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羟基磷灰石-聚乳酸复合膜的制备与表征 被引量:7
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作者 袁秋华 巫剑波 +5 位作者 秦草坪 郭志威 刘家裕 林松鑫 柯善明 张培新 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期10-17,共8页
采用化学沉淀法制备羟基磷灰石粉体,通过溶液共混、磁力搅拌的方法制备羟基磷灰石-聚乳酸(hydroxyapatite-polylactic acid,HA-PLA)悬浮液,在不锈钢304基体表面采用旋涂法涂覆HA-PLA复合膜.研究在300℃(空气)、600℃(空气)、300℃(氮气)... 采用化学沉淀法制备羟基磷灰石粉体,通过溶液共混、磁力搅拌的方法制备羟基磷灰石-聚乳酸(hydroxyapatite-polylactic acid,HA-PLA)悬浮液,在不锈钢304基体表面采用旋涂法涂覆HA-PLA复合膜.研究在300℃(空气)、600℃(空气)、300℃(氮气)和800℃(氮气)等不同热处理条件对HA-PLA复合膜组成和形貌的影响.所制备的复合膜通过X射线衍射、傅里叶变换红外光谱、扫描电子显微镜、X射线能量色散仪、热重-差热分析和X射线光电子能谱等测试手段进行表征.结果表明,所制备的HA-PLA复合膜结晶度好、纯度较高、不存在杂质相;600℃(空气)热处理后的HA-PLA复合膜能达到黏结致密、无裂缝效果,且无需置于无氧及800℃高温条件下处理,在600℃温度条件下PLA分解残留的碳残片可有效阻止HA分解成其他杂质. 展开更多
关键词 生物材料学 羟基磷灰石 聚乳酸 旋涂法 复合膜 热处理
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Recent Advances in Spin-coating Precursor Mediated Chemical Vapor Deposition of Two-Dimensional Transition Metal Dichalcogenides
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作者 Dingyi Shen Yejun Jin +9 位作者 Zucheng Zhang Rong Song Miaomiao Liu Wei Li Xin Li Ruixia Wu Bo Li Jia Li Bei Zhao Xidong Duan 《Precision Chemistry》 2024年第7期282-299,共18页
Two-dimensional(2D)transition metal dichalcogenides(TMDs)have garnered widespread interest in the scientific community and industry for their exceptional physical and chemistry properties,and great potential for appli... Two-dimensional(2D)transition metal dichalcogenides(TMDs)have garnered widespread interest in the scientific community and industry for their exceptional physical and chemistry properties,and great potential for applications in diverse fields including(opto)electronics,electrocatalysis,and energy storage.Chemical vapor deposition(CVD)is one of the most compelling growth methods for the scalable growth of high-quality 2D TMDs.However,the conventional CVD process for synthesis of 2D TMDs still encounters significant challenges,primarily attributed to the high melting point of precursor powders,and achieving a uniform distribution of precursor atmosphere on the substrate to obtain controllable smaple domains is difficult.The spin-coating precursor mediated chemical vapor deposition(SCVD)strategy provides refinement over traditional methods by eliminating the use of solid precursors and ensuring a more clean and uniform distribution of the growth material on the substrate.Additionally,the SCVD process allows fine-tuning of material thickness and purity by manipulating solution composition,concentration,and the spin coating process.This Review presents a comprehensive summary of recent advances in controllable growth of 2D TMDs with a SCVD strategy.First,a series of various liquid precursors,additives,source supply methods,and substrate engineering strategies for preparing atomically thin TMDs by SCVD are introduced.Then,2D TMDs heterostructures and novel doped TMDs fabricated through the SCVD method are discussed.Finally,the current challenges and perspectives to synthesize 2D TMDs using SCVD are discussed. 展开更多
关键词 spin-coating Chemical vapor deposition Liquid precursor Substrate Two-dimensional materials HETEROSTRUCTURE DOPING film
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四叔丁基四氮杂卟啉铅旋涂膜的气敏性研究 被引量:3
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作者 左霞 王彬 +2 位作者 吴谊群 陈志敏 韦永德 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2004年第2期221-224,共4页
采用可溶性的四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)_4],利用旋涂技术制备了四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜,并对旋涂膜进行了红外光谱、电子吸收光谱分析。PbTAP(t-Bu)_4在近紫外区(300~400nm)及可见区(500~700nm)有强吸收带,膜与配... 采用可溶性的四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)_4],利用旋涂技术制备了四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜,并对旋涂膜进行了红外光谱、电子吸收光谱分析。PbTAP(t-Bu)_4在近紫外区(300~400nm)及可见区(500~700nm)有强吸收带,膜与配合物溶液相比电子吸收光谱谱带明显变宽并略有红移。四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜对NH_3和NO_2气体的气敏性研究结果表明:该旋涂膜具有较好的气敏性,PbTAP(t-Bu)_4旋涂膜对NH_3的灵敏度大约是NO_2的2倍,在10s内就可以达到平衡值,并且表现出较好的响应和恢复能力,而对NO_2气体表现出较差的可逆性。 展开更多
关键词 四叔丁基四氮杂卟啉铅 旋涂膜 气敏性
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右旋聚乳酸薄膜的结晶形态 被引量:4
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作者 李海东 林驭寒 +3 位作者 聂伟 邓超 陈学思 姬相玲 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期806-810,共5页
利用旋涂法制备一系列右旋聚乳酸(PDLA)均聚物薄膜,在不同溶液浓度、结晶温度、结晶时间、溶剂和基底条件下对其进行等温结晶处理,得到直径和长度大小不等的短棒和纤维束球状等形态,利用原子力显微镜(AFM)研究了不同条件下所得到的PDLA... 利用旋涂法制备一系列右旋聚乳酸(PDLA)均聚物薄膜,在不同溶液浓度、结晶温度、结晶时间、溶剂和基底条件下对其进行等温结晶处理,得到直径和长度大小不等的短棒和纤维束球状等形态,利用原子力显微镜(AFM)研究了不同条件下所得到的PDLA薄膜的结晶形态.提出了可能的结晶演变过程和生长模型.通过控制不同的结晶条件,可以得到PDLA均聚物薄膜的不同结晶形态. 展开更多
关键词 右旋聚乳酸 旋涂法 薄膜 结晶形态
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酞菁铜旋涂薄膜的制备与气敏性能研究 被引量:3
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作者 李强 霍丽华 +1 位作者 高山 赵辉 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第12期1970-1974,共5页
本文制备了2,9,16,23-四异丙氧基和2,9,16,23-四对甲基苯氧基2种酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4,CuPc(OC7H7)4,简称为烷氧基酞菁铜和苯氧基酞菁铜),并在基片上成功制得了二者的旋涂膜。利用AFM(Atomic force microscope)、UV-Vis和FTIR对薄膜的... 本文制备了2,9,16,23-四异丙氧基和2,9,16,23-四对甲基苯氧基2种酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4,CuPc(OC7H7)4,简称为烷氧基酞菁铜和苯氧基酞菁铜),并在基片上成功制得了二者的旋涂膜。利用AFM(Atomic force microscope)、UV-Vis和FTIR对薄膜的表面形貌和谱学性质进行了分析。结果表明,以一定的旋转速度进行涂膜,可以获得较为均匀的酞菁铜薄膜,并且2种取代基团的酞菁表面形貌有着较为明显的差别。在室温下测试了2种酞菁薄膜对甲醇和乙醇气体的敏感性能,结果显示薄膜对测试的醇类有较高的灵敏度,对乙醇的灵敏度要大于甲醇,在同种测试气氛下苯氧基酞菁铜薄膜的气敏性能要高于烷氧基酞菁铜薄膜。2种薄膜对浓度为30μL·L-1乙醇气体的响应和恢复时间分别在30s和60s内。 展开更多
关键词 酞菁铜 旋涂膜 气敏特性
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偶氮聚合物薄膜的吸收谱和二次谐波产生的温度特性 被引量:2
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作者 高学喜 王文军 +2 位作者 刘云龙 陶绪泉 李淑红 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期236-240,共5页
研究了一种偶氮聚合物薄膜的光谱和二阶非线性光学特性.研究结果表明,聚合体中的偶氮发色团以反式异构体形式存在.加热可使分子之间的相互作用减弱,聚集体的聚集程度降低;温度低于70℃时聚集体的结构不会发生变化,分子间相互作用的改变... 研究了一种偶氮聚合物薄膜的光谱和二阶非线性光学特性.研究结果表明,聚合体中的偶氮发色团以反式异构体形式存在.加热可使分子之间的相互作用减弱,聚集体的聚集程度降低;温度低于70℃时聚集体的结构不会发生变化,分子间相互作用的改变能够完全恢复;高于70℃降温后聚集体聚集程度的降低不能完全恢复.在一定温度下极化可使发色团偶极子定向有序排列,形成J-聚集体.偶氮聚合物薄膜的二阶非线性光学特性起源于偶极子模型,极化温度是影响极化膜二次谐波强度的重要因素之一,该偶氮聚合物薄膜的最佳极化温度约为90℃. 展开更多
关键词 偶氮聚合物 旋涂膜 电晕极化 二次谐波产生
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AgTCNQ衍生物旋涂膜绿光可擦重写光存储性质研究 被引量:1
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作者 黄伍桥 吴谊群 +1 位作者 顾冬红 干福熹 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1164-1168,共5页
报道了新型电子转移复合物AgTCNQ脂类衍生物 :银 (2 ,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷 )的旋涂薄膜的光谱特征、薄膜的静态绿光可擦重写光存储性能 ,并研究了薄膜的可擦重写机理。结果表明该薄膜在 388nm和 6 75nm处有两个... 报道了新型电子转移复合物AgTCNQ脂类衍生物 :银 (2 ,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷 )的旋涂薄膜的光谱特征、薄膜的静态绿光可擦重写光存储性能 ,并研究了薄膜的可擦重写机理。结果表明该薄膜在 388nm和 6 75nm处有两个源于复合物中阴离子自由基TCNQ(C2 H4COOCH3 ) -2 中的电子跃迁的特征吸收峰 ;AgTCNQ酯类衍生物旋涂膜具有良好的绿光光存储性能 ,该薄膜在写入功率为 9mW ,写入脉冲为 80ns,擦除功率为 4mW ,擦除脉冲为 5 0 0ns时反射率衬比度大于 15 % ,循环次数可达 10 0次以上 ,并且没有出现任何疲劳现象。机理研究表明 ,AgTCNQ酯类衍生物与AgTCNQ有着相同的可逆光致变色机理 ,即在激光作用下因复合物中可逆电子转移引起薄膜光学性质的可逆变化 ,从而实现可擦重写光信息存储。 展开更多
关键词 薄膜光学 高密度光存储 可擦重写存储 旋涂膜 AgTcNQ脂类衍生物
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Dy^(3+) activated LaVO_4 films synthesized by precursors with different solution concentrations
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作者 吴丹丹 马永青 +5 位作者 张贤 钱仕兵 郑赣鸿 吴明在 李广 孙兆奇 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第4期325-329,共5页
Using different-solution-concentration precursors with citric acid as chelating agent and polyvinyl alcohol as dispersing media, Dy3+ activated LaVO4 films were deposited on indium tin oxide (ITO) substrates. The s... Using different-solution-concentration precursors with citric acid as chelating agent and polyvinyl alcohol as dispersing media, Dy3+ activated LaVO4 films were deposited on indium tin oxide (ITO) substrates. The scanning electronic microscope (SEM) showed that the compact and crack-free LaVO4:Dy3+ film could be obtained at a suitable solution concentration. The deposited films could absorb the ultraviolet light below 400 nm and were transparent in the visible and infrared region as evidenced by the transmission spectra, and the photolumines- cence spectra exhibited the characteristic emissions of Dy3+ peaking at 484 (blue) and 576 (yellow) nm due to the transitions of 4F9/2→6Hls/2 and 4F9/2→6H13/2, respectively. The potential application of LaVOa:Dy3+ film in the dye-sensitized solar cell (DSSC) was also discussed. 展开更多
关键词 LaVO4:Dy3+ luminescent film spin-coating PHOTOLUMINESCENCE rare earths
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旋涂法制备ICF分解实验用薄膜靶 被引量:1
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作者 朱秀榕 余意 +4 位作者 苑举君 余华军 张宪科 周斌 杜艾 《赣南师范学院学报》 2015年第6期31-34,共4页
采用旋涂工艺,以K9玻璃为衬底,制备低表面粗糙度的惯性约束聚变(ICF)分解实验用的聚苯乙烯(CH)和聚氯乙烯(PVC)平面薄膜靶,对它们的厚度、宽度和表面光洁度等靶参数进行测量.结果表明,CH和PVC平面薄膜靶的厚度分别为18μm和6μm,对应的... 采用旋涂工艺,以K9玻璃为衬底,制备低表面粗糙度的惯性约束聚变(ICF)分解实验用的聚苯乙烯(CH)和聚氯乙烯(PVC)平面薄膜靶,对它们的厚度、宽度和表面光洁度等靶参数进行测量.结果表明,CH和PVC平面薄膜靶的厚度分别为18μm和6μm,对应的宽度分别为200μm和300μm.CH和PVC平面薄膜靶都具有较好的表面光洁度,它们平均粗糙度Ra的最大值分别3.7 nm和4.5 nm,TIR表面最高点与最低点差值TIR的最大值分别58.4 nm和56.8 nm. 展开更多
关键词 惯性约束聚变 聚苯乙烯 聚氯乙烯 平面薄膜靶 旋涂 薄膜
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旋涂法制备掺杂BiOX薄膜及光催化性能研究 被引量:1
10
作者 余海丽 张卜生 +3 位作者 谷龙艳 李磊 雷岩 郑直 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期2270-2276,2287,共8页
采用旋涂的方法在基底材料表面原位生长Bi OX(X=Cl、Br、I)薄膜材料。样品的晶体结构和光学性质等通过X射线粉末衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)进行了表征。结果表明旋涂法制备的Bi OX薄膜是纯净的,无其... 采用旋涂的方法在基底材料表面原位生长Bi OX(X=Cl、Br、I)薄膜材料。样品的晶体结构和光学性质等通过X射线粉末衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)进行了表征。结果表明旋涂法制备的Bi OX薄膜是纯净的,无其他杂质,均匀性好。通过对Bi OX薄膜材料的光催化性能和瞬态表面光电压技术(TPV)进行了研究,发现卤素掺杂的Bi OBr0. 48I0. 52具有较好的光催化性能。其结果表明催化性能提高的原因可能是Bi OBr0. 48I0. 52薄膜在光照下可以产生更强的光生载流子并具有更长的光生载流子寿命。 展开更多
关键词 旋涂法 BiOX薄膜 均匀 光催化 载流子动力学
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一种新颖的制备聚合物光电薄膜的旋涂装置 被引量:1
11
作者 文尚胜 王保争 +2 位作者 张剑平 桂宇畅 赵宝锋 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第9期903-905,共3页
设计了一种新颖的制备聚合物光电薄膜的旋涂装置。该设计在传统旋涂装置的基础了,通过增加聚合物溶液载台转盘法向进动功能,改进了聚合物溶液成膜质地疏松、致密度不高问题,减少了成膜过程中产业气泡等缺陷的几率。通过增加聚合物溶液... 设计了一种新颖的制备聚合物光电薄膜的旋涂装置。该设计在传统旋涂装置的基础了,通过增加聚合物溶液载台转盘法向进动功能,改进了聚合物溶液成膜质地疏松、致密度不高问题,减少了成膜过程中产业气泡等缺陷的几率。通过增加聚合物溶液载台转盘径向变轴功能,改善了聚合物薄膜径向厚度的均匀性,从而可以借助于旋涂法制备更大尺寸的薄膜器件。理论和试验结果表明,该项改进设计对提高聚合物光电薄膜的制备质量有一定的实用价值。 展开更多
关键词 聚合物 旋涂 均匀性 薄膜
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八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍旋涂膜对NO_2的气敏特性
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作者 王彬 左霞 +2 位作者 吴谊群 贺春英 段武彪 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期228-231,共4页
为了设计对NO2气体具有高灵敏度、可逆性和专一选择性的敏感材料和克服敏感膜制作工艺复杂的缺点,利用旋涂技术制备了八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍(N iNc(iso-PeO)8)气敏薄膜,采用AFM观察其表面形貌,研究了N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2的气敏... 为了设计对NO2气体具有高灵敏度、可逆性和专一选择性的敏感材料和克服敏感膜制作工艺复杂的缺点,利用旋涂技术制备了八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍(N iNc(iso-PeO)8)气敏薄膜,采用AFM观察其表面形貌,研究了N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2的气敏性,分析了薄膜形貌和测试温度等因素对薄膜气敏性的影响.结果表明,旋涂溶液浓度较低时制备的薄膜表面均匀,平整度较好,萘酞菁分子以无序聚集形式排列在基片上.工作温度升高,薄膜对NO2的响应恢复能力增强;不同温度下N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2灵敏度的顺序为:20℃<50℃<75℃<100℃>130℃. 展开更多
关键词 八异戊氧基-2 3-萘酞菁 旋涂膜 气敏性
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四叔丁基四氮杂卟啉铅旋涂膜的氨敏特性
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作者 左霞 王彬 +2 位作者 吴谊群 陈志敏 韦永德 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期134-136,共3页
为了开发新的高灵敏度、高选择性氨敏材料,研究了四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)4]旋涂膜室温下对氨气的敏感特性.PbTAP(t-Bu)4旋涂膜最低能检测体积分数为3×10-6的氨气,在氨气体积分数为6×10-5时灵敏度为30,器件对氨气响... 为了开发新的高灵敏度、高选择性氨敏材料,研究了四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)4]旋涂膜室温下对氨气的敏感特性.PbTAP(t-Bu)4旋涂膜最低能检测体积分数为3×10-6的氨气,在氨气体积分数为6×10-5时灵敏度为30,器件对氨气响应和恢复迅速,响应时间和恢复时间分别为6 s和38 s.同时还比较了PbTAP(t-Bu)4旋涂膜对NH3、NO2、CO、H2、苯和丙酮等气体的敏感性,结果显示该薄膜对氨有独特的选择性,对于微量氨的检测具有实用价值. 展开更多
关键词 四氮杂卟啉铅 旋涂膜 氨敏
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酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究
14
作者 李强 霍丽华 +1 位作者 高山 赵经贵 《光散射学报》 2003年第3期200-202,共3页
采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种... 采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm。 展开更多
关键词 酞菁铜旋涂薄膜 表面形貌 光谱学性质 有机半导体气敏材料
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Disiloxane-Bridged Cyclopolymer as Polymer Dielectrics
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作者 邓昶 刘和文 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2017年第5期571-575,I0002,共6页
We studied the dielectric properties of organosilicon-containing helical cyclopolymer PbMA which consists of PMMA main chains and tetramethyldisiloxane side rings. PbMA formed films with excellent uniformity through s... We studied the dielectric properties of organosilicon-containing helical cyclopolymer PbMA which consists of PMMA main chains and tetramethyldisiloxane side rings. PbMA formed films with excellent uniformity through spin-coating onto highly n-doped silicon (n-Si) wafers for constructing devices of dielectric measurements, on which the dielectric properties and I-V characteristics of PbMA were studied. PbMA has a much lower dielectric constant (lower than 2.6) in the frequency range of 10-105 Hz, and better thermal stability than PMMA does. I-V data showed that the metal/PbMA/n-Si devices have different conducting directions, depending on whether Au or Al deposited over PbMA layers. 展开更多
关键词 Polymer dielectrics spin-coating film Disiloxane-bridged cyclopolymer
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新型电子转移复合物Cu-TCNQ(C_2H_4COOCH_3)_2的制备及其薄膜的绿光可擦重写光存储性能的研究
16
作者 黄伍桥 吴谊群 +1 位作者 顾冬红 干福熹 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期349-351,共3页
 报道了高溶解性能的电子转移复合物铜 (2,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷);并对其紫外可见光光谱进行了研究。用旋涂工艺制备了Cu TCNQ(C2H4COOCH3)2薄膜,并对该薄膜的可擦重写光存储性能及其机理进行了研究。短波长(514.5...  报道了高溶解性能的电子转移复合物铜 (2,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷);并对其紫外可见光光谱进行了研究。用旋涂工艺制备了Cu TCNQ(C2H4COOCH3)2薄膜,并对该薄膜的可擦重写光存储性能及其机理进行了研究。短波长(514.5nm)静态可擦重写光存储性能测试结果表明:在写入功率为9mW,写入脉冲为80ns,擦除功率为4mW,擦除脉冲为500ns时反射率对比度>15%(无反射膜),循环次数可达110次以上,并且没有出现任何疲劳现象。 展开更多
关键词 CuTCNQ脂类衍生物旋涂膜 可擦重写性能 高密度光存储
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八异戊氧基金属萘酞菁配合物旋涂膜的气敏性研究
17
作者 左霞 王彬 吴谊群 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A07期2659-2661,共3页
用旋涂技术成功制备了一类新型萘酞菁配合物(八异戊氧基-2,3-金属萘酞菁)气敏薄膜.对薄膜进行了AFM分析,结果表明,薄膜表面均匀、平整。首次系统研究了萘酞菁配合物旋涂膜对NO2的气敏性,100℃时薄膜对NO2具有较好的响应、可逆性... 用旋涂技术成功制备了一类新型萘酞菁配合物(八异戊氧基-2,3-金属萘酞菁)气敏薄膜.对薄膜进行了AFM分析,结果表明,薄膜表面均匀、平整。首次系统研究了萘酞菁配合物旋涂膜对NO2的气敏性,100℃时薄膜对NO2具有较好的响应、可逆性以及较快的响应和恢复时间。分析了配合物的中心金属对气敏性能的影响。 展开更多
关键词 萘酞菁 旋涂膜 气敏性
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Highly efficient solution-processed CZTSSe solar cells based on a convenient sodium-incorporated post-treatment method 被引量:8
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作者 Biwen Duan Linbao Guo +7 位作者 Qing Yu Jiangjian Shi Huijue Wu Yanhong Luo Dongmei Li Sixin Wu Zhi Zheng Qingbo Meng 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第1期196-203,I0007,共9页
In CZTSSe solar cells,a simple sodium-incorporation post-treatment method toward solution-processed Cu2Zn Sn S4precursor films is presented in this work.An ultrathin NaCl film is deposited on Cu2Zn Sn S4precursor film... In CZTSSe solar cells,a simple sodium-incorporation post-treatment method toward solution-processed Cu2Zn Sn S4precursor films is presented in this work.An ultrathin NaCl film is deposited on Cu2Zn Sn S4precursor films by spin-coating NaCl solution.In subsequent selenization process,the introduction of Na Cl is found to be benefacial for the formation of Cu2-xSe,which can further facilitate the element transportation,leading to dense and smooth CZTSSe films with large grains and less impurity Cu2Sn(S,Se)3phase.SIMS depth profiles confirm the gradient distribution of the sodium element in Na-doped absorbers.Photoluminescence spectra show that the introduction of appropriate sodium into the absorber can inhibit the band tail states.As high as 11.18% of power conversion efficiency(PCE)is achieved for the device treated with 5 mg mL^-1 NaCl solution,and an average efficiency of Na-doped devices is 10.71%,13%higher than that of the control groups(9.45%).Besides,the depletion width and the charge recombination lifetime can also have regular variation with sodium treatment.This work offers an easy modification method for high-quality Na-doped CZTSSe films and high-performance devices,in the meantime,it can also help to further understand the effects of sodium in CZTSSe solar cells. 展开更多
关键词 Thin film solar cell CZTSSe Sodium doping POST-TREATMENT spin-coating method
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TiO_2/SrTiO_3复合薄膜的制备及其光催化性能 被引量:5
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作者 刘洪军 彭超 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2014年第5期5-9,共5页
采用溶胶-凝胶旋涂法制备多孔结构的TiO2/SrTiO3复合薄膜,研究TiO2/SrTiO3异质结薄膜结构对光催化性能的影响,并采用XRD、SEM等测试手段对样品的结构和形貌进行表征.结果表明:TiO2/SrTiO3复合薄膜的光催化效率高于单一的TiO2薄膜或SrTiO... 采用溶胶-凝胶旋涂法制备多孔结构的TiO2/SrTiO3复合薄膜,研究TiO2/SrTiO3异质结薄膜结构对光催化性能的影响,并采用XRD、SEM等测试手段对样品的结构和形貌进行表征.结果表明:TiO2/SrTiO3复合薄膜的光催化效率高于单一的TiO2薄膜或SrTiO3薄膜,薄膜的结构组成对复合薄膜的光催化效果影响很大.采用"四层SrTiO3及一层TiO2"的结构组成时,复合薄膜对亚甲基蓝溶液的光催化效率最高,2h降解率为72.1%. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶旋涂法 TiO2/SrTiO3复合薄膜 光催化 亚甲基蓝
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溶胶凝胶法制备SiO_2/TiO_2多层膜工艺研究 被引量:1
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作者 杨帆 沈军 +4 位作者 吴广明 孙骐 李小丽 张志华 付甜 《安阳师范学院学报》 2003年第2期31-34,共4页
采用溶胶-凝胶工艺,使用旋涂方法在单晶硅片、石英玻璃和K9玻璃上制备SiO2/TiO2系列多层膜。采用椭偏仪、透射电镜等对所制得的多层膜的性能进行了研究。结果表明实验条件对SiO2/TiO2多层膜的制备非常重要。通过对实验条件的改善与优化... 采用溶胶-凝胶工艺,使用旋涂方法在单晶硅片、石英玻璃和K9玻璃上制备SiO2/TiO2系列多层膜。采用椭偏仪、透射电镜等对所制得的多层膜的性能进行了研究。结果表明实验条件对SiO2/TiO2多层膜的制备非常重要。通过对实验条件的改善与优化,可以镀制出性能优良的SiO2/TiO2多层膜,以用于微型谐振腔、滤光片、一维光子晶体和传统的光学高反膜的研究。 展开更多
关键词 SiO2/TiO2多层膜 制备工艺 溶胶-凝胶法 旋涂方法 光学高反膜 薄膜性能
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