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不同衬底温度下预沉积Ge对SiC薄膜生长的影响 被引量:5
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作者 刘忠良 唐军 +3 位作者 任鹏 刘科 徐彭寿 潘国强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期423-426,共4页
分别在未沉积Ge和不同衬底温度(300、500、700℃)沉积Ge条件下,利用固源分子束外延(SSMBE)技术在Si衬底上外延SiC薄膜。通过反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)等仪器对样品进行... 分别在未沉积Ge和不同衬底温度(300、500、700℃)沉积Ge条件下,利用固源分子束外延(SSMBE)技术在Si衬底上外延SiC薄膜。通过反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)等仪器对样品进行测试。测试结果表明,预沉积Ge的样品质量明显好于未沉积Ge的样品,而且随着预沉积温度的升高,薄膜的质量在逐渐地变好。 展开更多
关键词 碳化硅 反射高能电子衍射 固源分子束外延 预沉积温度
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SiO_2/Si(111)表面Ge量子点的生长研究 被引量:3
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作者 王科范 盛斌 +3 位作者 刘金锋 徐彭寿 潘海滨 韦世强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期358-361,366,共5页
Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化... Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化学反应,并形成与Si(111)表面直接外延的Ge量子点。在650℃时,只有Ge的厚度达到0.5nm时,Ge量子点才开始形成。 展开更多
关键词 GE量子点 SIO2薄膜 SI(111) 原子力显微镜(AFM) 反射高能电子衍射(rheed)
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Kinetic process of nitridation on the α-sapphire surface
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作者 汤星舟 李书平 +1 位作者 康俊勇 陈佳琪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第11期184-187,共4页
We established a model to simulate the growth process of nitridation and clarified the inner mechanisms ofnitridation and over-nitridation by combining the kinetic Monte Carlo and molecular dynamics methods. Supported... We established a model to simulate the growth process of nitridation and clarified the inner mechanisms ofnitridation and over-nitridation by combining the kinetic Monte Carlo and molecular dynamics methods. Supported by reflection high-energy electron diffraction results with growth in an MBE system, the tendency of nitridation on s-sapphire in different conditions was observed and analyzed. The best conditions for nitridation on the a-sapphire surface are found by our simulation. 展开更多
关键词 NITRIDATION kinetic Monte Carlo (KMC) molecular dynamics (MD) molecular beam epitaxy (MBE) reflection high-energy electron diffraction rheed
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Fe3O4/MgO(100)薄膜外场诱导电阻变化特性 被引量:1
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作者 曹林洪 吴卫东 +1 位作者 唐永建 王雪敏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1841-1845,共5页
采用激光分子束外延(L-MBE)方法,以MgO(100)为基底生长了Fe3O4单晶薄膜,研究了Fe3O4/MgO(100)薄膜外场(温度、磁和激光场)诱导电阻变化特性。X射线衍射(XRD)分析表明Fe3O4薄膜是沿MgO(200)晶面外延生长的单晶薄膜;反射高能电子衍射(RHE... 采用激光分子束外延(L-MBE)方法,以MgO(100)为基底生长了Fe3O4单晶薄膜,研究了Fe3O4/MgO(100)薄膜外场(温度、磁和激光场)诱导电阻变化特性。X射线衍射(XRD)分析表明Fe3O4薄膜是沿MgO(200)晶面外延生长的单晶薄膜;反射高能电子衍射(RHEED)强度振荡曲线分析表明Fe3O4薄膜表面平整,而且生长模式为2维层状生长;原子力显微镜(AFM)分析表明Fe3O4薄膜表面粗糙度为0.201 nm,说明薄膜表面达到原子级平整度。外场作用下Fe3O4薄膜的电阻测试表明:薄膜样品的电阻在120 K(Verwey转变温度)出现一峰值,略微下降后继续增大,展现出半导体型的导电特性;在激光作用下,整个测量温度范围内薄膜样品的电阻减小,样品展示出瞬间光电导的特性;从降温曲线可以看出,Verwey转变温度由无激光作用时的120 K上升到有激光作用时的140 K;光致电阻变化率随着温度的降低而增大,这主要是由于激光作用导致电荷有序态的退局域化。 展开更多
关键词 Fe3O4薄膜 反射高能电子衍射 磁电阻 激光诱导电阻
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用于MBE中的反射式高能电子衍射仪
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作者 杨再荣 潘金福 +3 位作者 周勋 王基石 宁江华 丁召 《现代机械》 2009年第1期57-58,61,共3页
对用于分子束外延(MBE)中的反射式高能电子衍射仪(RHEED)的工作原理以及RHEED衍射强度振荡在测量外延生长速率的应用进行了详尽的阐述;针对样品盘与RHEED系统的兼容问题,对样品盘进行了新的设计,并进行了实验研究。
关键词 分子束外延 反射式高能电子衍射 工作原理 样品盘 强度振荡
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温度对p-InN薄膜光电导灵敏度的影响
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作者 冯丽 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期785-789,共5页
研究了p型InN的光电导效应。利用分子束外延技术(MBE)法生长出高质量的InN薄膜,在此基础上利用Mg掺杂获得了p-InN。原位反射高能电子衍射(RHEED)表明样品在生长过程中保持二维生长模式,原子力显微镜(AFM)测试结果显示台阶流的生长模式... 研究了p型InN的光电导效应。利用分子束外延技术(MBE)法生长出高质量的InN薄膜,在此基础上利用Mg掺杂获得了p-InN。原位反射高能电子衍射(RHEED)表明样品在生长过程中保持二维生长模式,原子力显微镜(AFM)测试结果显示台阶流的生长模式。实验发现,p型InN的光电导灵敏度随温度的升高而降低。其主要原因是当温度升高时,光生载流子浓度降低和样品背景浓度升高共同造成的。 展开更多
关键词 分子束外延 原位反射高能电子衍射 Mg掺杂p-InN 光电导灵敏度
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GaAs同质外延生长过程的RHEED分析
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作者 熊政伟 王学敏 +3 位作者 张伟斌 姜帆 吴卫东 孙卫国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期831-835,共5页
采用激光分子束外延方法(L-MBE),在GaAs(001)衬底上同质外延GaAs薄膜。利用反射式高能电子衍射(RHEED)研究了材料沉积过程中的各级条纹及其强度的变化,进而得出GaAs薄膜外延生长的适宜激光能量和沉积温度分别为500 mJ和570℃。RHEED强... 采用激光分子束外延方法(L-MBE),在GaAs(001)衬底上同质外延GaAs薄膜。利用反射式高能电子衍射(RHEED)研究了材料沉积过程中的各级条纹及其强度的变化,进而得出GaAs薄膜外延生长的适宜激光能量和沉积温度分别为500 mJ和570℃。RHEED强度随时间的变化曲线表明,GaAs为良好的层状外延生长模式,并随着沉积时间延长,层状生长模式逐渐向岛状模式转变。实验研究还表明层状生长的GaAs薄膜经表面弛豫后,可以得到更好的平整表面,并出现GaAs(001)-(2×4)的表面重构。原位X射线光电子能谱仪(XPS)研究表明沿(001)面外延的GaAs薄膜表面Ga∶As化学计量比约为52∶48,出现Ga的聚集。 展开更多
关键词 激光分子束外延 反射式高能电子衍射 生长模式 表面驰豫 表面重构
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GaAs(001)_β2(2×4)表面RHEED图谱的虚拟设计
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作者 崔英善 张正平 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2009年第6期82-84,88,共4页
为了保证有关国内一流大型仪器设备的实验教学质量,同时还能节省高校的实验耗费,在LabVIEW8.2开发环境下,通过对反射式高能电子衍射仪(RHEED)原理、样品砷化镓GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构及相关固体物理学知识的深入探究,运用... 为了保证有关国内一流大型仪器设备的实验教学质量,同时还能节省高校的实验耗费,在LabVIEW8.2开发环境下,通过对反射式高能电子衍射仪(RHEED)原理、样品砷化镓GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构及相关固体物理学知识的深入探究,运用图形化编程语言,采用数据流编程方式,设计实现了理论情况下的GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构RHEED图谱。该阶段性成果使得虚拟RHEED实验系统的研究开发有了突破性进展。 展开更多
关键词 虚拟仪器 虚拟仪器开发平台(LabVIEW) 砷化镓(GaAs) 反射式高能电子衍射仪(rheed)图谱
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表面分析的新方法—(RHEED-TRAXS)和(SEM-TRAXS)
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作者 姚子华 《河北大学学报(自然科学版)》 CAS 1994年第2期90-95,共6页
本文综述在反射高能电子衍射仪中测量全反射角x射线谱(简称RHEED-TRAXS)的表面化学分析方法。对这种分析方法的基本原理、主要优点及应用作了概略介绍。本文还介绍了在扫描电镜中进行全反射角x射线谱(简称SEM-TR... 本文综述在反射高能电子衍射仪中测量全反射角x射线谱(简称RHEED-TRAXS)的表面化学分析方法。对这种分析方法的基本原理、主要优点及应用作了概略介绍。本文还介绍了在扫描电镜中进行全反射角x射线谱(简称SEM-TRAXS)测量的方法及结果,并在文章的末尾指出了在扫描中实现(SEM-RHEED-TKAXS)的可能性。 展开更多
关键词 rheed SEM TRAXS 表面分析
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