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刻线边缘表面重构及其边缘粗糙度测量 被引量:2
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作者 李洪波 赵学增 褚巍 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1635-1640,共6页
给出了一种边缘粗糙度(LER)三维参数评估的方法。采用原子力显微镜(AFM)测量了刻线单侧边缘形貌,根据AFM的工作机理和测量特点重构边缘表面,采用回归分析方法确定了边缘表面的评价基准面。结合集成电路中光刻工艺的具体需求,提出了能够... 给出了一种边缘粗糙度(LER)三维参数评估的方法。采用原子力显微镜(AFM)测量了刻线单侧边缘形貌,根据AFM的工作机理和测量特点重构边缘表面,采用回归分析方法确定了边缘表面的评价基准面。结合集成电路中光刻工艺的具体需求,提出了能够反映边缘表面形貌特征的三维LER表征参数。结合实例,计算了所提出的部分LER参数,分析了LER标准差参数的测量精度。 展开更多
关键词 原子力显微镜(AFM) 重构 边缘粗糙度(LER) 三维参数
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