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平面3-■RR并联机构过约束分析及自调结构设计 被引量:4
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作者 黄勇刚 黄茂林 +1 位作者 杜力 冉瑞利 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期303-306,共4页
分析了平面3-RRR三自由度并联机构中存在的过约束及其有害影响,详细讨论了在保证3-RRR并联机构平面运动特性的情况下无过约束自调结构的设计问题,得出了几种新的平面三自由度并联机构运动副配置方案,深入分析了2-RCS-RRR结构的自调特性。
关键词 过约束 平面3-RRR并联机构 自调结构 自调位移规律
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新型提离自校正位移传感器的建模及特性分析 被引量:2
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作者 倪春生 鲁统利 张建武 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1541-1545,共5页
提出一种新型提离自校正非接触位移传感器,该传感器采用一对正交的霍尔元件来检测移动永磁体激励磁场的X和Y向分量,其中BX反映永磁体提离信息,BY反映永磁体位移信息。然后基于等效面电流方法,建立起位移传感器的数学模型。最后运用有限... 提出一种新型提离自校正非接触位移传感器,该传感器采用一对正交的霍尔元件来检测移动永磁体激励磁场的X和Y向分量,其中BX反映永磁体提离信息,BY反映永磁体位移信息。然后基于等效面电流方法,建立起位移传感器的数学模型。最后运用有限元方法对位移传感器的特性进行了分析,得到传感器提离时BX和BY的变化规律,为自校正位移传感器的实现提供依据。研究结果表明:BY正负峰值间曲线近似为线性,与永磁体位移存在对应关系;随着永磁体提离高度的增加,BX谷值大小和BY正负峰值间曲线斜率均相应改变;通过检测BX谷值的大小辨识出传感器提离高度,然后对BY曲线进行相应的修正,可抑制提离对传感器精准度的影响。 展开更多
关键词 自校正 永磁体 提离 非接触位移传感器
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具有亚纳米级精度的自校正离焦定位系统的设计 被引量:1
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作者 王晓暄 杨俊东 +1 位作者 胡志祥 瞿安连 《计算机与数字工程》 2010年第3期127-129,共3页
提高时间分辨率和空间分辨率,是单微粒跟踪技术的主要发展方向。基于离焦定位技术的自校正离焦定位系统有效地提高了单微粒跟踪过程中获取信息的实时性和精确性,使对蛋白质、囊泡等作全细胞范围的三维亚纳米级实时跟踪成为可能。
关键词 单微粒跟踪 自校正离焦定位 Z轴位移控制
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