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半导体工艺中硅衬底凹坑缺陷的检测
1
作者
陈昊
《南京工业职业技术学院学报》
2010年第2期39-41,共3页
通过两个角度分析加深晶体缺陷的概念理解,结合一次工艺生产中造成芯片失效的晶体缺陷检测,分析造成此次芯片失效的晶体缺陷的种类和位置,并且给出了解决方案。
关键词
微缺陷
失效
择优腐蚀液
凹坑
退火
下载PDF
职称材料
题名
半导体工艺中硅衬底凹坑缺陷的检测
1
作者
陈昊
机构
江苏信息职业技术学院电子信息工程系
出处
《南京工业职业技术学院学报》
2010年第2期39-41,共3页
文摘
通过两个角度分析加深晶体缺陷的概念理解,结合一次工艺生产中造成芯片失效的晶体缺陷检测,分析造成此次芯片失效的晶体缺陷的种类和位置,并且给出了解决方案。
关键词
微缺陷
失效
择优腐蚀液
凹坑
退火
Keywords
microdefect
failure
preferred
corrosive
liquid
bullet-like
defect
anneal
分类号
O474 [理学—半导体物理]
下载PDF
职称材料
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作者
出处
发文年
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1
半导体工艺中硅衬底凹坑缺陷的检测
陈昊
《南京工业职业技术学院学报》
2010
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