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石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
被引量:
5
1
作者
张丽伟
周伶俐
+2 位作者
李瑞
李红菊
卢景霄
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期369-372,共4页
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器...
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5μm.
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关键词
快速光热退火
柱状结晶
多晶硅薄膜
多晶硅薄膜太阳电池
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职称材料
a-Si∶H薄膜的再结晶技术发展概述
被引量:
5
2
作者
冯团辉
卢景霄
+3 位作者
张宇翔
郜小勇
王海燕
靳锐敏
《能源工程》
2004年第6期20-23,共4页
论述了非晶硅薄膜的主要再结晶技术,包括传统的炉子退火、金属诱导晶化、微波诱导晶化、快速热退火和激光晶化。着重指出了各种晶化技术已取得的研究成果、优缺点、有待进一步研究的内容及其在多晶硅薄膜太阳电池工业生产中的应用前景。
关键词
再结晶
激光晶化
炉子
金属
快速热退火
A-
si
:H薄膜
非晶硅薄膜
研究成果
下载PDF
职称材料
题名
石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
被引量:
5
1
作者
张丽伟
周伶俐
李瑞
李红菊
卢景霄
机构
郑州大学教育部材料物理重点实验室
新乡学院
河南工业大学
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期369-372,共4页
基金
国家重点基础研究973计划(2006CB202601)
文摘
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5μm.
关键词
快速光热退火
柱状结晶
多晶硅薄膜
多晶硅薄膜太阳电池
Keywords
rapid
thermal
annealing
columnar
grain
poly
-
si
thin
film
poly
-
si
thin
film
solar cells
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
a-Si∶H薄膜的再结晶技术发展概述
被引量:
5
2
作者
冯团辉
卢景霄
张宇翔
郜小勇
王海燕
靳锐敏
机构
郑州大学教育部材料物理重点实验室
出处
《能源工程》
2004年第6期20-23,共4页
文摘
论述了非晶硅薄膜的主要再结晶技术,包括传统的炉子退火、金属诱导晶化、微波诱导晶化、快速热退火和激光晶化。着重指出了各种晶化技术已取得的研究成果、优缺点、有待进一步研究的内容及其在多晶硅薄膜太阳电池工业生产中的应用前景。
关键词
再结晶
激光晶化
炉子
金属
快速热退火
A-
si
:H薄膜
非晶硅薄膜
研究成果
Keywords
amorphous
si
licon
thin
film
recrystallization
technology
poly
-
si
thin
film
s
poly
-
si
thin
-
film
solar cells
分类号
TK514 [动力工程及工程热物理—热能工程]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
张丽伟
周伶俐
李瑞
李红菊
卢景霄
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
5
下载PDF
职称材料
2
a-Si∶H薄膜的再结晶技术发展概述
冯团辉
卢景霄
张宇翔
郜小勇
王海燕
靳锐敏
《能源工程》
2004
5
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职称材料
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