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氢化锆表面原位氧化法制备氢渗透阻挡层的研究 被引量：11
1
作者 陈伟东 韩琳 +3 位作者 张力 黄永章 王力军 陈松 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1848-1850,共3页
采用原位氧化法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了工艺参数对氧化层生长的影响,借助XRD,XPS,SEM等分析测试手段对氧化层的物相组成和截面形貌进行分析,并对氧化层的阻氢效果进行检测。结果表明,氧化层的质量增量随氧化温度的升高... 采用原位氧化法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了工艺参数对氧化层生长的影响,借助XRD,XPS,SEM等分析测试手段对氧化层的物相组成和截面形貌进行分析,并对氧化层的阻氢效果进行检测。结果表明,氧化层的质量增量随氧化温度的升高而增大,在氧分压为0.1MPa,550℃恒温氧化2h的工艺条件下,在氢化锆表面制得了厚度为50～60μm的氧化层;该氧化层主要为Baddeleyite结构的ZrO2;氧化层中含有O,Zr,C等元素并存在O—H键;氧化层均匀、致密,具有一定的阻氢作用。 展开更多
关键词 氢化锆 氢渗透阻挡层 原位氧化法 氧化层
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氢化锆与O_2反应制备氢渗透阻挡层的研究 被引量：7
2
作者 陈伟东 闫淑芳 +3 位作者 刘向东 范秀娟 王志刚 徐志高 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期71-76,共6页
采用原位氧化的方法,通过氢化锆直接与O2反应在表面生成氧化膜作为氢渗透阻挡层。分析了氧化工艺参数对氧化膜生长速度的影响,并对氧化膜的物相组成、截面形貌和阻氢性能进行了研究。结果表明,温度是影响氧化膜生长速度的主要因素,氢化... 采用原位氧化的方法,通过氢化锆直接与O2反应在表面生成氧化膜作为氢渗透阻挡层。分析了氧化工艺参数对氧化膜生长速度的影响,并对氧化膜的物相组成、截面形貌和阻氢性能进行了研究。结果表明,温度是影响氧化膜生长速度的主要因素,氢化锆在450℃以下的温度范围内氧化,氧化膜生长速度很小,氧气分压对氧化膜生长速度无明显影响;在450℃以上,氧化膜生长速度随着氧气分压的增大和氧化温度的升高而增大;氧化膜的质量增重与氧化时间的关系曲线符合抛物线生长规律。氧化膜为双相复合结构,由单斜相M-ZrO2和四方相T-ZrO2组成。氢化锆原位氧化后经650℃真空脱氢50 h后样品失氢量低于0.2%。 展开更多
关键词 氢化锆 原位氧化 氢渗透阻挡层 氧化膜
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土壤及地下水原位注入-高压旋喷注射修复技术工程应用案例分析 被引量：33
3
作者 杨乐巍 张晓斌 +3 位作者 李书鹏 张岳 杨润田 陈凡 《环境工程》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期48-53,118,共7页
南京、宁波、青海等地诸多工业污染场地修复工程项目中采用了原位注入-高压旋喷注射修复技术,以原位化学氧化/还原修复技术为代表,根据不同场地污染物的特性、污染程度、污染分布及修复场地水文地质情况,设计了原位注入-高压旋喷注射修... 南京、宁波、青海等地诸多工业污染场地修复工程项目中采用了原位注入-高压旋喷注射修复技术,以原位化学氧化/还原修复技术为代表,根据不同场地污染物的特性、污染程度、污染分布及修复场地水文地质情况,设计了原位注入-高压旋喷注射修复系统及修复工艺,通过大量工程实践获得了系统施工参数,验证了系统的修复效果。最终工程实施结果表明:所采用的原位注入-高压旋喷修复技术对主要污染物苯、氯苯、对/邻硝基氯化苯、苯胺、多环芳烃、石油烃等VOCs/SVOCs及重金属(六价铬)的修复效果显著,所修复的土壤/地下水均达到修复目标,相比现有Geoprobe水力压裂、注入井等原位修复技术,解决了注射压力不足、注射效率低、药剂扩散半径偏小、饱和层修复注射难以保证注浆量影响扩散效果等问题,且彻底解决了异位修复噪声、大气环境二次污染问题,为我国工业污染场地土壤及地下水原位修复问题解决提供了新思路,具有广阔的应用前景和工程借鉴价值。 展开更多
关键词 土壤及地下水修复 原位注入 高压旋喷注射 原位化学氧化/原位化学还原
原文传递
耐火材料用新型涂层改性方法的研究进展 被引量：1
4
作者 张艳利 王海梅 +1 位作者 王冠 贾全利 《耐火材料》 CAS 北大核心 2018年第4期310-314,共5页
综述了各种新型涂层改性方法在耐火材料或耐火原料中的应用。目前,溶胶-凝胶涂层法和有机溶液涂层法方面的研究较多,并取得了良好的应用效果;这两种涂层改性方法不仅适用于耐火原料,而且适合于耐火制品。熔盐涂层法和金属-氧化物原位催... 综述了各种新型涂层改性方法在耐火材料或耐火原料中的应用。目前,溶胶-凝胶涂层法和有机溶液涂层法方面的研究较多,并取得了良好的应用效果;这两种涂层改性方法不仅适用于耐火原料,而且适合于耐火制品。熔盐涂层法和金属-氧化物原位催化涂层法仅适合于高性能碳质原料的涂层改性,所形成的涂层均匀、稳定。针对含碳制品开发的电镀法和自上釉法,其应用效果和应用范围需要继续探讨。 展开更多
关键词 耐火材料 涂层改性 溶胶-凝胶涂层法 熔盐涂层法 金属-氧化物原位催化涂层法 电镀涂层法 自上 釉涂层法
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导电PEDOT膜的液相沉降聚合及应用研究——全加成线路板制作的可行性 被引量：1
5
作者 李建雄 张美娟 +1 位作者 王炯 刘安华 《材料研究与应用》 CAS 2014年第1期46-51,共6页
为开发全加成PCB制作新工艺,将水解PI膜浸入H2O2和FeCl3溶液后再浸入EDOT溶液,研究EDOT原位聚合新方法,分析VUV辐射对PEDOT导电性的影响和在掩膜下制作导电图纹,以SEM揭示在导电PEDOT上电镀铜箔的形成.PI膜经H2O2和FeCl3溶液浸泡可引入m... 为开发全加成PCB制作新工艺,将水解PI膜浸入H2O2和FeCl3溶液后再浸入EDOT溶液,研究EDOT原位聚合新方法,分析VUV辐射对PEDOT导电性的影响和在掩膜下制作导电图纹,以SEM揭示在导电PEDOT上电镀铜箔的形成.PI膜经H2O2和FeCl3溶液浸泡可引入mmol/m2量级的过氧基团和FeCl3,于EDOT溶液中与滞留层中的EDOT反应,形成PEDOT膜,使PI的表面电阻降至400Ω/□;VUV照射使PEDOT的导电性下降,可透过掩膜制作导电图纹;在电解池中导电PEDOT可传递电子使铜离子还原,沉积于导电PEDOT表面,形成针状晶核,再发育成枝晶、纺锤晶和连续铜箔,将导电图纹转化成铜线图纹. 展开更多
关键词 聚乙撑二氧噻吩 原位氧化聚合 真空紫外 选择性金属化 全加成线路板
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VUV辐射改性PET对液相沉降聚合PEDOT/PET透明导电膜的影响
6
作者 马亚晓 李建雄 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期34-38,45,共6页
以172nm真空紫外(VUV)照射聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜,再浸入Fe(OTs)3溶液吸附Fe(OTs)3和浸入3,4-乙撑二氧噻吩(EDOT)溶液引发EDOT在PET表面原位聚合,制备透明导电膜。以红外光谱、水接触角和碘量法分析照射时间对PET表面组成、浸润... 以172nm真空紫外(VUV)照射聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜,再浸入Fe(OTs)3溶液吸附Fe(OTs)3和浸入3,4-乙撑二氧噻吩(EDOT)溶液引发EDOT在PET表面原位聚合,制备透明导电膜。以红外光谱、水接触角和碘量法分析照射时间对PET表面组成、浸润性和吸附性的影响;以紫外-可见分光光谱分析PEDOT的结构;以四探针测定表面电阻;研究VUV辐射对产物透明性和导电性的影响。VUV辐射在PET表面能引入羧基等含氧基团,提高PET的浸润性和吸附性。经4min辐射,水接触角从75°降到30°,Fe(OTs)3吸附量从0.9mmol/m2增加到1.3mmol/m2;经EDOT溶液浸渍,掺杂的PEDOT覆盖PET,使PET变为导电膜。VUV照射4min,所得复合膜的表面电阻可低于900Ω/□,透光率达80%。 展开更多
关键词 真空紫外 表面改性 原位氧化聚合 柔性透明导电膜 聚乙撑二氧噻吩/聚对苯二甲酸乙二醇酯复合膜
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