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AMOLED像素电路的设计与仿真研究 被引量:3
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作者 沈匿 林祖伦 +3 位作者 陈文彬 祁康成 王小菊 杨隆杰 《电子器件》 CAS 2011年第5期550-554,共5页
为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并... 为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并根据已设计的参数进行了仿真,结果表明改进后的电路功能不变,且在驱动阶段,驱动电流变化为0.01μA,小于一个灰阶对应的电流,满足显示的要求。 展开更多
关键词 AMOLED 四管像素驱动电路 仿真 阈值电压漂移 多晶硅薄膜晶体管
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多晶硅薄膜晶体管的电流和电容分析模型(英文) 被引量:1
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作者 郑学仁 邓婉玲 陈荣盛 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期221-226,共6页
提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括... 提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括小尺寸效应和翘曲效应的电流电压模型.同时,文中还提出了基于电荷的电容模型.电流和电容模型在线性区和饱和区都是连续和准确的,不需要没有物理意义的光滑处理.与实验数据的比较发现,模型和实验数据符合得较好,这也证明了所提出模型的准确性.并且,该模型适用于电路仿真器. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 电流模型 电容模型
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Explicit solution of channel potential and drain current model in symmetric double-gate polysilicon TFTs
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作者 马晓玉 邓婉玲 黄君凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第3期5-10,共6页
A physical and explicit surface potential model for undoped symmetric double-gate polysilicon thinfilm transistors has been derived based on an effective charge density approach of Poisson's equation with both expone... A physical and explicit surface potential model for undoped symmetric double-gate polysilicon thinfilm transistors has been derived based on an effective charge density approach of Poisson's equation with both exponential deep and tail state terms included. The proposed surface potential calculation is single-piece and eliminatestheregionalapproach.Modelpredictionsarecomparedtonumericalsimulationswithcloseagreement,having absolute error in the millivolt range. Furthermore, expressions of the drain current are given for a wide range of operation regions, which have been justified by thorough comparisons with experimental data. 展开更多
关键词 double-gate drain current surface potential polysilicon thin-film transistor
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多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件的优化设计 被引量:2
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作者 纪世阳 李牧菊 +1 位作者 王宗凯 杨柏梁 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第3期203-208,共6页
针对多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件关态漏电流较大的问题 ,采用源漏轻掺杂结构以降低关态时电荷的泄漏 ,增加晶体管的开关电流比值。通过模拟轻掺杂区不同的物理参数 ,如掺杂浓度及掺杂区宽度等 ,研究薄膜晶体管的开关电流比值。由此确... 针对多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件关态漏电流较大的问题 ,采用源漏轻掺杂结构以降低关态时电荷的泄漏 ,增加晶体管的开关电流比值。通过模拟轻掺杂区不同的物理参数 ,如掺杂浓度及掺杂区宽度等 ,研究薄膜晶体管的开关电流比值。由此确定像素各部分的尺寸 ,对液晶显示器件进行优化设计。 展开更多
关键词 液晶显示 多晶硅薄膜晶体管 优化设计 源漏轻掺杂液 关态漏电流
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源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究 被引量:3
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作者 纪世阳 李牧菊 杨柏梁 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第2期129-134,共6页
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的... 采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的变化关系。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 同型结 热电子 漏电流 源漏轻掺杂结构 高清晰度彩色有源平板显示 模拟研究
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多晶硅TFT热载流子效应的模拟研究
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作者 陶晶晶 岑晨 +3 位作者 刘小红 顾晓峰 钟传杰 于宗光 《电子与封装》 2009年第3期11-14,共4页
热载流子效应引起的器件电学特性退化会严重影响电路的工作性能。文章结合多晶硅薄膜晶体管沟道电流的理论模型,讨论了热载流子效应与界面陷阱的关系。沟道载流子在大的漏电场牵引下,运动到漏结附近获得很大的能量从而成为热载流子。如... 热载流子效应引起的器件电学特性退化会严重影响电路的工作性能。文章结合多晶硅薄膜晶体管沟道电流的理论模型,讨论了热载流子效应与界面陷阱的关系。沟道载流子在大的漏电场牵引下,运动到漏结附近获得很大的能量从而成为热载流子。如果热载流子能量超过Si-SiO2界面势垒高度,会注入到栅氧层或陷落到界面陷阱,使阈值电压和沟道电流发生退化现象。同时,对多晶硅薄膜晶体管输出特性进行了模拟分析,模拟结果与理论模型基本一致。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 热载流子效应 界面陷阱 模拟
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一种补偿阈值电压和迁移率变化的像素电路设计
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作者 黄勇 关肖飞 +3 位作者 张立文 李月华 王新林 何红宇 《智能计算机与应用》 2019年第5期13-16,24,共5页
本文通过对数据输入阶段的时序进行调整,改进了一种适用于低温多晶硅薄膜晶体管的电压编程型像素电路,用来得到稳定的驱动电流。该像素电路由4个开关薄膜晶体管,1个驱动薄膜晶体管,2个电容和2条控制线组成。理论分析表明,该电路不仅能... 本文通过对数据输入阶段的时序进行调整,改进了一种适用于低温多晶硅薄膜晶体管的电压编程型像素电路,用来得到稳定的驱动电流。该像素电路由4个开关薄膜晶体管,1个驱动薄膜晶体管,2个电容和2条控制线组成。理论分析表明,该电路不仅能补偿驱动管阈值电压的变化,而且能补偿驱动管迁移率的变化。仿真结果表明,驱动管的阈值电压变化±0.5 V时,驱动电流变化约为9%,驱动管的迁移率变化±30%时,驱动电流变化约为6%,因此,本电路达到了稳定驱动电流的效果。 展开更多
关键词 像素电路 多晶硅薄膜晶体管 阈值电压 迁移率
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不同宽长比的柔性LTPS TFT的电应力可靠性
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作者 张之壤 朱慧 +3 位作者 刘行 张轶群 徐朝 郑文轩 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期589-595,共7页
为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱... 为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱,并对其产生的新陷阱进行定位,分析了产生陷阱的内在机理。结果表明,在相同的强电场直流应力下宽长比为3/2.5的器件,其电学参数变化最大,自热效应以及热载流子效应带来的影响也最大。自热效应导致器件性能退化的主要原因是较大的栅源电压导致Si/SiO2界面处和栅氧化层中的陷阱增多,而热载流子效应导致器件性能退化的主要原因则是由于较大的漏源电压使得漏极晶界陷阱态密度急剧升高。 展开更多
关键词 柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT) 自热效应 热载流子效应 瞬态电流 强电场直流应力
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多晶硅薄膜晶体管Kink效应研究与建模
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作者 陈荣盛 郑学仁 +3 位作者 邓婉玲 姚若河 吴朝晖 吴为敬 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期231-234,共4页
多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿... 多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿真及其一维解析模型进行了分析,讨论了晶粒边界、沟道长度与Kink效应的关系,提出建立适合电路仿真的一维解析模型的关键与展望。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK 效应 建模
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