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题名澳大利亚输电过网费定价机制分析
被引量：16
- 1
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作者
陈政
张翔
荆朝霞
冷媛
陈中飞
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机构
南方电网科学研究院
直流输电技术国家重点实验室
华南理工大学电力学院
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出处
《南方电网技术》
北大核心
2017年第2期63-70,共8页
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文摘
输电定价是电力市场中的关键环节,也是我国当前电力市场改革的重要任务之一。对澳大利亚的输电过网费形成机制进行了深入研究,介绍了定价的基本思路,分析了准许收入的核算和归结、位置相关部分成本的收费比例、位置相关部分成本中涉及的电网使用程度的计算方法等关键问题的处理方法,重点介绍了基于电气距离的源流分析方法和RCNP定价方法。利用7节点系统算例对澳大利亚输电定价方法和英国输电定价方法进行了计算和比较分析。所介绍的澳大利亚输电过网费定价机制为我国输配电价改革提供了参考。
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关键词
电力市场
输电定价
过网费
边际成本
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Keywords
electricity market
transmission pricing
use of system charge
marginal cost
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分类号
F407.61
[经济管理—产业经济]
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题名适应光伏学习曲线的分布式交易过网费机制
被引量：11
- 2
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作者
石方迪
刘敦楠
余涛
徐尔丰
袁明瀚
黄宇鹏
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机构
国网上海市电力公司
新能源电力系统国家重点实验室(华北电力大学)
上海电力交易中心
浙江浙能能源服务有限公司
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出处
《智慧电力》
北大核心
2020年第3期96-103,共8页
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基金
国家社科基金重大项目(19ZDA081)
国网上海市电力公司项目(SGSHJY00GPJS1800310)。
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文摘
立足于分布式交易和光伏去补贴平价上网的背景,利用分布式交易缓解国家宏观政策调整对分布式光伏的不利影响,为分布式光伏在去补贴条件下提供投资回报途径和过渡机制。分析分布式交易模式、过网费机制和交易前后利益变化,分析过网费的关键问题,提出去补贴条件下适应光伏成本学习曲线的过网费机制,通过案例进行验证。结果表明,随着光伏单位容量成本降低,过网费的社会作用逐渐减小并回归输配电价水平。电网企业让渡部分输配电价空间,为光伏健康发展承担了积极的社会责任。
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关键词
分布式光伏
分布式交易
过网费
学习曲线
去补贴
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Keywords
distributed photovoltaic
distributed trading
use of system charge
learning curve
non-subsidy
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分类号
TM732
[电气工程—电力系统及自动化]
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题名英国改进的输电过网费定价机制分析
被引量：8
- 3
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作者
肖江
刘瑞丰
荆朝霞
贺元康
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机构
广州供电局有限公司
国家电网公司西北分部
华南理工大学电力学院
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出处
《中国电力》
CSCD
北大核心
2019年第2期53-60,共8页
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基金
国家自然科学基金资助项目(51437006)
国家电网公司科技项目(SGNW0000DKJS1800132)~~
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文摘
合理的输电价格是建设电力市场的重要基础。对英国改进的输电过网费定价机制进行研究,梳理英国输电定价改革历程,总结改进前后输电定价机制的区别,对改进的模型进行分析。利用7节点和IEEE14节点系统算例对改进的输电过网费模型进行运用,分析其引导发电机和负荷投资的有效性。相比于改进前的方法,改进的输电过网费定价方法可有效区分不同发电技术的过网费,且可以促进可再生能源的发展,可为中国输配电定价提供借鉴。
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关键词
电力市场
输电定价
过网费
改进的DCLFICRP模型
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Keywords
electricity market
transmission pricing
use of system charge
improved DCLF ICRP model
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分类号
TM7
[电气工程—电力系统及自动化]
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题名英国输电定价模式及在我国电网中的应用
被引量：8
- 4
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作者
亢楠
王秀丽
赵新宇
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机构
西安交通大学电气工程学院
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出处
《中国电力》
CSCD
北大核心
2004年第7期24-28,共5页
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基金
国家自然科学基金(59937150)
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文摘
英国是最早实行电力市场化改革的国家之一,于2001年实行了电力市场新模式,其中输电费用的计算比较完善。从接网费用、电网使用费及平衡服务费用3个方面阐述英国的输电定价机制。应用其电网使用费的模型对我国某大区电网进行电网使用费的计算与分析,结果表明该方法不但可给发电厂商和用户提供有效的经济信号,而且还可保证电网公司的年收支平衡,值得借鉴。
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关键词
电力工业
电力市场
输电定价模式
英国
电网
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Keywords
transmission pricing
connection charge
transmission network use of system(TNUoS) charge
balancing services use of system(BSUoS) charge
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分类号
F407.61
[经济管理—产业经济]
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题名电力市场环境下含大型风电场的输电网过网费定价模型
被引量：8
- 5
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作者
李振杰
袁越
黄晓莉
李芙蓉
周晶晶
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机构
电力规划设计总院
河海大学能源与电气学院
巴斯大学电子与电气工程学院
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出处
《电力系统自动化》
EI
CSCD
北大核心
2014年第13期58-63,共6页
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基金
教育部
国家外国专家局"海外名师"资助项目(MS2012HHDX021)~~
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文摘
从容量约束、负荷水平、电源类型等因素分析了容量系数对阻塞成本的影响。根据容量系数特点,在输电网过网费定价模型中加入电源年发电持续曲线,并计及电源节点注入功率对电网元件的年度增量成本的影响,提出了新的包含风电场的输电网过网费定价模型。该模型能够量化分析风电场接入系统后对电源节点过网费的影响,并反映容量约束、负荷水平和电源特性对系统的贡献,同时能够对具有相近容量系数的电源过网费评估作有效区分。通过3节点系统和IEEE 30节点系统分析计算,验证了所提定价模型的有效性。
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关键词
电力市场
风力发电
过网费
长期增量成本
阻塞成本
风电场
容量系数
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Keywords
electricity market
wind power generation
transmission use of system charge
long-run incremental cost
congestion cost
wind farms
capacity factor
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分类号
F426.61
[经济管理—产业经济]
TM614
[电气工程—电力系统及自动化]
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题名表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：5
- 6
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作者
董启明
郭小伟
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机构
电子科技大学光电信息学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
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基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
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文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as S
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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