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A two-dimensional analytical subthreshold behavior model for junctionless dual-material cylindrical surrounding-gate MOSFETs 被引量:1
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作者 李聪 庄奕琪 +1 位作者 张丽 靳刚 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期619-624,共6页
A two-dimensional analytical subthreshold behavior model for junctionless dual-material cylindrical surrounding- gate (JLDMCSG) metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) is proposed. It is deriv... A two-dimensional analytical subthreshold behavior model for junctionless dual-material cylindrical surrounding- gate (JLDMCSG) metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) is proposed. It is derived by solving the two-dimensional Poisson's equation in two continuous cylindrical regions with any simplifying assumption. Using this analytical model, the subthreshold characteristics of JLDMCSG MOSFETs are investigated in terms of channel electro- static potential, horizontal electric field, and subthreshold current. Compared to junctionless single-material cylindrical surrounding-gate MOSFETs, JLDMCSG MOSFETs can effectively suppress short-channel effects and simultaneously im- prove carrier transport efficiency. It is found that the subthreshold current of JLDMCSG MOSFETs can be significantly reduced by adopting both a thin oxide and thin silicon channel. The accuracy of the analytical model is verified by its good agreement with the three-dimensional numerical simulator ISE TCAD. 展开更多
关键词 surrounding-gate mosfet dual-material gate junctionless transistor analytical model
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非对称HALO掺杂栅交叠轻掺杂漏围栅MOSFET的解析模型 被引量:2
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作者 李聪 庄奕琪 +2 位作者 韩茹 张丽 包军林 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期536-543,共8页
为抑制短沟道效应和热载流子效应,提出了一种非对称HALO掺杂栅交叠轻掺杂漏围栅MOSFET新结构.通过在圆柱坐标系中精确求解三段连续的泊松方程,推导出新结构的沟道静电势、阈值电压以及亚阈值电流的解析模型.结果表明,新结构可有效抑制... 为抑制短沟道效应和热载流子效应,提出了一种非对称HALO掺杂栅交叠轻掺杂漏围栅MOSFET新结构.通过在圆柱坐标系中精确求解三段连续的泊松方程,推导出新结构的沟道静电势、阈值电压以及亚阈值电流的解析模型.结果表明,新结构可有效抑制短沟道效应和热载流子效应,并具有较小的关态电流.此外,分析还表明栅交叠区的掺杂浓度对器件的亚阈值电流几乎没有影响,而栅电极功函数对亚阈值电流的影响较大.解析模型结果和三维数值仿真工具ISE所得结果高度符合. 展开更多
关键词 非对称HALO掺杂 栅交叠轻掺杂漏 围栅mosfet 解析模型
原文传递
短沟道三材料柱状围栅MOSFET的解析模型
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作者 赵青云 于宝旗 +1 位作者 苏丽娜 顾晓峰 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期311-316,365,共7页
在柱坐标系下利用电势的抛物线近似,求解二维泊松方程得到了短沟道三材料柱状围栅金属氧化物半导体场效应管的中心及表面电势。推导了器件阈值电压、亚阈值区电流和亚阈值摆幅的解析模型,分析了沟道直径、栅氧化层厚度和三栅长度比对阈... 在柱坐标系下利用电势的抛物线近似,求解二维泊松方程得到了短沟道三材料柱状围栅金属氧化物半导体场效应管的中心及表面电势。推导了器件阈值电压、亚阈值区电流和亚阈值摆幅的解析模型,分析了沟道直径、栅氧化层厚度和三栅长度比对阈值电压、亚阈值区电流和亚阈值摆幅的影响。利用Atlas对具有不同结构参数的器件进行了模拟研究和比较分析。结果表明,基于解析模型得到的计算值与模拟值一致,验证了所建模型的准确性,为设计和应用此类新型器件提供了理论基础。 展开更多
关键词 三材料柱状围栅金属氧化物半导体场效应管 表面势 阈值电压 亚阈值区电流 亚阈值摆幅
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双栅和环栅MOSFET中短沟效应引起的阈值电压下降 被引量:5
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作者 甘学温 王旭社 张兴 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1581-1585,共5页
基于电荷分享原理 ,推导了双栅和环栅 MOSFET短沟效应引起的阈值电压下降 ,分析了衬底掺杂浓度、栅氧化层厚度及硅膜厚度等因素对阈值电压下降的影响 ,并用数值模拟验证了理论结果 .这些研究结果对进一步开展纳米
关键词 双栅mosfet 环栅mosfet 阈值电压下降 短沟效应 场效应晶体管
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