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基于计划行为理论的侵犯驾驶行为研究 被引量:16
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作者 丁靖艳 《中国安全科学学报》 CAS CSCD 2006年第12期15-18,共4页
从社会心理学的角度,通过问卷调查的方式,对驾驶员侵犯驾驶行为的产生动机进行分析;基于计划行为理论,研究构建了能揭示驾驶态度与行为关系的理论模型,并得出驾驶员对侵犯驾驶行为的态度、主观标准、知觉行为可控性等心理因素,通过行为... 从社会心理学的角度,通过问卷调查的方式,对驾驶员侵犯驾驶行为的产生动机进行分析;基于计划行为理论,研究构建了能揭示驾驶态度与行为关系的理论模型,并得出驾驶员对侵犯驾驶行为的态度、主观标准、知觉行为可控性等心理因素,通过行为意向的中介作用,对驾驶员实施侵犯驾驶行为具有预测作用的结论。同时,提出了从态度改变、建立社会支持体系、提高驾驶员的自我能力评估等方面入手对驾驶员侵犯驾驶行为进行矫正的策略。 展开更多
关键词 计划行为理论 侵犯驾驶行为 驾驶态度 行为矫正 道路交通安全
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Direct van der Waals epitaxial growth of 1D/2D Sb2Se3/WS2 mixed-dimensional p-n heterojunctions 被引量:2
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作者 Guangzhuang Sun Bo Li +13 位作者 Jia Li Zhengwei Zhang Huifang Ma Peng Chen Bei Zhao Ruixia Wu Weiqi Dang Xiangdong Yang Xuwan Tang Chen Dai Ziwei Huang Yuan Liu Xidong Duan Xiangfeng Duan 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第5期1139-1145,共7页
The mixed-dimensional integration of two-dimensional (2D) materials with non-2D materials can give rise to prominent advances in performance or function.To date,the mixed-dimensional one-dimensional (1D)/2D heterostru... The mixed-dimensional integration of two-dimensional (2D) materials with non-2D materials can give rise to prominent advances in performance or function.To date,the mixed-dimensional one-dimensional (1D)/2D heterostructures have been fabricated using various physical assembly approaches.However,direct epitaxial growth method which has notable advantages in preparing large-scale products and obtaining perfect interfaces is rarely investigated.Herein,we demonstrate for the first time the direct synthesis of the 1D/2D mixed-dimensional heterostructures by sequential vapor-phase growth of Sb2Se3 nanowires on WS2 monolayers.X-ray diffraction (XRD) pattern and Raman spectrum confirm the composition of the Sb2Se3/NS2 heterostructures.Transmission electron microscope (TEM) measurement demonstrates high quality of the heterostructures.Electrical transport characterization reveals that Sb2Se3 nanowire exhibits p-type characteristic and that WS2 monolayer exhibits n-type behavior,and that the p-n diode from 1D/2D mixed-dimensional Sb2Se3/WS2 heterostructure possesses obvious current rectification behavior.Optoelectronic measurements of the heterostructures show apparent photovoltaic response with an open-circuit voltage of 0.19 V,photoresponsivity of 1.51 A/W (Vds =5 V) and fast response time of less than 8 ms.The van der Waals epitaxial growth mode of Sb2Se3 nanowires on WS2 monolayers is verified by stripping the Sb2Se3 nanowire from the heterostructures using tape.Together,the direct van der Waals epitaxy opens a facile pathway to 1D/2D mixed-dimensional heterostructures for functional electronic and optoelectronic devices. 展开更多
关键词 VAN der WAALS EPITAXY Sb2Se3/WS2heterostructures rectification behavior photovoltaic effect PHOTOSWITCH
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聚吡咯/硫化镉核壳纳米线的制备及整流特性 被引量:1
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作者 刘宸 《化学研究》 CAS 2012年第2期59-63,共5页
以无机多孔氧化铝膜为模板,利用气相沉积和原位电化学沉积方法成功地制备了有机-无机杂化聚吡咯/硫化镉核壳纳米线;采用扫描电子显微镜和透射电子显微镜分析了聚吡咯/硫化镉核壳纳米线的表面形貌和微结构.结果表明,内部的聚吡咯纳米线... 以无机多孔氧化铝膜为模板,利用气相沉积和原位电化学沉积方法成功地制备了有机-无机杂化聚吡咯/硫化镉核壳纳米线;采用扫描电子显微镜和透射电子显微镜分析了聚吡咯/硫化镉核壳纳米线的表面形貌和微结构.结果表明,内部的聚吡咯纳米线紧紧依附在外部的硫化镉纳米管中,并且硫化镉纳米管被聚吡咯全部填充.与此同时,在聚吡咯/硫化镉核壳纳米线中,外部硫化镉壳与内部聚吡咯核之间存在电荷转移;聚吡咯和硫化镉之间形成有机-无机杂化的P-N界面,从而导致单根聚吡咯/硫化镉核壳纳米线显示出不同于外部壳和内部核的整流特性. 展开更多
关键词 聚吡咯 硫化镉 核壳结构 纳米线 制备 整流特性
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顶推纠偏下的无砟轨道力学行为及关键参数研究 被引量:1
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作者 刘竞 潘永健 +3 位作者 杨延强 冯浩 侯志刚 孙景桐 《北京交通大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期23-31,共9页
为确保横向顶推纠偏时无砟轨道结构受力合理、不损伤破坏,根据高速铁路无砟轨道顶推纠偏施工工艺,建立路基段CRTSⅡ板式无砟轨道顶推纠偏模型.分析了无砟轨道在单点顶推力及多点联合顶推力作用下,各结构层的应力分布及变形情况,研究了... 为确保横向顶推纠偏时无砟轨道结构受力合理、不损伤破坏,根据高速铁路无砟轨道顶推纠偏施工工艺,建立路基段CRTSⅡ板式无砟轨道顶推纠偏模型.分析了无砟轨道在单点顶推力及多点联合顶推力作用下,各结构层的应力分布及变形情况,研究了无砟轨道顶推纠偏过程中相关关键参数(如顶推力、加载长度、轨道偏移量等)之间的相关性.研究结果表明:采用单点顶推力时,影响范围有限,仅能使作用点附近30 m区域产生横向移动,且轨道结构最大允许纠偏量不足2 mm;采用多点顶推时,顶推力的加载长度增加,影响范围和结构横向偏移量也逐渐增加.轨道结构最大纵向应力出现在顶推荷载中部及荷载边缘区域,实际顶推施工时需要对该处轨道应力进行监测与控制. 展开更多
关键词 高速铁路 顶推纠偏 数值模拟 力学行为
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多层铁电薄膜存储二极管的界面内建电压 被引量:1
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作者 李兴教 王宁章 +4 位作者 鲍军波 陈涛 冯汉华 袁润章 LI Shao-ping 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期292-294,共3页
利用准分子激光在 p型硅薄片上淀积了多层铁电薄膜 BIT/ PZT/ BIT、PZT/ BIT和 BIT。讨论了多层铁电薄膜界面内建电压 ,其中 Au/ BIT/ PZT/ TBIT/ p- Si(10 0 )的 ΔVb 最小而 Au/ BIT/ p- Si(10 0 )的 ΔVb 最大 ,但Au/ BIT/ PZT/ TBIT... 利用准分子激光在 p型硅薄片上淀积了多层铁电薄膜 BIT/ PZT/ BIT、PZT/ BIT和 BIT。讨论了多层铁电薄膜界面内建电压 ,其中 Au/ BIT/ PZT/ TBIT/ p- Si(10 0 )的 ΔVb 最小而 Au/ BIT/ p- Si(10 0 )的 ΔVb 最大 ,但Au/ BIT/ PZT/ TBIT/ p- Si(10 0 )的ΔVb 与 Au/ BIT/ p- Si(10 0 )的Δ Vb 相差不多。 Au/ BIT/ PZT/ TBIT/ p- Si(10 0 )的I- V特性曲线非对称的整流特性和 P- V回线的刻印失效是最小的而 Au/ BIT/ p- Si(10 0 ) 展开更多
关键词 多层铁电薄膜 内建电压 刻印失效 整流特性 半导体存储器
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