一维纳米线中引起不同程度的螺旋晶格曲扭 .根据实验观察结果提出了一个具有手性的螺旋曲扭模型 .利用超导量子干涉磁强计测量了样品在 30 0K下的磁特性 ,分析发现螺旋扭曲可以在相当大的程度上改变纳米线阵列的各向异性 . 展开更多
关键词 一维 单晶 量子干涉 手性 磁弹性 晶体学 晶格 改变 实验观察 发现
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等离子体增强分子束外延生长ZnO薄膜及光电特性的研究 被引量:4
2
作者 梁红伟 吕有明 +6 位作者 申德振 颜建锋 刘益春 李炳辉 赵东旭 张吉英 范希武 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期579-584,共6页
利用等离子体辅助分子束外延设备(P-MBE)在蓝宝石(Al_2O_3)衬底上外延生长ZnO薄膜,研究了不同生长温度对结晶质量的影响。随着生长温度的升高,X射线摇摆曲线(XRC)半高宽从0.88°变窄至0.29°,从原子力显微镜(AFM)图像中发现薄... 利用等离子体辅助分子束外延设备(P-MBE)在蓝宝石(Al_2O_3)衬底上外延生长ZnO薄膜,研究了不同生长温度对结晶质量的影响。随着生长温度的升高,X射线摇摆曲线(XRC)半高宽从0.88°变窄至0.29°,从原子力显微镜(AFM)图像中发现薄膜中晶粒从20nm左右增大至200nm,室温光致发光(PL)谱中显示了一个近带边的紫外光发射(UVE)和一个与深中心有关的可见光发射。随着生长温度升高,可见光发射逐渐变弱,薄膜的室温载流子浓度由1.06×10^(19)/cm^3减少到7.66×10^(16)/cm^3,表明在高温下生长的薄膜中锌氧化学计量比趋于平衡,高质量的ZnO薄膜被获得。通过测量变温光谱,证实所有样品在室温下PL谱中紫外发光都来自于自由激子发射;随着生长温度的变化UVE峰位蓝移与晶粒尺寸不同引起的量子限域效应相关。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 半导体材料 等离子体增强分子束外延 光电特性 光致发光 生长温度 量子限域效应
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ZnGeP_2多晶料合成与晶体生长 被引量:6
3
作者 林彦霆 顾庆天 +5 位作者 刘宏 张怀金 葛文伟 房昌水 胡小波 王继扬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期864-866,共3页
以99.999%的锌、锗和红磷为原料通过直接化合的方法合成ZnGeP2多晶料,采用布里奇曼法通过自发成核方式生长出尺寸为Φ7mm×25mm的ZnGeP2晶体。X射线粉末衍射实验表明合成的多晶料的成分是ZnGeP2,所获ZnCeP2晶体的结构属于四方... 以99.999%的锌、锗和红磷为原料通过直接化合的方法合成ZnGeP2多晶料,采用布里奇曼法通过自发成核方式生长出尺寸为Φ7mm×25mm的ZnGeP2晶体。X射线粉末衍射实验表明合成的多晶料的成分是ZnGeP2,所获ZnCeP2晶体的结构属于四方晶系,空间群142d。X射线摇摆曲线表明所得晶体完整性较好。用莫氏硬度计测得ZnGeP2晶体的莫氏硬度为6.5。测量了晶体的热重和差热曲线,证明在室温~800℃的范围内晶体热学性质稳定。 展开更多
关键词 ZNGEP2 x射线粉末衍射 x射线摇摆曲线 热学性质
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氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的研究 被引量:5
4
作者 李庚伟 吴正龙 +2 位作者 邵素珍 张建辉 刘志凯 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期109-111,共3页
利用 X 射线衍射(XRD),X 射线摇摆曲线(XRC)和 X 射线光电子能谱(XPS)分析方法对氧离子束辅助激光淀积生长的 ZnO/Si 异质结薄膜进行了分析。结果表明:用该法可生长出高度 c 轴单一取向 ZnO 薄膜,XRC 的半高宽度(FWHM)仅为2.918°... 利用 X 射线衍射(XRD),X 射线摇摆曲线(XRC)和 X 射线光电子能谱(XPS)分析方法对氧离子束辅助激光淀积生长的 ZnO/Si 异质结薄膜进行了分析。结果表明:用该法可生长出高度 c 轴单一取向 ZnO 薄膜,XRC 的半高宽度(FWHM)仅为2.918°。表明此生长方法经优化,可生长出单晶质量很好的 ZnO/Si 薄膜。 展开更多
关键词 ZnO/Si 氧离子束辅助激光淀积生长 异质结薄膜 x射线摇摆曲线 x射线光电子能谱
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8英寸导电型4H-SiC单晶衬底制备与表征 被引量:4
5
作者 娄艳芳 巩拓谌 +4 位作者 张文 郭钰 彭同华 杨建 刘春俊 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第12期2131-2136,共6页
使用物理气相传输法(PVT)通过扩径技术制备出直径为209 mm的4H-SiC单晶,并通过多线切割、研磨和抛光等一系列加工工艺制备出标准8英寸SiC单晶衬底。使用拉曼光谱仪、高分辨X射线衍射仪、光学显微镜、电阻仪、偏光应力仪、面型检测仪、... 使用物理气相传输法(PVT)通过扩径技术制备出直径为209 mm的4H-SiC单晶,并通过多线切割、研磨和抛光等一系列加工工艺制备出标准8英寸SiC单晶衬底。使用拉曼光谱仪、高分辨X射线衍射仪、光学显微镜、电阻仪、偏光应力仪、面型检测仪、位错检测仪等设备,对8英寸衬底的晶型、结晶质量、微管、电阻率、应力、面型、位错等进行了详细表征。拉曼光谱表明8英寸SiC衬底100%比例面积为单一4H晶型;衬底(004)面的5点X射线摇摆曲线半峰全宽分布在10.44″~11.52″;平均微管密度为0.04 cm^(-2);平均电阻率为0.020 3Ω·cm。使用偏光应力仪对8英寸SiC衬底内部应力进行检测表明整片应力分布均匀,且未发现应力集中的区域;翘曲度(Warp)为17.318μm,弯曲度(Bow)为-3.773μm。全自动位错密度检测仪对高温熔融KOH刻蚀后的8英寸衬底进行全片扫描,平均总位错密度为3 293 cm^(-2),其中螺型位错(TSD)密度为81 cm^(-2),刃型位错(TED)密度为3 074 cm^(-2),基平面位错(BPD)密度为138 cm^(-2)。结果表明8英寸导电型4H-SiC衬底质量优良,同比行业标准达到行业先进水平。 展开更多
关键词 8英寸SiC单晶衬底 物理气相传输法 x射线摇摆曲线 微管密度 翘曲度和弯曲度 位错密度
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Sputtering of ZnO buffer layer on Si for GaN blue light emitting materials
6
作者 贺洪波 范正修 +1 位作者 姚振钰 汤兆胜 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2000年第1期55-59,共5页
The preparation of high quality ZnO/Si substrates for the growth of GaN blue light emitting materials is considered. ZnO thin films have been deposited on Si (100) and Si (111) substrates by conventional magnetron spu... The preparation of high quality ZnO/Si substrates for the growth of GaN blue light emitting materials is considered. ZnO thin films have been deposited on Si (100) and Si (111) substrates by conventional magnetron sputtering. Morphology, crystallinity and c-axis preferred orientation of ZnO thin films have been investigated by transmitting electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD) and X-ray rocking curve (XRC). It is proved that the ZnO thin films have perfect structure. The full-width-at-half-maximum (FWHM) of the ZnO(002) XRC of these films is about 1°, while the minimum is 0.353°. This result is better than the minimum FWHM (about 2°) reported by other research groups. Moreover, comparison and discussion are given on film structure of ZnO/Si(100) and ZnO/Si(111). 展开更多
关键词 light EMITTING material ZNO MAGNETRON SPUTTERING structure x-ray rocking curve.
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铁电相Tb_2(MoO-4)_3晶体的生长和缺陷研究 被引量:1
7
作者 徐民 于永贵 +2 位作者 张怀金 于晓强 王继扬 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1415-1419,共5页
钼酸铽[Tb2(MoO4)3]是一种具有铁电、铁弹和顺磁等多种性质的功能晶体。采用提拉法,沿[001]方向生长了Φ25mm×20mm的铁电相Tb2(MoO4)3晶体。采用化学腐蚀法、扫描电子显微镜(SEM)观察了晶体中的缺陷,结果显示,晶体中的主要缺陷是... 钼酸铽[Tb2(MoO4)3]是一种具有铁电、铁弹和顺磁等多种性质的功能晶体。采用提拉法,沿[001]方向生长了Φ25mm×20mm的铁电相Tb2(MoO4)3晶体。采用化学腐蚀法、扫描电子显微镜(SEM)观察了晶体中的缺陷,结果显示,晶体中的主要缺陷是位错、镶嵌物。高分辨X射线衍射(摇摆曲线)实验表明所生长的Tb2(MoO4)3晶体具有很好的晶格完整性。 展开更多
关键词 Tb2(M0O4)3 晶体 位错 镶嵌物 摇摆曲线
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CdGeAs_2晶体的表面XPS表征及表面损伤层测定(英文) 被引量:1
8
作者 李佳伟 朱世富 +2 位作者 赵北君 何知宇 陈宝军 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期844-847,共4页
采用改进的布里奇曼法生长出尺寸为Φ15 mm×45 mm,外观完整无开裂的Cd Ge As2单晶体。为了提高器件的使用性能,需要对晶体进行表面处理,主要对Cd Ge As2晶片表面的抛光技术进行了研究。通过对解理面切割分析得到(101)晶面,机械抛... 采用改进的布里奇曼法生长出尺寸为Φ15 mm×45 mm,外观完整无开裂的Cd Ge As2单晶体。为了提高器件的使用性能,需要对晶体进行表面处理,主要对Cd Ge As2晶片表面的抛光技术进行了研究。通过对解理面切割分析得到(101)晶面,机械抛光后进行了XPS分析。对该晶面采用溴甲醇溶液进行腐蚀抛光,采用XRD回摆及光学显微镜对不同抛光时间的试样进行观测。结果表明,CGA晶体的(101)晶面在常温下采用溴甲醇溶液腐蚀50 s后,晶片表面光滑无划痕,并且具有半峰宽较小的回摆曲线,同时计算得到Cd Ge As2晶体的表面损伤层厚度。 展开更多
关键词 非线性材料 CdGeAs2 xPS xRD回摆曲线 表面损伤层
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水热法合成Ga/Sc共掺氧化锌晶体 被引量:1
9
作者 柳成荫 卢福华 +4 位作者 王金亮 任孟德 周海涛 雷威 张梦雪 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期321-325,共5页
采用水热法,以氧化锌陶瓷为原料,4 mol/L KOH+1 mol/L LiOH作矿化剂,温度380℃,内填充度为75%制备了Ga/Sc共掺氧化锌晶体。结果显示:生长的Ga/Sc共掺氧化锌晶体呈六棱柱状,整个晶体表面基本光滑平整。负极面-c(0001)大面积显露,双掺后... 采用水热法,以氧化锌陶瓷为原料,4 mol/L KOH+1 mol/L LiOH作矿化剂,温度380℃,内填充度为75%制备了Ga/Sc共掺氧化锌晶体。结果显示:生长的Ga/Sc共掺氧化锌晶体呈六棱柱状,整个晶体表面基本光滑平整。负极面-c(0001)大面积显露,双掺后的氧化锌晶体形态存在明显的改变。通过超声波扫描显微镜(C-SAM)观察,晶体存在一定数量的生长缺陷。X射线双晶摇摆曲线得出(0002)面半高宽FWHM为28 arcsec,(0002)面半高宽FWHM为46 aresec,表明晶体具有较高的结晶质量。另外,紫外-可见-红外光谱仪测试发现Ga/Sc共掺氧化锌晶体透过率介于氧化锌晶体和掺镓氧化锌晶体之间。 展开更多
关键词 氧化锌晶体 超声波扫描显微镜 x射线双晶摇摆曲线 紫外-可见-红外光谱
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籽晶辅助化学气相传输法生长ZnO单晶的特征研究 被引量:1
10
作者 张华伟 施尔畏 +2 位作者 陈之战 严成锋 陈博源 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期907-910,共4页
采用籽晶辅助化学气相传输法生长得到φ32mm ZnO单晶体.X射线衍射表明晶体沿c轴方向生长。结晶质量较好,中心部位摇摆曲线半高宽47arcsec,边缘部分为78.4arcsec.利用Rainan谱、光致发光谱等研究了ZnO晶体退火前后的缺陷和光学性质,表明... 采用籽晶辅助化学气相传输法生长得到φ32mm ZnO单晶体.X射线衍射表明晶体沿c轴方向生长。结晶质量较好,中心部位摇摆曲线半高宽47arcsec,边缘部分为78.4arcsec.利用Rainan谱、光致发光谱等研究了ZnO晶体退火前后的缺陷和光学性质,表明经氧气氛退火后晶体缺陷明显减少,晶体质量进一步提高. 展开更多
关键词 氧化锌 化学气相传输法 摇摆曲线 拉曼光谱 光致发光谱
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大直径Hg_3In_2Te_6晶体生长与性能表征
11
作者 王新鹏 孙晓燕 +3 位作者 介万奇 罗林 王涛 傅莉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期578-580,586,共4页
采用垂直布里奇曼法,成功生长出大直径Hg3In2Te6(Φ=30mm)晶体。通过傅立叶红外透射光谱测试了晶锭不同部位的红外透过率,并利用X射线双晶摇摆曲线表征了晶体的结晶质量。结果表明,定向切割晶片为(111)面单晶,衍射峰位于θ=12.1665°... 采用垂直布里奇曼法,成功生长出大直径Hg3In2Te6(Φ=30mm)晶体。通过傅立叶红外透射光谱测试了晶锭不同部位的红外透过率,并利用X射线双晶摇摆曲线表征了晶体的结晶质量。结果表明,定向切割晶片为(111)面单晶,衍射峰位于θ=12.1665°处,半峰宽为0.0760°;中部单晶片红外透过率平均值为50%,接近Hg3In2Te6晶体的红外透过率最大值57%。位错和成分非均匀性是造成晶锭不同部位红外透过率差异的主要因素。 展开更多
关键词 Hg3In2Te6 大直径晶体生长 垂直布里奇曼法 摇摆曲线 红外透射光谱
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Co掺杂对ZnO纳米棒阵列的结构和性质的影响 被引量:1
12
作者 刘艳美 孙侠 +4 位作者 李敏 吕庆荣 宋学平 吴明在 方庆清 《安徽大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2010年第6期43-48,共6页
通过70℃水热反应制备高密度排列的Zn1-xCoxO(x=0.05,0.10和0.15,统记为ZnCoO)纳米棒阵列,用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线光电子能谱(XPS)和光致发光光谱(PL)进行表征.结果表明:Co2+替代Zn2+掺入了ZnO的晶格中,... 通过70℃水热反应制备高密度排列的Zn1-xCoxO(x=0.05,0.10和0.15,统记为ZnCoO)纳米棒阵列,用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线光电子能谱(XPS)和光致发光光谱(PL)进行表征.结果表明:Co2+替代Zn2+掺入了ZnO的晶格中,纳米棒沿[0001]方向垂直生长在含ZnO种子层的玻璃上,纳米棒平均直径约为150nm,长4.5μm.ZnO种子层和Co掺杂在ZnCoO纳米棒成核和择优生长中起着重要作用.PL光谱是由宽紫外光带(UV)和可见光(VL)构成.ZnCoO纳米棒阵列UV峰位与纯ZnO的相比发生了蓝移.随着Co含量的增加,UV峰明显宽化并发生红移.文中对紫外峰的宽化和红移起因以及ZnCoO阵列的形成机制进行了讨论. 展开更多
关键词 ZNO纳米棒阵列 光致发光 CO掺杂 x射线衍射 摇摆曲线
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Effect of growth-interrupted method on quality of AlGaAs/GaAs multiple quantum wells prepared by MBE
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作者 国凤云 王怀芒 赵连城 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期183-186,共4页
AlGaAs/GaAs multi-quantum well (MQW) was prepared by molecular beam epitaxy(MBE) with growth-interrupted heterointerface (GIH) method and continuous growth (CG) method, respectively. The microstructures of the MQWs we... AlGaAs/GaAs multi-quantum well (MQW) was prepared by molecular beam epitaxy(MBE) with growth-interrupted heterointerface (GIH) method and continuous growth (CG) method, respectively. The microstructures of the MQWs were characterized by double-crystal X-ray rocking curve (DCRC) and atomic force microscopy (AFM), and the photoluminescence (PL) properties of the MQWs were also studied. The MQWs grown with GIH method show that higher order satellite peaks of Pendell?sung fringes are observed in DCRC, the roughness of surface is much reduced in AFM, and the full width at half maximum (FWHM) of exciton line is much narrower in PL. The results indicate that the GIH method reduces the monolayer growth step density at the heterointerface due to the migration of surface atoms for a few minutes growth interruption, and substantially improves the quality of AlGaAs/GaAs MQWs. 展开更多
关键词 AlGaAs/GaAs多量子阱 MBE 生长中断法 多晶x射线摇摆曲线 原子力显微镜
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Floating-zone growth and property characterizations of high-quality La_(2-x)Sr_xCuO_4 superconductor crystals
14
作者 慎晓丽 李正才 +4 位作者 申彩霞 陆伟 董晓莉 周放 赵忠贤 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第7期2893-2897,共5页
We have grown underdoped (х = 0.11, 0.12) and optimally doped (x = 0.16)La2-хSrхCuO4 single crystals by the traveling-solvent floating-zone technique.In order to prepare good quality cuprate crystals,we have ma... We have grown underdoped (х = 0.11, 0.12) and optimally doped (x = 0.16)La2-хSrхCuO4 single crystals by the traveling-solvent floating-zone technique.In order to prepare good quality cuprate crystals,we have made much effort to optimize the preparation procedures.For example,we haveadopted the sol-gel route to prepare a highly fine and homogeneous La2-хSrхCuO4 precursor powder for fabricating a very dense ceramic feed rod used for the floating-zone growth,and we have also used quite a slow growth rate. The high quality of the grown crystals has been verified by double-crystal x-ray rocking curves,with the full-width-at-half-maximum being only 113-150 arcseconds, which are the best data reported so far for La2-хSrхCuO4 crystals.The superconducting critical temperatures of the grown crystals are 30, 31 and 38.5 K for х = 0.11, 0.12 and 0.16 samples, respectively,according to magnetic measurements. 展开更多
关键词 floating-zone crystal growth sol-gel chemistry x-ray rocking curves SUPERCONDUCTIVITY
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水平法低位错GaSb单晶生长 被引量:1
15
作者 吴光恒 黄锡珉 +4 位作者 富淑清 马凯 景玉梅 宣丽 张传萍 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1991年第1期1-7,共7页
本文首次报导水平法生长大直径(D≥25mm)低位错密度(<10cm^(-2))的高完整性GaSb单晶。详细地叙述了控制界面形状,消除产生孪晶的因素,回熔缩颈等有关生长工艺。讨论了在不出现组分过冷的前提下尽量降低生长界面处的温度梯度的实验结... 本文首次报导水平法生长大直径(D≥25mm)低位错密度(<10cm^(-2))的高完整性GaSb单晶。详细地叙述了控制界面形状,消除产生孪晶的因素,回熔缩颈等有关生长工艺。讨论了在不出现组分过冷的前提下尽量降低生长界面处的温度梯度的实验结果和实施途径,这有利于把产生位错的界面热应力降至最低。通过化学蚀的EPD观测和X射线衍射测试结果,分析了晶体中后部位错密度增高及其产生的原因。 展开更多
关键词 锑化镓 晶体 晶体生长 水平生长
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