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浮法抛光超光滑表面加工技术被引量：18: 1; 作者高宏刚曹健林陈斌《光学技术》 EI CAS CSCD 1995年第3期40-43,共4页; 浮法抛光技术首先出现于日本，是加工超光滑表面的先进技术之一。本文详细介绍用浮法抛光加工超光滑表面的机械结构和加工过程，与传统的沥青抛光方法进行了比较，并分析了材料去除机理。最后简单介绍我国研究浮法抛光技术的进展。; 关键词浮法抛光锡超精密抛光抛光技术光学零件; 原文传递

晶体的超精密抛光被引量：17: 2; 作者谢会东王晓青沈光球《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期1035-1040,共6页; 超光滑表面在现代科学技术中具有重要意义。超精密抛光技术是实现超光滑表面的主要方法。本文对超光滑表面的概念、影响超精密抛光质量的因素、几种超精密抛光方法及其所能达到的抛光效果、抛光效果的测量与评价方法等进行了介绍。同时... 展开更多; 关键词超精密抛光抛光效果超光滑表面描述发展阶段技术发展趋势评价方法现状质量; 下载PDF 职称材料

亚纳米量级光滑表面的超精密抛光被引量：9: 3; 作者高宏刚陈斌 +1 位作者张俊平曹健林《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期75-79,共5页; 软Ｘ射线光学的发展，对光学元件表面提出超光滑要求，为此我们开展了使用锡磨盘的超精密抛光方法研究。本文介绍锡磨盘磨削的实验装置及主要结果。利用这种方法已加工出表面粗糙度优于０．; 关键词超光滑表面超精密抛光锡亚纳米量级; 下载PDF 职称材料

GaN 用衬底材料 LiGaO_2 晶体超精密抛光的初步实验被引量：3: 4; 作者谢伦高宏刚 +3 位作者陈斌曹健林王建明刘琳《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1997年第5期57-62,共6页; 主要介绍了作为发光半导体ＧａＮ衬底材料的ＬｉＧａＯ２单晶超精密抛光方法及初步结果。利用聚氨酯抛光盘配合ＳｉＯ２悬浮液，采用机械化学抛光方法，已加工出表面粗糙度优于０．１ｍｍ，的超光滑表面。; 关键词超精密抛光表面粗糙度 LiGaO2 晶体氮化镓; 下载PDF 职称材料

FP500型超精密锡磨盘平面研抛机的研制被引量：2: 5; 作者高宏刚陈斌陈琦《光学技术》 EI CAS CSCD 2000年第6期486-488,493,共4页; 为减小在超光滑表面制造中对经验的依赖 ,为提高加工精度及重复精度 ,研制了采用锡磨盘的超精密平面研抛机。该机床集超精密车削与超精密研抛于一体 ,可以进行基于多种基本原理的超光滑研抛实验研究。介绍了超精密平面研抛机总体设计方... 展开更多; 关键词超精密机床研磨超光滑抛光抛光研抛机; 原文传递

油石预磨机床设计: 6; 作者隋善勇《哈尔滨轴承》 2013年第2期67-68,78,共3页; 通过分析油石的各种工作状态所设计的油石预磨机床具有很宽的加工范围,适应尺寸范围内的各种油石表面的预磨加工。; 关键词油石预磨机床结构设计超精研加工; 下载PDF 职称材料

超光滑表面清洗技术现状及发展趋势被引量：5: 7; 作者王宇蔡亚梅滕霖《航空精密制造技术》北大核心 2003年第2期1-4,9,共5页; 论述了目前超光滑表面清洗的基本理论,常用清洗工艺及清洗方法,最后对清洗技术的发展前景进行了展望。; 关键词超光滑表面清洗技术; 原文传递

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