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紫外刻划光栅母版及二代版衍射特性的模拟与分析
被引量：
6
1
作者
朱洪春
巴音贺希格
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期1151-1155,共5页
运用微分理论对刻线密度为1200 lp/mm的紫外刻划光栅母版及其二代复制版的衍射特性做了模拟,指出了二者之间存在的差异,并与测试结果做了对照。数值模拟表明,紫外刻划光栅二代复制版的衍射特性与其母版略有不同,原因是光栅槽形发生了改...
运用微分理论对刻线密度为1200 lp/mm的紫外刻划光栅母版及其二代复制版的衍射特性做了模拟,指出了二者之间存在的差异,并与测试结果做了对照。数值模拟表明,紫外刻划光栅二代复制版的衍射特性与其母版略有不同,原因是光栅槽形发生了改变,分别给出了采用多项式拟合槽形函数和傅里叶级数拟合槽形函数的方法。此理论分析方法为澄清光栅复制工艺中的争议完善翻版技术以及寻找提高紫外光栅衍射效率的途径提供了很好的理论参考依据。
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关键词
衍射与光栅
紫外刻划光栅
复制光栅
衍射特性
微分法
原文传递
题名
紫外刻划光栅母版及二代版衍射特性的模拟与分析
被引量：
6
1
作者
朱洪春
巴音贺希格
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期1151-1155,共5页
基金
国家自然科学基金(60478034)
中国科学院"优秀博士学位论文
+1 种基金
院长奖获得者科研启动专项资金"(O72031G070)
"十一五"国家科技支撑计划重大项目(2006BAK03A02)资助课题
文摘
运用微分理论对刻线密度为1200 lp/mm的紫外刻划光栅母版及其二代复制版的衍射特性做了模拟,指出了二者之间存在的差异,并与测试结果做了对照。数值模拟表明,紫外刻划光栅二代复制版的衍射特性与其母版略有不同,原因是光栅槽形发生了改变,分别给出了采用多项式拟合槽形函数和傅里叶级数拟合槽形函数的方法。此理论分析方法为澄清光栅复制工艺中的争议完善翻版技术以及寻找提高紫外光栅衍射效率的途径提供了很好的理论参考依据。
关键词
衍射与光栅
紫外刻划光栅
复制光栅
衍射特性
微分法
Keywords
diffraction
and
grating
ultraviolet
ruled
grating
replica
grating
diffraction
characteristic
differential
theory
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
O438.2 [理学—光学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
紫外刻划光栅母版及二代版衍射特性的模拟与分析
朱洪春
巴音贺希格
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
6
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参考文献
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统计分析
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