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射频磁控溅射制备氧化钒薄膜的研究
被引量：
9
1
作者
马卫红
蔡长龙
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期159-163,共5页
氧化钒(VOx)薄膜是一种广泛应用于红外热成像探测的薄膜材料,研究VOx薄膜的制备工艺、获取高电阻温度系数(TCR)的VOx薄膜具有重要意义。以高纯金属钒作靶材,采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了VOx薄膜。主要研究了氩氧流量比以及功...
氧化钒(VOx)薄膜是一种广泛应用于红外热成像探测的薄膜材料,研究VOx薄膜的制备工艺、获取高电阻温度系数(TCR)的VOx薄膜具有重要意义。以高纯金属钒作靶材,采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了VOx薄膜。主要研究了氩氧流量比以及功率等工艺参数对薄膜TCR的影响,获得了较好的工艺参数。采用万用表和X射线光电子能谱仪(XPS)分别测试了不同条件下射频磁控溅射法制备的VOx薄膜的电阻特性和薄膜成分,测试结果表明,采用所获得的较好工艺参数制备的VOx薄膜TCR值大于1.8%。
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关键词
射频磁控溅射
氧化钒(
vox
)薄膜
电阻温度系数(TCR)
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职称材料
氧化钒薄膜的制备及其在光激励下对太赫兹波的调制
被引量：
2
2
作者
夏晓旭
胡明
+2 位作者
朱乃伟
梁继然
韦晓莹
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期681-686,共6页
采用磁控溅射法在蓝宝石基底上制备金属钒薄膜,然后在O2中快速热处理获得具有相变特性的VOx薄膜。实验对比了不同的热处理温度和热处理时间对薄膜性能的影响,薄膜的结晶状况用X射线衍射(XRD)进行分析;利用THz时域频谱系统,观测薄膜在不...
采用磁控溅射法在蓝宝石基底上制备金属钒薄膜,然后在O2中快速热处理获得具有相变特性的VOx薄膜。实验对比了不同的热处理温度和热处理时间对薄膜性能的影响,薄膜的结晶状况用X射线衍射(XRD)进行分析;利用THz时域频谱系统,观测薄膜在不同激励光功率下的相变特性及其对THz波的调制作用。结果表明,在570℃条件下快速热处理60s所制得的VOx薄膜性能最佳,薄膜对THz波透过性最好,光激励后对THz波的调制作用最大,调制幅度达到83.9%,且引发相变的功率阈值低。
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关键词
vox
薄膜
THz调制
光激励
快速热处理
原文传递
题名
射频磁控溅射制备氧化钒薄膜的研究
被引量：
9
1
作者
马卫红
蔡长龙
机构
西安工业大学光电工程学院
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期159-163,共5页
文摘
氧化钒(VOx)薄膜是一种广泛应用于红外热成像探测的薄膜材料,研究VOx薄膜的制备工艺、获取高电阻温度系数(TCR)的VOx薄膜具有重要意义。以高纯金属钒作靶材,采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了VOx薄膜。主要研究了氩氧流量比以及功率等工艺参数对薄膜TCR的影响,获得了较好的工艺参数。采用万用表和X射线光电子能谱仪(XPS)分别测试了不同条件下射频磁控溅射法制备的VOx薄膜的电阻特性和薄膜成分,测试结果表明,采用所获得的较好工艺参数制备的VOx薄膜TCR值大于1.8%。
关键词
射频磁控溅射
氧化钒(
vox
)薄膜
电阻温度系数(TCR)
Keywords
RF
magnetron
sputtering
vanadium
oxide
（
vox
）
films
temperature
coefficient
of
resistance
（TCR）
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
氧化钒薄膜的制备及其在光激励下对太赫兹波的调制
被引量：
2
2
作者
夏晓旭
胡明
朱乃伟
梁继然
韦晓莹
机构
天津大学电子信息工程学院
出处
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期681-686,共6页
基金
国家自然科学基金青年科学基金(61101055)
高等学校博士学科点专项科研基金(20100032120029)资助项目
文摘
采用磁控溅射法在蓝宝石基底上制备金属钒薄膜,然后在O2中快速热处理获得具有相变特性的VOx薄膜。实验对比了不同的热处理温度和热处理时间对薄膜性能的影响,薄膜的结晶状况用X射线衍射(XRD)进行分析;利用THz时域频谱系统,观测薄膜在不同激励光功率下的相变特性及其对THz波的调制作用。结果表明,在570℃条件下快速热处理60s所制得的VOx薄膜性能最佳,薄膜对THz波透过性最好,光激励后对THz波的调制作用最大,调制幅度达到83.9%,且引发相变的功率阈值低。
关键词
vox
薄膜
THz调制
光激励
快速热处理
Keywords
vanadium
oxide
（
vox
）
thin
film
THz
transmission
modulation
laser
excitation
rapid
thermal
processing
分类号
TN213 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
射频磁控溅射制备氧化钒薄膜的研究
马卫红
蔡长龙
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2012
9
下载PDF
职称材料
2
氧化钒薄膜的制备及其在光激励下对太赫兹波的调制
夏晓旭
胡明
朱乃伟
梁继然
韦晓莹
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
2
原文传递
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