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均匀流作用下悬浮隧道管段水动力参数分析 被引量:2
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作者 王广地 周晓军 高波 《四川大学学报(工程科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期96-102,共7页
为研究断面形状对悬浮隧道管段绕流升力系数以及阻力系数的影响,采用RNGk-ε湍流模型,通过ADI-NA流体模块对8种不同几何形状、高宽比系数的悬浮隧道管段在均匀流作用下的绕流场进行了数值模拟,分析了悬浮隧道管段绕流升力、阻力系数的... 为研究断面形状对悬浮隧道管段绕流升力系数以及阻力系数的影响,采用RNGk-ε湍流模型,通过ADI-NA流体模块对8种不同几何形状、高宽比系数的悬浮隧道管段在均匀流作用下的绕流场进行了数值模拟,分析了悬浮隧道管段绕流升力、阻力系数的变化规律。结果表明:管段曲率是影响绕流场的重要参数,减小高宽比系数,采用平缓曲率断面可显著减小绕流升力、阻力系数;具有棱角的方形、长方形断面绕流升力、阻力系数均较大,压力变化复杂,不利于结构稳定;在相同断面面积的条件下,采用多边形断面以及曲边形断面设计可以大大减小绕流升力、阻力。 展开更多
关键词 悬浮隧道 均匀流 升力系数 阻力系数 数值模拟
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芬斯拉度量的正齐次提升
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作者 林怡谋 《漳州师范学院学报(自然科学版)》 2003年第2期5-12,共8页
本文以最一般的方式定义了流形M上Finsler度量g在T(M)上的提升g,又引进对一般的Finsler联络FG而言的应变张量场S,并证明了它的所有N-分解因子全是正齐次的。
关键词 芬斯拉度量 正齐次提升 FINSLER度量 Finsler联络 应变张量场 N-分解因子 FINSLER空间
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Fabrication of extremely thermal-stable GaN template on Mo substrate using double bonding and step annealing process
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作者 汪青 刘扬 +2 位作者 孙永健 童玉珍 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2016年第8期15-18,共4页
A new layer transfer technique which comprised double bonding and a step annealing process was utilized to transfer the GaN epilayer from a sapphire substrate to a Mo substrate. Combined with the application of the th... A new layer transfer technique which comprised double bonding and a step annealing process was utilized to transfer the GaN epilayer from a sapphire substrate to a Mo substrate. Combined with the application of the thermal-stable bonding medium, the resulting two-inch-diameter GaN template showed extremely good stability under high temperature and low stress state. Moreover, no cracks and winkles were observed. The transferred GaN template was suitable for homogeneous epitaxial, thus could be used for the direct fabrication of vertical LED chips as well as power electron devices. It has been confirmed that the double bonding and step annealing technique together with the thermal-stable bonding layer could significantly improve the bonding strength and stress relief, finally enhancing the thermal stability of the transferred GaN template. 展开更多
关键词 gallium nitride Mo substrate medium bonding laser lift off thermal stability homogeneous epitaxial
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