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一种高灵敏度低噪声硅微谐振式加速度计 被引量:8
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作者 邹旭东 熊兴崟 +3 位作者 汪政 王坤锋 杨伍昊 李志天 《中国惯性技术学报》 EI CSCD 北大核心 2021年第3期281-287,共7页
MEMS加速度计经过近四十年的发展,是目前产业化最为成功、应用最为广泛的MEMS器件之一。以硅微机械谐振器作为敏感元件的谐振式MEMS加速度计因具有检测精度高、线性度好、量程大、抗环境噪声能力强等优点,成为新一代高性能MEMS加速度计... MEMS加速度计经过近四十年的发展,是目前产业化最为成功、应用最为广泛的MEMS器件之一。以硅微机械谐振器作为敏感元件的谐振式MEMS加速度计因具有检测精度高、线性度好、量程大、抗环境噪声能力强等优点,成为新一代高性能MEMS加速度计的重要发展方向。针对微小型无人平台的长时惯性导航、姿态测量等需求,设计了一种具有增敏结构的硅微谐振式加速度计,通过改进微杠杆转轴与惯性质量块支撑梁的几何形状并利用有限元仿真方法进行参数优化,在不增加芯片面积的前提下有效提升了器件灵敏度。器件设计量程±50 g,采用集成圆片级真空封装的SOI-MEMS工艺制造并配套设计了基于0.35 mm工艺的接口ASIC电路用于实现加速度计的闭环工作。所研制的原理样机测试表明,加速度计敏感谐振器品质因数为29300,灵敏度630.81 Hz/g,噪声≤1.7μg/√Hz,零偏不稳定性(Allan方差)≤2.3μg。 展开更多
关键词 MEMS加速度计 谐振式加速度计 圆片级真空封装 低噪声加速度计
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一种圆片级硅三层键合的三明治加速度传感器 被引量:6
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作者 徐玮鹤 林友玲 +3 位作者 车录锋 李玉芳 熊斌 王跃林 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期230-232,共3页
提出了一种利用体微机械加工技术制作的硅三层键合电容式加速度传感器。采用硅各向异性腐蚀和深反应离子刻蚀技术实现中间梁-质量块结构的制作,通过玻璃软化键合方法完成上、下电极的键合。在完成整体结构圆片级真空封装的同时通过引线... 提出了一种利用体微机械加工技术制作的硅三层键合电容式加速度传感器。采用硅各向异性腐蚀和深反应离子刻蚀技术实现中间梁-质量块结构的制作,通过玻璃软化键合方法完成上、下电极的键合。在完成整体结构圆片级真空封装的同时通过引线腔结构方便地实现了中间电极的引线。传感器芯片大小为6.8mm×5.6mm×1.26mm,其中敏感质量块尺寸为3.2mm×3.2mm×0.42mm。对封装的传感器性能进行了初步测试,结果表明制作的传感器灵敏度约4.15pF/g,品质因子为56,谐振频率为774Hz。 展开更多
关键词 电容式加速度传感器 硅硅键合 圆片级真空封装
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与硅微器件集成的MEMS皮拉尼计
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作者 秦宜峰 刘振华 +2 位作者 施志贵 张青芝 熊壮 《太赫兹科学与电子信息学报》 2024年第9期1038-1043,共6页
针对圆片级真空封装现有的检测难、易泄漏等问题,提出一种可与硅微器件工艺兼容、并行加工于同一腔体的皮拉尼(Pirani)计设计与加工方法,用于圆片级真空封装后腔体的真空度检测。采用SOI硅片对皮拉尼计结构进行加工,通过金硅键合方式对... 针对圆片级真空封装现有的检测难、易泄漏等问题,提出一种可与硅微器件工艺兼容、并行加工于同一腔体的皮拉尼(Pirani)计设计与加工方法,用于圆片级真空封装后腔体的真空度检测。采用SOI硅片对皮拉尼计结构进行加工,通过金硅键合方式对器件进行圆片级封装,同时采用硅通孔(TSV)的纵向电极引出方式,改善气密封装问题。测试结果表明,皮拉尼计电阻在线性区间的温度系数为1.58Ω/℃,检测敏感区间约为1~100 Pa,灵敏度达到61.67Ω/ln(Pa)。提出的皮拉尼计可与硅微器件并行加工,为圆片级真空封装腔体的真空度在片测试提供了一种简单可行的方案。 展开更多
关键词 真空检测 皮拉尼计 硅微器件 圆片级真空封装
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一种硅四层键合的高对称电容式加速度传感器 被引量:6
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作者 徐玮鹤 车录锋 +2 位作者 李玉芳 熊斌 王跃林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1620-1624,共5页
提出了一种利用体微机械加工技术制作的硅四层键合高对称电容式加速度传感器.采用硅/硅直接键合技术实现中间对称梁质量块结构的制作,然后采用硼硅玻璃软化键合方法完成上、下电极的键合.在完成整体结构圆片级真空封装的同时,通过引线... 提出了一种利用体微机械加工技术制作的硅四层键合高对称电容式加速度传感器.采用硅/硅直接键合技术实现中间对称梁质量块结构的制作,然后采用硼硅玻璃软化键合方法完成上、下电极的键合.在完成整体结构圆片级真空封装的同时,通过引线腔结构方便地实现了中间电极的引线.传感器芯片大小为6.8mm×5.6mm×1.68mm,其中敏感质量块尺寸为3.2mm×3.2mm×0.84mm.对封装的传感器性能进行了初步测试,结果表明制作的传感器漏率小于0.1×10-9cm3/s,灵敏度约为6pF/g,品质因子为35,谐振频率为489Hz. 展开更多
关键词 电容式加速度传感器 硅/硅键合 圆片级真空封装
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基于SOI-SOG键合的圆片级真空封装MEMS电场传感器 被引量:1
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作者 刘俊 夏善红 +7 位作者 彭春荣 储昭志 雷虎成 刘向明 张洲威 张巍 彭思敏 高雅浩 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第9期2517-2525,共9页
圆片级真空封装是提高微电子机械系统(Micro-Electro-Mechanical Systems,MEMS)电场传感器品质因数及批量化制造效率的重要途径.本文提出了一种基于绝缘体上硅(Silicon On Insulator,SOI)-玻璃体上硅(Silicon On Glass,SOG)键合的圆片... 圆片级真空封装是提高微电子机械系统(Micro-Electro-Mechanical Systems,MEMS)电场传感器品质因数及批量化制造效率的重要途径.本文提出了一种基于绝缘体上硅(Silicon On Insulator,SOI)-玻璃体上硅(Silicon On Glass,SOG)键合的圆片级真空封装MEMS电场传感器,设计并实现了从传感器敏感结构制备到真空封装的整套圆片级加工工艺.本文建立了传感器的结构电容模型,进行了有限元仿真,分析了传感器的特性,突破了传感器微结构制备与释放、SOI与SOG键合等工艺技术难点.该传感器具有工作电压低、品质因数高的突出优点.实验结果表明,工作电压仅为5 V直流与0.05 V交流电压.在60天测试过程中,传感器品质因数始终保持在5000以上.在0~50 kV/m范围内,传感器灵敏度为0.15 mV/(kV/m),线性度为2.21%,不确定度为4.74%. 展开更多
关键词 MEMS 电场传感器 圆片级真空封装 模型 制备
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一种电容间隙精确可控的高对称加速度传感器 被引量:2
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作者 毛健 车录锋 +4 位作者 林友玲 李玉芳 周晓峰 熊斌 王跃林 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期143-146,共4页
提出了一种高对称电容式微加速度传感器,该传感器为硅四层键合三明治结构,在完成传感器整体结构制作的同时,实现了圆片级真空封装。利用多次氧化的方法,既精确控制了加速度传感器的初始电容间距,又实现了限位凸点的制作。该加速度传感... 提出了一种高对称电容式微加速度传感器,该传感器为硅四层键合三明治结构,在完成传感器整体结构制作的同时,实现了圆片级真空封装。利用多次氧化的方法,既精确控制了加速度传感器的初始电容间距,又实现了限位凸点的制作。该加速度传感器的谐振频率为657Hz,品质因子为198,灵敏度为0.59V/g。 展开更多
关键词 电容式加速度传感器 硅硅键合 圆片级真空封装 电容间隙控制
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基于微谐振器的圆片级真空封装真空度测试技术 被引量:1
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作者 胥超 王敏 杨志 《微纳电子技术》 CAS 2024年第5期162-167,共6页
针对微电子机械系统(MEMS)圆片级封装腔体体积小、传统的真空封装测试方法适用性差的情况,研制了一种用于表征圆片级真空封装真空度的器件——MEMS微谐振器。利用此谐振器不仅可以表征圆片级真空封装真空度,也可用于圆片级真空封装漏率... 针对微电子机械系统(MEMS)圆片级封装腔体体积小、传统的真空封装测试方法适用性差的情况,研制了一种用于表征圆片级真空封装真空度的器件——MEMS微谐振器。利用此谐振器不仅可以表征圆片级真空封装真空度,也可用于圆片级真空封装漏率的测试。采用MEMS体硅工艺和共晶圆片键合技术实现了微谐振器的圆片级真空封装,利用微谐振器阻尼特性建立了谐振器品质因数与真空度的对应关系,通过设计的激励电路实现了微谐振器品质因数的在片测试,对不同键合腔体真空度下封装的MEMS微谐振器进行测试,测试结果显示该微谐振器在高真空度0.1~8 Pa范围内品质因数与真空度有很好的对应关系。 展开更多
关键词 微电子机械系统(MEMS) 微谐振器 品质因数 真空度 圆片级真空封装
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一种集成式硅MEMS振动陀螺仪 被引量:2
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作者 李博 杨拥军 +5 位作者 徐永青 徐淑静 胥超 何洪涛 罗蓉 卢新艳 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第8期501-505,共5页
介绍了一种集成式硅MEMS振动陀螺仪。首先阐述了MEMS振动陀螺仪的工作原理;在此基础上,介绍了陀螺敏感结构形式:采用双端固定音叉结构,差分检测,实现对外界角速率的敏感,给出了结构设计和有限元(FEM)仿真结果;加工工艺采用圆片级真空封... 介绍了一种集成式硅MEMS振动陀螺仪。首先阐述了MEMS振动陀螺仪的工作原理;在此基础上,介绍了陀螺敏感结构形式:采用双端固定音叉结构,差分检测,实现对外界角速率的敏感,给出了结构设计和有限元(FEM)仿真结果;加工工艺采用圆片级真空封装SOI工艺,介绍了工艺流程;检测电路采用数字化ASIC电路,给出了电路原理框图;采用LCC30陶瓷外壳实现了陀螺的集成封装。最后介绍了陀螺的研制结果和典型参数,陀螺量程达到±500°/s,零偏稳定性和重复性达到5°/h,标度因数非线性为1.5×10-4,重复性为5×10-5,重量仅为1.85 g,功耗为0.125 W,可满足大部分工程应用要求。 展开更多
关键词 微电子机械系统(MEMS) 陀螺仪 SOI工艺 圆片级真空封装 集成封装 专用集成电路(ASIC)
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应用于晶圆级真空封装的玻璃通孔金属化工艺研究 被引量:1
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作者 盛洁 钟钧宇 刘大俊 《战术导弹控制技术》 2013年第1期42-45,共4页
采用玻璃喷砂打孔、阳极键合、玻璃通孔镀膜工艺,成功制备出基于TGV的玻璃封帽结构,并应用于微机电(MEMS)器件加工中。
关键词 TGV MEMS 阳极键合 晶圆级真空封装
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圆片级封装中的二次硅-玻璃键合工艺研究
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作者 郑雅欣 阮勇 +2 位作者 祝连庆 宋志强 吴紫珏 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第10期50-54,共5页
针对MEMS谐振器真空封装更高的要求,将盖帽硅片、器件硅片(Si)和玻璃衬底通过二次Si—玻璃(D-SOG)阳极键合工艺,实现了MEMS谐振器加工的同时,完成MEMS谐振器的6in圆片级高真空度封装。通过优化两次键合工艺参数,第二次键合温度由第一次... 针对MEMS谐振器真空封装更高的要求,将盖帽硅片、器件硅片(Si)和玻璃衬底通过二次Si—玻璃(D-SOG)阳极键合工艺,实现了MEMS谐振器加工的同时,完成MEMS谐振器的6in圆片级高真空度封装。通过优化两次键合工艺参数,第二次键合温度由第一次键合温度350℃调整到380℃,键合压力分别为800N(第二次键合)和600N(第一次键合);优化第二次键合封装密封环的键合面积宽度为700μm;达到良好的MEMS谐振器封装效果,器件的泄漏速率为3.85×10^(-9) Pa·m^(3)/s。该研究可以有效降低加工成本和工艺难度、提高器件可靠性,满足了MEMS器件对封装密封性的要求,后续可广泛应用到基于D-SOG的MEMS谐振器封装工艺中,具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 微机电系统 圆片级真空封装 玻璃上硅键合封装密封环 二次硅—玻璃键合
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