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性能优异的多功能宽禁带半导体AlN薄膜 被引量:13
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作者 黄继颇 王连卫 林成鲁 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期141-142,149,共3页
作为具有优异介电性、压电性的宽禁带半导体材料,AlN是重要的电子封装材料、绝缘介质材料、声表面波材料和蓝光紫外发光材料。本文介绍了AlN材料结构特性。
关键词 氮化铝 宽禁带半导体 异质外延 薄膜
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半导体材料的华丽家族——氮化镓基材料简介 被引量:6
2
作者 孙殿照 《物理》 CAS 北大核心 2001年第7期413-419,共7页
GaN基氮化物材料已成功地用于制备蓝、绿、紫外光发光器件 ,日光盲紫外探测器以及高温、大功率微波电子器件 .由于该材料具有大的禁带宽度、高的压电和热电系数 ,它们还有很强的其他应用潜力 ,诸如做非挥发存储器以及利用压电和热电效... GaN基氮化物材料已成功地用于制备蓝、绿、紫外光发光器件 ,日光盲紫外探测器以及高温、大功率微波电子器件 .由于该材料具有大的禁带宽度、高的压电和热电系数 ,它们还有很强的其他应用潜力 ,诸如做非挥发存储器以及利用压电和热电效应的电子器件等 .在 2 0世纪 80年代末和 90年代初 ,在GaN基氮化物材料的生长工艺上的突破引发了 90年代GaN基器件 ,特别是光电子和高温、大功率微波器件方面的迅猛发展 .文章评述了GaN基氮化物的材料特性、生长技术和相关器件应用 . 展开更多
关键词 氮化镓 GAN 宽禁带半导体 材料特性 生长技术 发光器件 大功率微波电子器件
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Penta-P2X (X=C, Si) monolayers as wide-bandgap semiconductors: A first principles prediction 被引量:4
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作者 Mosayeb Naseri Shiru Lin +2 位作者 Jaafar Jalilian Jinxing Gu Zhongfang Chen 《Frontiers of physics》 SCIE CSCD 2018年第3期101-109,共9页
By means of density functional theory computations, we predicted two novel two-dimensional (2D) nanolnaterials, namely P2X (X=C, Si) monolayers with pentagonal configurations. Their structures, stabilities, intrin... By means of density functional theory computations, we predicted two novel two-dimensional (2D) nanolnaterials, namely P2X (X=C, Si) monolayers with pentagonal configurations. Their structures, stabilities, intrinsic electronic, and optical properties as well as the effect of external strain to the elec- tronic properties have been systematically examined. Our computations showed that these P2C and P2Si monolayers have rather high thermodynamic, kinetic, and thermal stabilities, and are indirect semiconductors with wide bandgaps (2.76 eV and 2.69 eV, respectively) which can be tuned by an external strain. These monolayers exhibit high absorptions in the UV region, but behave as almost transparent layers for visible light in the electromagnetic spectrum. Their high stabilities and excep- tional electronic and optical properties suggest them as promising candidates for future applications in UV-light shielding and antireflection layers in solar cells. 展开更多
关键词 2D materials density functional calculations wide bandgap semiconductors
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Applications of Wide Bandgap Semiconductor Materials in High-Power Electronic Devices
4
作者 Yucheng Zhou 《World Journal of Engineering and Technology》 2024年第4期1034-1045,共12页
Wide bandgap semiconductor materials are driving revolutionary improvements in the performance of high-power electronic devices. This study systematically evaluates the application prospects of wide bandgap semiconduc... Wide bandgap semiconductor materials are driving revolutionary improvements in the performance of high-power electronic devices. This study systematically evaluates the application prospects of wide bandgap semiconductor materials in high-power electronic devices. The research first compares the physical properties of major wide bandgap materials (such as silicon carbide SiC and gallium nitride GaN), analyzing their advantages over traditional silicon materials. Through theoretical calculations and experimental data analysis, the study assesses the performance of these materials in terms of high breakdown field, high thermal conductivity, and high electron saturation velocity. The research focuses on the application of SiC and GaN devices in power electronics, including high-voltage DC transmission, electric vehicle drive systems, and renewable energy conversion. The study also discusses the potential of wide bandgap materials in RF and microwave applications. However, the research also points out the challenges faced by wide bandgap semiconductor technology, such as material defect control, device reliability, and cost issues. To address these challenges, the study proposes solutions, including improving epitaxial growth techniques, optimizing device structure design, and developing new packaging methods. Finally, the research looks ahead to the prospects of wide bandgap semiconductors in emerging application areas such as quantum computing and terahertz communications. This study provides a comprehensive theoretical foundation and technology roadmap for the application of wide bandgap semiconductor materials in high-power electronic devices, contributing to the development of next-generation high-efficiency energy conversion and management systems. 展开更多
关键词 wide bandgap semiconductors High-Power Electronics Silicon Carbide Gallium Nitride Power Electronics
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β-Ga_(2)O_(3)的p型掺杂研究进展 被引量:1
5
作者 何俊洁 矫淑杰 +3 位作者 聂伊尹 高世勇 王东博 王金忠 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期557-567,共11页
β-Ga_(2)O_(3)具有超宽禁带宽度、高击穿场强、较高的巴利加优值等优点使其成为一种新兴半导体材料,在高功率电子器件、气体传感器、日盲紫外探测器等方面有着极大的应用潜力,但p型掺杂难的问题成为了β-Ga_(2)O_(3)发展的巨大障碍。... β-Ga_(2)O_(3)具有超宽禁带宽度、高击穿场强、较高的巴利加优值等优点使其成为一种新兴半导体材料,在高功率电子器件、气体传感器、日盲紫外探测器等方面有着极大的应用潜力,但p型掺杂难的问题成为了β-Ga_(2)O_(3)发展的巨大障碍。本文首先简要概述了β-Ga_(2)O_(3)的优点,并介绍了其晶体结构和基本性质。其次,说明了β-Ga_(2)O_(3)的本征缺陷,尤其是氧空位对导电性能的影响。然后,详细讨论了β-Ga_(2)O_(3) p型掺杂的研究现状,包括p型掺杂困难的原因和N掺杂、Mg掺杂、Zn掺杂、其他受主元素掺杂、两种元素共掺杂以及其他方法。最后,总结并对β-Ga_(2)O_(3)未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) 本征缺陷 P型掺杂 宽禁带半导体 半导体
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闪锌矿结构AlN、AlP、AlAs和AlSb电子结构和光学性质的第一性原理研究 被引量:3
6
作者 郭永亮 焦照勇 +1 位作者 马淑红 张现周 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期670-676,共7页
本文采用基于密度泛函理论下的第一性原理平面波赝势从头算量子力学方法,对闪锌矿结构AlN、AlP、AlAs和AlSb的电子结构和光学性质进行了研究.分析比较了这些化合物的能带结构、态密度、介电函数及折射率等性质,总结Al与不同Ⅴ族元素形... 本文采用基于密度泛函理论下的第一性原理平面波赝势从头算量子力学方法,对闪锌矿结构AlN、AlP、AlAs和AlSb的电子结构和光学性质进行了研究.分析比较了这些化合物的能带结构、态密度、介电函数及折射率等性质,总结Al与不同Ⅴ族元素形成化合物时的性质变化规律.结果表明,四种材料有着相似的能带结构,都是间接带隙宽禁带半导体,但是在导带底AlN的能态结构与其它三种材料明显不同.随着从AlN到AlSb的变化,光学性质曲线向低能端移动(红移趋势). 展开更多
关键词 宽禁带半导体 电子结构 光学性质 第一性原理计算
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BN_xP_(1-x)光电薄膜的性能及在紫外探测中的应用
7
作者 姜娜 何彬 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2004年第7期8-10,共3页
通过化学气相沉积法在单晶GaAs衬底上成功生长了BNxP1-x薄膜材料。利用扫描电镜观察到该薄膜表面十分光滑,其生长层与衬底之间具有良好的粘合性,不容易脱落。利用紫外-可见光分光光度计(UV)研究了薄膜的紫外吸收特性。并测量出在254nm和... 通过化学气相沉积法在单晶GaAs衬底上成功生长了BNxP1-x薄膜材料。利用扫描电镜观察到该薄膜表面十分光滑,其生长层与衬底之间具有良好的粘合性,不容易脱落。利用紫外-可见光分光光度计(UV)研究了薄膜的紫外吸收特性。并测量出在254nm和365nm波段其量子效率分别为33%和40%,当波长大于400nm时,其量子效率陡然下降。经研究证明:BNxP1-x作为一种宽带隙半导体材料在日盲型紫外探测领域中具有极大的潜能。 展开更多
关键词 日盲型紫外探测 宽带隙半导体 BNxP1-x薄膜 紫外吸收
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NiO/Ga_(2)O_(3) p+-n异质结功率二极管中陷阱介导双极型电荷输运研究 被引量:1
8
作者 汪正鹏 巩贺贺 +7 位作者 郁鑫鑫 纪晓丽 任芳芳 杨燚 顾书林 郑有炓 张荣 叶建东 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期1157-1164,共8页
构筑NiO/Ga_(2)O_(3)p+-n异质结是克服Ga_(2)O_(3)p型掺杂瓶颈从而实现双极型功率电子器件的有效途径,然而限制器件性能的缺陷行为与双极型电荷输运等物理机制尚不明晰.本论文研究了NiO/Ga_(2)O_(3)p+-n异质结中陷阱介导的载流子输运、... 构筑NiO/Ga_(2)O_(3)p+-n异质结是克服Ga_(2)O_(3)p型掺杂瓶颈从而实现双极型功率电子器件的有效途径,然而限制器件性能的缺陷行为与双极型电荷输运等物理机制尚不明晰.本论文研究了NiO/Ga_(2)O_(3)p+-n异质结中陷阱介导的载流子输运、俘获和复合动力学之间的内在关联特性.变温电流-电压特性的量化分析表明,在正偏亚阈值区,陷阱辅助隧穿占据主导地位,符合多数载流子陷阱介导的Shockley-Read-Hall复合模型,其陷阱激活能为0.64 eV,与深能级瞬态谱测试的陷阱能级位置(EC-0.67 eV)非常吻合;当正向偏压大于器件开启电压时,器件输运特性由少数载流子扩散所主导,器件理想因子接近于1.在反向偏置的高场作用下,器件漏电机制则由β-Ga_(2)O_(3)体材料中的陷阱引起的PooleFrenkel(PF)发射所导致.PF发射的势垒高度为0.75 eV,与等温变频深能级瞬态谱测得的陷阱能级位置(EC-0.75 eV)相一致.这一工作有助于建立NiO/Ga_(2)O_(3)p+-n异质结中双极型电荷输运和深能级缺陷行为间的内在关联,对理解和发展Ga_(2)O_(3)双极型功率整流器件具有重要的参考价值. 展开更多
关键词 深能级瞬态谱 双极型 功率电子器件 电荷输运 功率二极管 载流子输运 开启电压 亚阈值区
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镓酸锌薄膜材料的制备及研究进展
9
作者 徐梦凡 李阳 +3 位作者 谢佳慧 穆文祥 贾志泰 陶绪堂 《微纳电子与智能制造》 2023年第3期1-13,共13页
镓酸锌(ZnGa_(2)O_(4))作为尖晶石双金属氧化物,禁带宽度可达4.9 eV,具有优异的荧光性质、良好的化学稳定性和热稳定性,具有广泛的应用前景。ZnGa_(2)O_(4)可应用于光电领域,制备深紫外光探测器、NO传感器、金属氧化物半导体场效应晶体... 镓酸锌(ZnGa_(2)O_(4))作为尖晶石双金属氧化物,禁带宽度可达4.9 eV,具有优异的荧光性质、良好的化学稳定性和热稳定性,具有广泛的应用前景。ZnGa_(2)O_(4)可应用于光电领域,制备深紫外光探测器、NO传感器、金属氧化物半导体场效应晶体管,还可作荧光粉发光。为全面了解材料性质,本文详细介绍了ZnGa_(2)O_(4)的晶体结构、禁带宽度、光学等性能;相比块状、粉末,ZnGa_(2)O_(4)薄膜性能更加突出,因而本文重点介绍ZnGa_(2)O_(4)薄膜的制备及应用:总结了目前几种常见的外延ZnGa_(2)O_(4)薄膜的生长方法,讨论发展趋势、分析优劣的同时对比不同外延方法并探讨温度、氧分压、锌镓比等参数对制备高质量ZnGa_(2)O_(4)薄膜的影响;汇总讨论了目前ZnGa_(2)O_(4)薄膜制备的主流器件,对其未来前景进行展望,指出问题以期为后续的技术发展提供参考。 展开更多
关键词 ZnGa_(2)O_(4) 薄膜外延 超宽禁带半导体 氧化物半导体
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2014年诺贝尔物理学奖解读 被引量:1
10
作者 沈波 于彤军 葛惟昆 《科技导报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期13-16,共4页
本文从半导体科学技术研究与诺贝尔物理学奖的渊源出发,详细解读了2014年诺贝尔物理学奖成果"高效Ga N基蓝光发光二极管"的研究背景、核心创新内容、科学意义和应用价值,分析了氮化物宽禁带半导体的发展趋势。文章从3位诺贝... 本文从半导体科学技术研究与诺贝尔物理学奖的渊源出发,详细解读了2014年诺贝尔物理学奖成果"高效Ga N基蓝光发光二极管"的研究背景、核心创新内容、科学意义和应用价值,分析了氮化物宽禁带半导体的发展趋势。文章从3位诺贝尔物理学奖获得者的研究历程、诺贝尔评奖委员会的评奖标准等视角,探讨了2014年的诺贝尔物理学奖对我国物理学科建设、如何看待应用物理研究与基础物理研究的关系以及对成果评价标准的启示和借鉴价值等问题。 展开更多
关键词 氮化物宽禁带半导体 蓝光发光二极管 发展趋势 启示
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N面GaN材料及器件的研究进展 被引量:1
11
作者 姚艳丽 张进成 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期581-585,592,共6页
N面GaN材料及器件是宽禁带半导体技术中的重要研究内容。对N面GaN材料及器件的概念、优势、研究现状以及存在的问题进行了系统的分析。在此基础上,论述了N面GaN材料及器件未来的发展趋势。
关键词 N面GaN 宽禁带半导体 微波功率器件 光电器件 探测器
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三代半导体功率器件的特点与应用分析 被引量:31
12
作者 郑新 《现代雷达》 CSCD 北大核心 2008年第7期10-17,共8页
以S i双极型功率晶体管为代表的第一代半导体功率器件和以GaAs场效应晶体管为代表的第二代半导体功率器件为雷达发射机的大规模固态化和可靠性提高做出了贡献。近年来以S iC场效应功率晶体管和GaN高电子迁移率功率晶体管为代表的第三代... 以S i双极型功率晶体管为代表的第一代半导体功率器件和以GaAs场效应晶体管为代表的第二代半导体功率器件为雷达发射机的大规模固态化和可靠性提高做出了贡献。近年来以S iC场效应功率晶体管和GaN高电子迁移率功率晶体管为代表的第三代半导体--宽禁带半导体功率器件具有击穿电压高、功率密度高、输出功率高、工作效率高、工作频率高、瞬时带宽宽、适合在高温环境下工作和抗辐射能力强等优点。人们寄希望于宽禁带半导体功率器件来解决第一代、第二代功率器件的输出功率低、效率低和工作频率有局限性以至于无法满足现代雷达、电子对抗和通信等电子装备需求等方面的问题。文中简要介绍了半导体功率器件的发展背景、发展过程、分类、特点、应用、主要性能参数和几种常用的半导体功率器件;重点叙述了宽禁带半导体功率器件的特点、优势、研究进展和工程应用;对宽禁带半导体功率器件在新一代雷达中的应用前景和要求进行了探讨。 展开更多
关键词 宽禁带半导体 功率器件 雷达发射机
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SiC单晶生长 被引量:10
13
作者 刘喆 徐现刚 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期274-278,共5页
本文综述了国际上SiC单晶生长的发展历史及现状。从其结构特点生长方法的选择 。
关键词 SIC单晶 碳化硅 宽禁带半导体 晶体生长 气相生长 晶体缺陷
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碳化硅材料及器件的制造装备发展现状 被引量:9
14
作者 高德平 付丙磊 +3 位作者 贾净 颜秀文 刘玄博 周哲 《电子工艺技术》 2017年第4期190-192,211,共4页
当前碳化硅产业的快速发展对装备国产化提出了更高的要求,迫切需要通过借鉴国外先进技术,进行产学研结合的协同创新,全面提升研发、制造能力,满足市场要求,推动我国宽禁带半导体产业的自主可控发展。对当前碳化硅材料及器件制造装备的... 当前碳化硅产业的快速发展对装备国产化提出了更高的要求,迫切需要通过借鉴国外先进技术,进行产学研结合的协同创新,全面提升研发、制造能力,满足市场要求,推动我国宽禁带半导体产业的自主可控发展。对当前碳化硅材料及器件制造装备的国内外现状、主要技术难点进行了综述,并对其发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 碳化硅 制造装备 宽禁带半导体
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化学气相沉积法碳化硅外延设备技术进展 被引量:8
15
作者 韩跃斌 蒲勇 施建新 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第7期1300-1308,共9页
碳化硅(SiC)是制作高温、高频、大功率电子器件的理想电子材料,近20年来随着外延设备和工艺技术水平不断提升,外延膜生长速率和品质逐步提高,碳化硅在新能源汽车、光伏产业、高压输配线和智能电站等领域的应用需求越来越大。与硅半导体... 碳化硅(SiC)是制作高温、高频、大功率电子器件的理想电子材料,近20年来随着外延设备和工艺技术水平不断提升,外延膜生长速率和品质逐步提高,碳化硅在新能源汽车、光伏产业、高压输配线和智能电站等领域的应用需求越来越大。与硅半导体产业不同,碳化硅器件必须在外延膜上进行加工,因此碳化硅外延设备在整个产业链中占据承上启下的重要位置,而且也是整个产业链中最复杂、最难开发的设备。本文从碳化硅外延生长机理出发,结合反应室设计和材料科学的发展,介绍了化学气相沉积(CVD)法碳化硅外延设备反应室、加热系统和旋转系统等的技术进展,最后分析了CVD法碳化硅外延设备未来的研究重点和发展方向。 展开更多
关键词 碳化硅 外延生长设备 化学气相沉积 外延生长机理 反应室 第三代半导体 宽禁带半导体
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4H-SiC半导体同质外延生长技术进展 被引量:7
16
作者 冯淦 孙永强 +1 位作者 钱卫宁 陈志霞 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第11期2128-2138,共11页
4H-SiC(碳化硅)半导体是制作高温、高频、大功率电力电子器件的理想电子材料,近20年来材料生长技术水平不断提升,材料品质逐步提高。本文首先介绍了4H-SiC半导体同质外延生长的必要性,结合SiC多晶型的结构特点,介绍了4H-SiC外延生长过... 4H-SiC(碳化硅)半导体是制作高温、高频、大功率电力电子器件的理想电子材料,近20年来材料生长技术水平不断提升,材料品质逐步提高。本文首先介绍了4H-SiC半导体同质外延生长的必要性,结合SiC多晶型的结构特点,介绍了4H-SiC外延生长过程中的原位掺杂浓度控制、扩展缺陷控制、点缺陷控制及高速生长控制方面的技术进展。同时,介绍了国产4H-SiC外延产业化的现状。 展开更多
关键词 4H-SIC 宽禁带半导体 外延生长 化学气相沉积
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银烧结技术在功率模块封装中的应用 被引量:7
17
作者 李聪成 滕鹤松 +2 位作者 王玉林 徐文辉 牛利刚 《电子工艺技术》 2016年第6期311-315,共5页
银烧结技术是一种新型的高可靠性连接技术,在功率模块封装中的应用正受到越来越多的关注。作为传统软钎焊技术的替代方案,银烧结技术在宽禁带半导体封装中具有良好的应用前景。阐述了银烧结技术原理,介绍了目前银烧结技术在功率模块中... 银烧结技术是一种新型的高可靠性连接技术,在功率模块封装中的应用正受到越来越多的关注。作为传统软钎焊技术的替代方案,银烧结技术在宽禁带半导体封装中具有良好的应用前景。阐述了银烧结技术原理,介绍了目前银烧结技术在功率模块中的应用情况,总结了影响银烧结层质量的因素,并从检测手段、材料成本及专利方面对银烧结技术的应用前景进行了展望。 展开更多
关键词 银烧结技术 宽禁带半导体 功率模块 封装
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基于宽禁带半导体氧化物微纳材料的紫外探测器研究进展 被引量:6
18
作者 陈星 周畅 +1 位作者 刘可为 申德振 《中国光学(中英文)》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第5期912-928,共17页
紫外探测技术是继红外探测与激光探测技术之后的又一项军民两用探测技术,有广阔的应用前景。真空光电倍增管和Si基光电二极管是常见的商品化紫外探测器,但是真空光电倍增管易受高温和电磁辐射干扰,需要在高压下工作;而Si基光电二极管需... 紫外探测技术是继红外探测与激光探测技术之后的又一项军民两用探测技术,有广阔的应用前景。真空光电倍增管和Si基光电二极管是常见的商品化紫外探测器,但是真空光电倍增管易受高温和电磁辐射干扰,需要在高压下工作;而Si基光电二极管需要昂贵的滤光片。宽禁带半导体紫外探测器克服了上述两种器件面临的一些问题,成为紫外探测器研究的热点。其中宽禁带氧化物材料,具有易于制备高响应高增益器件、有丰富的微纳结构、易于制备微纳器件的特点,引起了人们的广泛关注。本文对宽禁带半导体氧化物材料的微纳结构器件进行梳理,对近年来的一些相关研究进行了综述。其中涉及的氧化物材料包括ZnO,Ga_(2)O_(3),SnO_(2),TiO_(2)等,涉及的器件结构包括金属-半导体-金属型器件,肖特基结型器件,异质结型器件等。 展开更多
关键词 宽禁带半导体 氧化物半导体 微纳结构 紫外探测器
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碳化硅器件发展概述 被引量:5
19
作者 黄京才 白朝辉 《山西电子技术》 2011年第4期90-91,96,共3页
概要介绍了第三代半导体材料碳化硅(SiC)在高温、高频、大功率器件应用方面的优势,结合国际上SiC肖特基势垒二极管,PiN二极管和结势垒肖特基二极管的发展历史,介绍了SiC功率二极管的最新进展,同时对我国宽禁带半导体SiC器件的研究现状... 概要介绍了第三代半导体材料碳化硅(SiC)在高温、高频、大功率器件应用方面的优势,结合国际上SiC肖特基势垒二极管,PiN二极管和结势垒肖特基二极管的发展历史,介绍了SiC功率二极管的最新进展,同时对我国宽禁带半导体SiC器件的研究现状及发展方向做了概述及展望。 展开更多
关键词 宽禁带半导体 碳化硅 功率二极管
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新型半导体功率器件在现代雷达中的应用研究(Ⅰ) 被引量:5
20
作者 郑新 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第9期828-832,共5页
目前第一代半导体功率器件的制造技术和应用技术已趋于成熟,S波段及以下波段功率器件的输出功率、工作效率和可靠性指标都已达到相当高的水平。近年来第二代半导体功率器件的制造技术和应用技术发展迅速,S波段、C波段和X波段的器件已经... 目前第一代半导体功率器件的制造技术和应用技术已趋于成熟,S波段及以下波段功率器件的输出功率、工作效率和可靠性指标都已达到相当高的水平。近年来第二代半导体功率器件的制造技术和应用技术发展迅速,S波段、C波段和X波段的器件已经形成了一定的系列化商品。但是面对现代雷达等新一代电子装备的需求,半导体功率器件在高功率、高效率和高频率等方面与真空管器件相比仍逊色许多,Si和GaAs功率器件的输出功率工作频率短期内不大可能有大的提高,而第三代半导体功率器件——宽禁带半导体器件固有的宽禁带、高击穿场强和良好的热稳定性等特性,决定了其可以输出更高功率、工作在更高频率、具有更高效率,并可更好地满足现代雷达的要求。 展开更多
关键词 雷达 发射机 功率器件 宽禁带半导体 可靠性
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