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射频磁控溅射法制备ZnS多晶薄膜及其性质被引量：16: 1; 作者谢婧黎兵 +9 位作者李愿杰颜璞冯良桓蔡亚平郑家贵张静全李卫武莉莉雷智曾广根《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期5749-5754,共6页; 实验采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了ZnS多晶薄膜,研究了沉积气压、退火温度和衬底温度对ZnS薄膜质量的影响.利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构,并计算了内应力值.通过紫外-可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱,计算了Urbach... 展开更多; 关键词 ZNS薄膜射频磁控溅射内应力; 原文传递

溅射法制备硫化锌薄膜的探索被引量：13: 2; 作者柳兆洪孙书农 +2 位作者王余姜陈振湘刘瑞堂《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期52-56,共5页; 利用射频磁控溅射法制备硫化锌薄膜，用Ｘ射线衍射、透射电镜、研究薄膜的结构相变，揭示了硫化锌薄膜的微观结构和相变特征．; 关键词射频磁控溅射硫化锌薄膜制备溅射法; 下载PDF 职称材料

溅射法制备ZnS∶Er^(3+)薄膜的微结构研究: 3; 作者柳兆洪陈谋智 +2 位作者陈振湘孙书农刘瑞堂《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1997年第5期693-695,共3页; 利用射频磁控溅射法制备掺铒硫化锌薄膜，用Ｘ射线衍射和Ｘ射线光电子能谱技术，研究薄膜微结构，发现薄膜中多晶沉积有择优取向趋势，掺杂的铒有表面集聚现象，这将对薄膜的激发态产生影响．; 关键词微结构溅射法硫化锌薄膜铒半导体; 下载PDF 职称材料

硅基硫化锌薄膜的溅射法生长技术被引量：2: 4; 作者陈松岩陈谋智 +1 位作者柳兆洪刘瑞堂《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期896-898,共3页; 利用射频磁控溅射法在 Si衬底上制备 Zn S薄膜 ,用 X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究 ,揭示了 Si衬底上 Zn S薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系。; 关键词溅射法硅基硫化锌薄膜; 原文传递

溅射功率对NiO薄膜性质的影响被引量：1: 5; 作者王新刘楠 +3 位作者向嵘李野端木庆铎田景全《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期158-160,共3页; 在室温条件下,采用射频磁控溅射的方法在石英衬底上制备了NiO薄膜,深入研究了不同溅射功率对NiO的结构、光学和电学特性的影响。随着溅射功率的升高,NiO薄膜逐渐由非晶态薄膜转变成具有(111)择优取向的晶态薄膜,同时发现NiO薄膜在可见... 展开更多; 关键词射频磁控溅射氧化镍结构光学电学; 下载PDF 职称材料

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