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不同基因型玉米间混作优势带型配置 被引量:25
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作者 赵亚丽 康杰 +1 位作者 刘天学 李潮海 《生态学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3855-3864,共10页
为了确定不同基因型玉米间混作的优势带型配置,采用高矮秆玉米豫单610||郑单958(YD610||ZD958)间混作和株高相近玉米登海662||浚单20(DH662||XD20)间混作,研究不同间混作带型配置模式对两个玉米间混作群体的产量、抗逆性、光合性能及田... 为了确定不同基因型玉米间混作的优势带型配置,采用高矮秆玉米豫单610||郑单958(YD610||ZD958)间混作和株高相近玉米登海662||浚单20(DH662||XD20)间混作,研究不同间混作带型配置模式对两个玉米间混作群体的产量、抗逆性、光合性能及田间小气候的影响。结果表明:YD610||ZD958和DH662||XD20间混作群体均比单作有显著的增产效果。高矮秆玉米YD610||ZD958间混作以行比2∶4(I2∶4)的土地当量比(LER)最高,I2∶4的LER分别比行比1∶1(I1∶1)、行比2∶2(I2∶2)和混作(M)高8.1%、2.1%和1.2%。株高相近玉米DH662||XD20间混作以行比2∶2的LER最高,I2∶2的LER分别比I1∶1、I2∶4和M高6.2%、4.0%和9.3%。间混作群体增产的主要原因在于增强了群体的抗病和抗倒伏能力,改善了群体的通风、透光状况,使群体叶面积指数和光合速率提高。因此,当高矮秆玉米品种搭配间混作时,宜采用行比2∶4间作带型模式(2行高秆品种,4行低秆品种);而株高相近玉米品种搭配间混作时,宜采用行比2∶2间作带型模式。 展开更多
关键词 玉米 间混作 带型 基因型 土地当量比
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TFT-LCD一种条纹Mura的研究与改善 被引量:1
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作者 张正林 曹淑辉 +2 位作者 王炎 吕琛 封振宇 《光电子技术》 CAS 2022年第1期47-52,共6页
针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接... 针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接触角变小,造成显影后背面曝光工艺中BM未固化层发生热融溢流(Melt Flow)现象,固化工艺后形成BM边缘内切。研究发现,通过优化背面曝光工艺参数和关闭曝光上灯可以有效改善条纹Mura的程度;且将显影机导轮“平行式”排列改造成“之字式”排列,可以进一步改善条纹Mura现象。改善后条纹Mura的发生率由0.8%降至0,改善效果显著。 展开更多
关键词 条纹缺陷 内切 背面曝光 静电积累 “之字式”排列
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