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SiOx包装阻隔薄膜的发展现状及其制备方法
被引量:
17
1
作者
韩尔立
陈强
+1 位作者
葛袁静
张广秋
《包装工程》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期76-78,共3页
S iOx阻隔薄膜具有优异的阻隔性,并且光透过性和微波透过性好,在阻隔包装领域的应用前景广泛,介绍了S iOx包装阻隔薄膜的制备方法:物理气相沉积,等离子体聚合及大气下等离子体聚合等。
关键词
SIOX薄膜
阻隔性
物理气相沉积
等离子体化学气相沉积
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职称材料
题名
SiOx包装阻隔薄膜的发展现状及其制备方法
被引量:
17
1
作者
韩尔立
陈强
葛袁静
张广秋
机构
北京印刷学院
出处
《包装工程》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期76-78,共3页
文摘
S iOx阻隔薄膜具有优异的阻隔性,并且光透过性和微波透过性好,在阻隔包装领域的应用前景广泛,介绍了S iOx包装阻隔薄膜的制备方法:物理气相沉积,等离子体聚合及大气下等离子体聚合等。
关键词
SIOX薄膜
阻隔性
物理气相沉积
等离子体化学气相沉积
Keywords
SiOx
film
barrier
property
physic
vapor
deposition
plasma
enhanced
chemistry
vapor
deposition
分类号
TQ320.721 [化学工程—合成树脂塑料工业]
TB487 [一般工业技术—包装工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiOx包装阻隔薄膜的发展现状及其制备方法
韩尔立
陈强
葛袁静
张广秋
《包装工程》
CAS
CSCD
北大核心
2005
17
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