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特型二氧化钒薄膜的制备及电阻温度系数的研究 被引量:25
1
作者 尚东 林理彬 +2 位作者 何捷 王静 卢勇 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期523-527,共5页
采用真空蒸发真空退火的制备工艺,制备出了特定的VO2(B)型薄膜并给出了最佳制备条件,经X射线衍射(XRD)分析及电学参数测试,其电阻温度系数(TCR)值达到-3.4×10-2K-1,无相变和热滞现象.作者还讨论了薄膜电阻温度关系,及其电阻温度系... 采用真空蒸发真空退火的制备工艺,制备出了特定的VO2(B)型薄膜并给出了最佳制备条件,经X射线衍射(XRD)分析及电学参数测试,其电阻温度系数(TCR)值达到-3.4×10-2K-1,无相变和热滞现象.作者还讨论了薄膜电阻温度关系,及其电阻温度系数与晶粒大小、激活能等的关系. 展开更多
关键词 VO2(B)薄膜 真空蒸发 真空退火
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真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响 被引量:13
2
作者 黄峰 程珊华 +2 位作者 宁兆元 杨慎东 叶超 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期1383-1387,共5页
在苯 (C6H6)和四氟化碳 (CF4)混合气体中 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术 (ECR CVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜 (a C :F) ,为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理 ,测量了退火前后膜厚的变化率 ,并用傅里叶变... 在苯 (C6H6)和四氟化碳 (CF4)混合气体中 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术 (ECR CVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜 (a C :F) ,为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理 ,测量了退火前后膜厚的变化率 ,并用傅里叶变换红外吸收光谱 (FTIR)研究了其结构的变化 .结果表明 ,膜厚变化率与沉积功率有关 ;40 0℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著 ,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性 . 展开更多
关键词 氟化非晶碳薄膜 结构 ECR-CVD a-C:F薄膜 真空退火 超大规模集成电路
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不同基体真空蒸镀铝膜的附着力研究 被引量:12
3
作者 张继东 李才巨 +2 位作者 朱心昆 穆静静 李刚 《昆明理工大学学报(理工版)》 2006年第6期25-27,共3页
采用电阻加热式真空蒸镀法在玻璃、H13钢、塑料和纯铜基体上镀制铝膜,并对其附着力进行了测试和分析.结果表明:铝膜对基体的附着力随蒸镀时间的延长而增加,二者基本上呈线性关系;在相同镀制工艺条件下,铝膜对玻璃、H13钢、纯铜和... 采用电阻加热式真空蒸镀法在玻璃、H13钢、塑料和纯铜基体上镀制铝膜,并对其附着力进行了测试和分析.结果表明:铝膜对基体的附着力随蒸镀时间的延长而增加,二者基本上呈线性关系;在相同镀制工艺条件下,铝膜对玻璃、H13钢、纯铜和塑料基体的附着力依次增强;在50-350℃之间退火后,铝膜对纯铜基体的附着力高于退火前,且随退火温度的升高而增大. 展开更多
关键词 真空蒸镀 铝膜 附着力 退火
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掺杂透明导电半导体薄膜的光电性能研究 被引量:8
4
作者 葛春桥 郭爱云 胡小峰 《应用光学》 CAS CSCD 2006年第1期40-42,共3页
掺杂氧化锌透明导电膜(AZO)是一种重要的光电子信息材料,其制备方法有真空蒸镀法、磁控溅射法,化学气相沉积和脉冲激光沉积法等。该文采用溶胶-凝胶(so l-gel)工艺在普通玻璃基片上成功地制备出A l3+掺杂型ZnO透明导电薄膜。将这种薄膜... 掺杂氧化锌透明导电膜(AZO)是一种重要的光电子信息材料,其制备方法有真空蒸镀法、磁控溅射法,化学气相沉积和脉冲激光沉积法等。该文采用溶胶-凝胶(so l-gel)工艺在普通玻璃基片上成功地制备出A l3+掺杂型ZnO透明导电薄膜。将这种薄膜在空气和真空中以不同的温度进行了退火处理,并对薄膜进行了XRD分析和光电性能研究。结果表明,所制备的薄膜为钎锌矿型结构,在c轴方向择优生长,真空退火有利于薄膜结晶状况的改善,并使薄膜的载流子浓度大幅度地增加而电阻率下降,并且真空退火对薄膜的透射率影响不大。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 AZO薄膜 真空退火 掺杂氧化锌透明导电膜 光电性能
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红外双波段激光滤光膜的研制 被引量:11
5
作者 宫大为 付秀华 +1 位作者 耿似玉 杨道奇 《中国光学》 EI CAS 2011年第3期293-298,共6页
为了满足红外军用仪器的特殊要求,根据薄膜理论进行了红外双波段滤光膜的膜系设计;采用电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整,在多光谱ZnS基底上镀制了1 064 nm高反、3~5μm高透的红外双波段滤光膜。利用低能离子轰击,使膜层与... 为了满足红外军用仪器的特殊要求,根据薄膜理论进行了红外双波段滤光膜的膜系设计;采用电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整,在多光谱ZnS基底上镀制了1 064 nm高反、3~5μm高透的红外双波段滤光膜。利用低能离子轰击,使膜层与基底间的应力明显减小;使用BGS 6341薄膜应力测试仪,采用渐变梯度法,测得其压应力由122 MPa降到51 MPa。另外,通过低能离子轰击和真空退火处理,提高了膜层的抗损伤阈值。结果显示所镀膜层满足红外军用仪器的使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 激光滤光膜 离子轰击 真空退火
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真空退火引起的VO_x薄膜生长过程的变价问题研究 被引量:5
6
作者 周围 林理彬 +2 位作者 葛风玉 左长明 赵纯培 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期609-611,共3页
本文以V2O5粉末为原料,采用真空蒸发镀膜与真空退火相结合的方法,在载玻片和单晶Si(100)衬底上得到了VO2为主的薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)对不同退火条件下所得膜的价态组份进行了分析,得到了膜中V的价态... 本文以V2O5粉末为原料,采用真空蒸发镀膜与真空退火相结合的方法,在载玻片和单晶Si(100)衬底上得到了VO2为主的薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)对不同退火条件下所得膜的价态组份进行了分析,得到了膜中V的价态与退火温度、退火时间以及膜厚的关系。 展开更多
关键词 真空 蒸发 二氧化钒 薄膜生长 变价
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真空退火对VO_x薄膜相结构及表面形貌的影响 被引量:8
7
作者 何延春 邱家稳 +3 位作者 郭宁 许旻 王洁冰 赵印中 《真空与低温》 2003年第3期148-151,共4页
以V2O5粉末为原料,采用无机溶胶-凝胶法制备了V2O5凝胶膜,经过真空退火处理得到了以VO2为主的薄膜。利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同实验条件下得到的薄膜的物相和表面形貌进行分析,得出了VOx薄膜相结构及表面形貌与真空... 以V2O5粉末为原料,采用无机溶胶-凝胶法制备了V2O5凝胶膜,经过真空退火处理得到了以VO2为主的薄膜。利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同实验条件下得到的薄膜的物相和表面形貌进行分析,得出了VOx薄膜相结构及表面形貌与真空退火条件之间的关系。 展开更多
关键词 真空退火 VOx薄膜 相结构 无机溶胶-凝胶法 表面形貌 相变特性
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基体偏压对电弧离子镀AlCrSiON涂层结构和热稳定性的影响 被引量:9
8
作者 耿东森 吴正涛 +4 位作者 聂志伟 黎海旭 张小波 代伟 王启民 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期60-66,共7页
为研究基体偏压对AlCrSiON纳米复合涂层结构、力学性能和热稳定性的影响规律及机制,采用电弧离子镀技术在硬质合金基体上沉积AlCrSiON涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕仪(划痕... 为研究基体偏压对AlCrSiON纳米复合涂层结构、力学性能和热稳定性的影响规律及机制,采用电弧离子镀技术在硬质合金基体上沉积AlCrSiON涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕仪(划痕仪)研究涂层组织结构和力学性能;通过真空退火试验研究涂层的高温稳定性。结果表明:AlCrSiON涂层为致密柱状晶结构,并主要由c-(Al,Cr)N和c-(Al,Cr)(O,N)两相组成,呈现出纳米复合结构。随着偏压的升高,涂层表面的颗粒数目和尺寸减少,组织结构更加致密;硬度和弹性模量均呈现出先增加后减小的趋势,当偏压为–80 V时分别达到最大值30.1 GPa和367.9 GPa。涂层具有良好的高温稳定性,不同偏压下沉积的AlCrSiON涂层经800~950℃热处理后均能够保持良好的结构稳定性及力学性能,但经1 100℃热处理后涂层发生相分解并引发组织结构变化,导致涂层硬度减小。 展开更多
关键词 基体偏压 AlCrSiON 真空退火 组织结构 热稳定性
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真空热处理对硫化锌薄膜光学与微结构特性的影响 被引量:9
9
作者 刘华松 姜承慧 +4 位作者 李士达 杨霄 季一勤 张锋 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期2038-2045,共8页
针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波... 针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波长两侧的消光系数变化规律相反,折射率和物理厚度呈现下降趋势,薄膜的禁带宽度逐渐增加;在红外波段的薄膜折射率与热处理温度的变化并不显著,在350℃下热处理时消光系数出现转折,主要是由晶粒变小的趋势所致;通过晶相分析,硫化锌薄膜经历了类立方结构到六方结构的转换,与禁带宽度的变化趋势基本一致。分析结果表明,光学特性变化的根本原因是薄膜的微结构特性变化。 展开更多
关键词 ZNS薄膜 折射率 消光系数 真空热处理 晶相结构
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Soft magnetic properties of amorphous Fe_(52)Co_(34)Hf_7B_6Cu_1 alloy treated by pulsed magnetic field and annealing 被引量:7
10
作者 谷月 晁月盛 张艳辉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第12期477-480,共4页
The crystallization, microstructure, and soft magnetic properties of Fe52Co34Hf7B6Cul alloy are studied. Amorphous Fe52Co34Hf7B6Cul alloys are first treated by a pulsed magnetic field with a medium frequency, and then... The crystallization, microstructure, and soft magnetic properties of Fe52Co34Hf7B6Cul alloy are studied. Amorphous Fe52Co34Hf7B6Cul alloys are first treated by a pulsed magnetic field with a medium frequency, and then annealed at 100 ℃-400 ℃ for 30 min in a vacuum. The rise in temperature during the treatment by a pulsed magnetic field is measured by a non-contact infrared thermometer. The soft magnetic properties of specimens are measured by a vibrating sample magnetometer (VSM). The microstructure changes of specimens are observed by a MSssbauer spectroscopy and transmission electron microscope (TEM). The results show the medium-frequency pulsating magnetic field will pro- mote nanocrystallization of the amorphous alloy with a lower temperature rise. The nanocrystalline phase is (α-Fe(Co) with bcc crystal structure, and the grain size is about 10 nm. After vacuum annealing at 100 ℃ for 30 min, scattering nanocrystalline phases become more uniform, the coercive force and the saturation magnetization of the specimens are 41.98 A/m and 185.15 emu/g. 展开更多
关键词 amorphous alloys pulsed magnetic field vacuum annealing NANOCRYSTALLIZATION
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TiO2薄膜在玻璃材料上的亲水性研究 被引量:6
11
作者 汪宇炎 汪洋 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期52-54,共3页
用真空蒸镀法在玻璃基片上制备TiO2薄膜,分别在300、400、500、600℃下退火。用紫外-可见吸收光谱、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、接触角测定等分析方法研究蒸镀时间、退火温度和退火时间对薄膜亲水性的影响,找出真空蒸镀法制备亲水... 用真空蒸镀法在玻璃基片上制备TiO2薄膜,分别在300、400、500、600℃下退火。用紫外-可见吸收光谱、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、接触角测定等分析方法研究蒸镀时间、退火温度和退火时间对薄膜亲水性的影响,找出真空蒸镀法制备亲水性TiO2薄膜的最佳工艺条件。结果表明:经紫外光照射1h后,所有TiO2薄膜都能被水润湿,在蒸镀时间为45 s,退火温度为500℃,退火时间为2h条件下制得的薄膜样品亲水性能最佳。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 真空蒸镀 退火 玻璃 亲水性
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离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响 被引量:8
12
作者 陈焘 罗崇泰 +3 位作者 王多书 刘宏开 王济洲 马锋 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第S1期55-58,共4页
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜。通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律。结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离子束辅助... 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜。通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律。结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离子束辅助工艺时硫化锌薄膜的压应力增加了62.3MPa。真空退火使硫化锌薄膜的平均应力大约降低了二分之一。硫化锌薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素。 展开更多
关键词 硫化锌薄膜 离子束辅助沉积 真空退火 应力
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金属Sn氧化薄膜的真空退火与原位XPS测量 被引量:6
13
作者 严辉 马黎君 +3 位作者 陈光华 黄世平 文华杰 郭伟民 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期65-70,共6页
本文研究了在真空退火过程中金属Sn氧化薄膜表面L元素Sn和O的化学性质.利用X射线光电子能谱(XPS)的表面分析方法,发现在金属Sn氧化薄膜的表面上存在大量的吸附氧粒子(O-和)提高真空退火温度,吸附氧粒子的数量增加;同时吸附氧粒... 本文研究了在真空退火过程中金属Sn氧化薄膜表面L元素Sn和O的化学性质.利用X射线光电子能谱(XPS)的表面分析方法,发现在金属Sn氧化薄膜的表面上存在大量的吸附氧粒子(O-和)提高真空退火温度,吸附氧粒子的数量增加;同时吸附氧粒子的负电性变弱.当退火温度低于350℃时,吸附氧粒子数量的增加是起因于SnO2→Sn2O3的转变;在这种情况下,可以观察到Sn2O3是相对稳定的金属Sn氧化物,继续提高退火温度,达到400℃时,Sn在金属Sn中的相对含量急剧增大,Sn在金属Sn中相对含量增加的原因与金属Sn的价态Sn3+→Sn0的转变相关在这个转变过程中伴随着O的释放和薄膜表面氧粒子的进一步堆积.与温度低于350℃时的退火条件相比,XPS的测量也发现,在400℃的退火温度下;SnO2相对于Sn2O3反而成为比较稳定的金属Sn氧化物.还讨论了金属Sn氧化薄膜表面上吸附氧粒子的吸附状态以及吸附状态与退火温度的关系. 展开更多
关键词 氧化薄膜 高温退火 XPS 测量 气敏器件
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掺Sb-CdTe薄膜的结构及其光学特性研究 被引量:4
14
作者 李蓉萍 李琦 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期474-476,共3页
用真空蒸发技术在玻璃衬底上获得了掺杂Sb的CdTe薄膜 ,薄膜为立方晶系结构 ,具有沿 [111]晶向的择优取向。薄膜为p型呈高阻状态 ,在可见光范围内透过率很低。研究了不同掺杂浓度下薄膜的性质 ,并在不同条件下对薄膜进行热处理 。
关键词 SB CDTE薄膜 结构 光学特性 真空蒸发 热处理 掺杂 碲化镉 半导体 掺杂
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355nm增透膜的设计、制备与性能 被引量:7
15
作者 余华 崔云 +4 位作者 申雁鸣 齐红基 易葵 邵建达 范正修 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2026-2030,共5页
用热舟蒸发法结合修正挡板技术制备了355 nm LaF3/MgF2增透膜,并对部分样品进行了真空退火。采用Lambda 900光谱仪测试了增透膜的低反光谱和透射光谱,并考察了其光谱稳定性;使用脉冲8 ns的355 nm激光测试了增透膜的激光损伤阈值(LIDT);... 用热舟蒸发法结合修正挡板技术制备了355 nm LaF3/MgF2增透膜,并对部分样品进行了真空退火。采用Lambda 900光谱仪测试了增透膜的低反光谱和透射光谱,并考察了其光谱稳定性;使用脉冲8 ns的355 nm激光测试了增透膜的激光损伤阈值(LIDT);采用Normarski显微镜对增透膜的表面缺陷密度和破斑形貌进行了观察。实验结果表明,制备得到的增透膜的剩余反射率较低,光谱稳定性好;真空退火对增透膜的激光损伤阈值没有改善;增透膜的破环形貌为散点形式,结合破斑深度测试表明薄膜的破坏源于薄膜和基底界面的缺陷点。JGS1熔石英基底由于有好的表面状况、固有的高激光损伤阈值和以其为基底的增透膜具有更低的表面场强,使得其上的增透膜有更高的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 薄膜 增透膜 热舟蒸发 真空退火 激光损伤阈值
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ODS强化钼铼合金的再结晶温度研究 被引量:7
16
作者 杨毅超 林小辉 +3 位作者 李延超 高选乔 梁静 李来平 《中国钼业》 2020年第3期46-48,共3页
对1%(质量分数)La2O3强化的锻造态Mo-14Re合金进行退火实验,退火温度为:1100℃、1300℃、1350℃和1500℃。通过室温拉伸、金相分析ODS强化Mo-14Re合金的再结晶行为。试验结果表明:1350℃左右为其完全再结晶温度,比未添加Re元素的轧制板... 对1%(质量分数)La2O3强化的锻造态Mo-14Re合金进行退火实验,退火温度为:1100℃、1300℃、1350℃和1500℃。通过室温拉伸、金相分析ODS强化Mo-14Re合金的再结晶行为。试验结果表明:1350℃左右为其完全再结晶温度,比未添加Re元素的轧制板材高200℃左右,且有更好的力学性能。 展开更多
关键词 ODS强化 钼铼合金 真空退火 再结晶
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Al掺杂ZnO薄膜的热处理工艺与性能研究 被引量:4
17
作者 江民红 刘心宇 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期53-56,共4页
采用陶瓷烧结靶材、射频磁控溅射法制备了(002)择优取向的Al掺杂ZnO薄膜,着重研究了不同的热处理工艺对显微结构、光电性能的影响。结果表明,真空400℃退火能大幅提高ZAO薄膜的导电性能,并保持其平均透光率在85%以上,而非真空退火(大气... 采用陶瓷烧结靶材、射频磁控溅射法制备了(002)择优取向的Al掺杂ZnO薄膜,着重研究了不同的热处理工艺对显微结构、光电性能的影响。结果表明,真空400℃退火能大幅提高ZAO薄膜的导电性能,并保持其平均透光率在85%以上,而非真空退火(大气环境)将使ZAO薄膜材料绝缘化,400℃真空退火时间或退火次数对导电性能无明显影响,但随退火时间和退火次数的增加薄膜组织恶化,在真空循环退火条件下尤为严重;经400℃真空退火的薄膜样品,其最低电阻率达8.4×10-4Ω.cm。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 真空退火 导电性能 组织
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反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜 被引量:6
18
作者 刘凤举 余志明 +1 位作者 陈爽 方梅 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2221-2225,共5页
采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高... 采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高于20%时两基底上薄膜均为V2O5;玻璃上V2O5薄膜500℃下退火3h生成VO2,退火后薄膜粗糙度明显下降;Si(100)上V2O5薄膜500℃下退火2h生成V2O3(104)织构,退火后薄膜粗糙度变化不大。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 真空退火 V2O3 VO2 V2O5
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冠状动脉支架的设计与加工工艺 被引量:4
19
作者 顾兴中 易红 +1 位作者 倪中华 王跃轩 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期898-902,共5页
提出了面向激光雕刻管状冠状动脉支架的通用化制作工艺流程,包括支架的结构设计、材料选择、切割、真空退火和电化学抛光等关键工序.研究了金属覆盖率、网孔、轴向短缩率和支撑效率等的相互影响,以选择合理的支撑环和连杆形式;确定了激... 提出了面向激光雕刻管状冠状动脉支架的通用化制作工艺流程,包括支架的结构设计、材料选择、切割、真空退火和电化学抛光等关键工序.研究了金属覆盖率、网孔、轴向短缩率和支撑效率等的相互影响,以选择合理的支撑环和连杆形式;确定了激光切割加工中最优化切割路径和机器参数;阐述了抛光前处理时酸洗液的选择、酸洗温度和时间的控制,以及真空退火时升温速度、冷却速度和保温时间的控制;分析了抛光液的选择和电极设计,以及抛光温度、电压和时间对电化学抛光效果的影响;并设计制作出了符合体外测试要求的支架样件. 展开更多
关键词 冠状动脉支架 制作工艺 激光切割 真空退火 电化学抛光
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真空镀钢板锌镁合金防腐蚀镀层研究进展 被引量:5
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作者 毛鑫光 马进 +1 位作者 颜秉熙 沈杰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期593-597,共5页
锌镁合金是一种新兴的钢铁保护性镀层,具有比纯镀锌钢板更优异的防腐蚀性能。本文综述了近年来国内外真空镀制备锌镁合金镀层的研究进展,表明相对于传统的湿法电镀和热浸镀,真空镀得到的镀层具有优良的附着力、致密度、可加工性和耐腐蚀... 锌镁合金是一种新兴的钢铁保护性镀层,具有比纯镀锌钢板更优异的防腐蚀性能。本文综述了近年来国内外真空镀制备锌镁合金镀层的研究进展,表明相对于传统的湿法电镀和热浸镀,真空镀得到的镀层具有优良的附着力、致密度、可加工性和耐腐蚀性,因此真空镀成为一种很有竞争力和发展前途的制备工艺,具有独特的优势,可望率先实现产业化。 展开更多
关键词 锌镁合金 钢板防腐蚀 真空镀 蒸发 退火
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