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基于移频干扰的成像算法抗干扰性能分析 被引量：8
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作者 朱良 曹鹏 禹卫东 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第A03期47-51,共5页
本文针对RD和CS两种成像算法处理流程和方法的差异,分析了两种算法在移频干扰情况下的成像处理增益,并推导了两种算法的信干比处理增益公式.理论分析结果表明,在距离向采样率与SAR信号带宽相当的情况下,RD成像算法对移频干扰的抑制能力... 本文针对RD和CS两种成像算法处理流程和方法的差异,分析了两种算法在移频干扰情况下的成像处理增益,并推导了两种算法的信干比处理增益公式.理论分析结果表明,在距离向采样率与SAR信号带宽相当的情况下,RD成像算法对移频干扰的抑制能力强于CS算法;在方位向过采样情况下,RD算法由于采用两维匹配处理从而获得比CS算法大的信干比处理增益,若对信号进行方位向滤波处理后,CS算法的对移频干扰的抗干扰能力与RD算法相当.最后,通过计算机仿真验证了本文的理论分析和结论. 展开更多
关键词 合成孔径雷达 移频干扰 成像算法 信干比 成像处理增益
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