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题名不同基因型玉米间混作优势带型配置
被引量:25
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作者
赵亚丽
康杰
刘天学
李潮海
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机构
河南农业大学农学院
农业部玉米区域技术创新中心
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出处
《生态学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期3855-3864,共10页
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基金
国家现代玉米产业技术体系专项(nycytx-02-19)
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文摘
为了确定不同基因型玉米间混作的优势带型配置,采用高矮秆玉米豫单610||郑单958(YD610||ZD958)间混作和株高相近玉米登海662||浚单20(DH662||XD20)间混作,研究不同间混作带型配置模式对两个玉米间混作群体的产量、抗逆性、光合性能及田间小气候的影响。结果表明:YD610||ZD958和DH662||XD20间混作群体均比单作有显著的增产效果。高矮秆玉米YD610||ZD958间混作以行比2∶4(I2∶4)的土地当量比(LER)最高,I2∶4的LER分别比行比1∶1(I1∶1)、行比2∶2(I2∶2)和混作(M)高8.1%、2.1%和1.2%。株高相近玉米DH662||XD20间混作以行比2∶2的LER最高,I2∶2的LER分别比I1∶1、I2∶4和M高6.2%、4.0%和9.3%。间混作群体增产的主要原因在于增强了群体的抗病和抗倒伏能力,改善了群体的通风、透光状况,使群体叶面积指数和光合速率提高。因此,当高矮秆玉米品种搭配间混作时,宜采用行比2∶4间作带型模式(2行高秆品种,4行低秆品种);而株高相近玉米品种搭配间混作时,宜采用行比2∶2间作带型模式。
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关键词
玉米
间混作
带型
基因型
土地当量比
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Keywords
maize
inter-cropping and mixed-cropping
stripe arrangement
genotype
land equivalent ratio
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分类号
S513
[农业科学—作物学]
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题名TFT-LCD一种条纹Mura的研究与改善
被引量:1
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作者
张正林
曹淑辉
王炎
吕琛
封振宇
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机构
南京京东方显示技术有限公司
山东大学化学与化工学院
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出处
《光电子技术》
CAS
2022年第1期47-52,共6页
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文摘
针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接触角变小,造成显影后背面曝光工艺中BM未固化层发生热融溢流(Melt Flow)现象,固化工艺后形成BM边缘内切。研究发现,通过优化背面曝光工艺参数和关闭曝光上灯可以有效改善条纹Mura的程度;且将显影机导轮“平行式”排列改造成“之字式”排列,可以进一步改善条纹Mura现象。改善后条纹Mura的发生率由0.8%降至0,改善效果显著。
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关键词
条纹缺陷
内切
背面曝光
静电积累
“之字式”排列
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Keywords
stripe Mura
undercut
backside exposure
electrostatic accumulation
Zigzag arrangement
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分类号
TN383
[电子电信—物理电子学]
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