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高分辨率电子工业用数字化X射线检测系统 被引量：2
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作者 李伟 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期654-659,共6页
提出一种高分辨率电子工业用数字化X射线检测系统的总体设计方案,选择微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器作为该系统的关键器件,分析了微焦斑X射线源的焦斑尺寸对系统分辨率的影响,并且建立了微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器... 提出一种高分辨率电子工业用数字化X射线检测系统的总体设计方案,选择微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器作为该系统的关键器件,分析了微焦斑X射线源的焦斑尺寸对系统分辨率的影响,并且建立了微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器自身分辨率及成像的几何放大率对系统最终分辨率影响的数学模型。通过数学模型得出了几何放大率同系统分辨率的关系曲线。设计了光路及图像采集装置,并用VC 6.0完成了实用的X射线图像处理软件,研制了完整的成像系统样机并进行了调试与实验。这种成像系统有效视野可达75mm,分辨率为160lp/cm。 展开更多
关键词 微焦斑x射线源 双近贴式x射线像增强器 数字化成像 分辨率
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