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激光光热偏转成象法无损检测光学薄膜的激光损伤 被引量：20
1
作者 谈恒英 刘鹏程 施柏煊 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期158-160,共3页
介绍了应用激光光热偏转成象法无损检测光学薄膜激光损伤的基本原理 ,由此建立了实验检测装置 ,对光学薄膜表面的激光损伤进行了扫描检测 ,并以直观的灰度象显示 实验结果证明了激光光热偏转成象法检测光学薄膜激光损伤具有直观、有效。
关键词 光学薄膜 激光损伤 光热偏转法
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6．4-15μm宽带增透膜的设计与制作 被引量：22
2
作者 李大琪 刘定权 张凤山 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期135-137,共3页
红外增透薄膜在航天遥感中有着重要作用．使用了Ge、ZnS、YF3 3种材料，采用Refinement计算机辅助设计的方法，在Ge透镜上研制了6．4～15μm的长波红外增透膜．结果表明：所研制的红外增透膜性能优于光机系统的要求，并在15μm处的透过... 红外增透薄膜在航天遥感中有着重要作用．使用了Ge、ZnS、YF3 3种材料，采用Refinement计算机辅助设计的方法，在Ge透镜上研制了6．4～15μm的长波红外增透膜．结果表明：所研制的红外增透膜性能优于光机系统的要求，并在15μm处的透过率达到79％． 展开更多
关键词 光学薄膜 红外增透膜 Ge透镜
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光学薄膜膜厚监控方法及其进展 被引量：17
3
作者 廖振兴 杨芳 夏文建 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期10-12,共3页
针对目前膜厚监控技术的广泛使用和其方法的日益多样性 ,力图对光学薄膜膜厚监控方法作一个全面、细致的描述。包括膜厚监控方法的分类、进展和展望 。
关键词 光学薄膜 膜厚监控
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空间与频率双性能的薄膜光学滤波器 被引量：15
4
作者 梁冠全 韩鹏 汪河洲 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期2197-2200,共4页
通过耦合两个掺杂的一维光子晶体 ,提出了同时兼具频率和空间光学滤波双性能的一维光子晶体异质结结构 .在一个宽的频带范围内 ,该结构只允许法向入射的确定的一种中心频率光透过 ,偏离法向此中心频率光全反射 ;而在这宽频带范围内其他... 通过耦合两个掺杂的一维光子晶体 ,提出了同时兼具频率和空间光学滤波双性能的一维光子晶体异质结结构 .在一个宽的频带范围内 ,该结构只允许法向入射的确定的一种中心频率光透过 ,偏离法向此中心频率光全反射 ;而在这宽频带范围内其他频率所有的光在任何角方向都全反射 . 展开更多
关键词 一维光子晶体 光学滤波器 光学薄膜 光通信 中心频率
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电子束蒸发沉积TiO_2薄膜结构及光学性能的研究 被引量：11
5
作者 王学华 薛亦渝 +1 位作者 赵利 张幼陵 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 2002年第11期11-14,共4页
研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在 K9玻璃上 Ti O2 薄膜的结构和光学性能的影响。正交试验结果表明 ,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素 ,制备 Ti O2 薄膜的最佳工艺参数为 :基片温度 30 0℃ ,工作真空 2× 10 - 2 Pa,沉积速率... 研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在 K9玻璃上 Ti O2 薄膜的结构和光学性能的影响。正交试验结果表明 ,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素 ,制备 Ti O2 薄膜的最佳工艺参数为 :基片温度 30 0℃ ,工作真空 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/ s。采用最佳工艺沉积在透明基片上的 Ti O2 薄膜在可见光区具有良好的透过特性 ,同时也得出了薄膜的光学带隙能 Eg=3.77e V。 SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构 ,柱状纤维的直径在 10 0～ 15 0 展开更多
关键词 电子束蒸发沉积 薄膜结构 光学性能 TIO2薄膜 光学薄膜 二氧化钛薄膜
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端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究 被引量：13
6
作者 潘永强 朱昌 +1 位作者 陈智利 杭凌侠 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第1期57-60,共4页
研制了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔等离子体离子源 ,论述了该源的工作原理以及伏安特性。着重研究了用五栅网探针测试该源所发射的离子能量的原理和方法 ,并对测量结果进行了分析、比较。
关键词 离子束辅助沉积 光学薄膜 端部霍尔等离子体 离子源 工作原理 束流密度
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宽波段宽角度偏振分束薄膜 被引量：11
7
作者 章岳光 盛永江 +3 位作者 艾曼灵 张梅骄 顾培夫 唐晋发 《光学仪器》 2001年第5期198-201,共4页
介绍了宽波段宽角度偏振分束器 ,对膜系设计制备和测试结果作了简要的分析讨论。
关键词 偏振分束器 光学薄膜 PBS
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太阳模拟器中光谱修正滤光片的研制 被引量：16
8
作者 孟嘉译 付秀华 王迪 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期50-53,共4页
在太阳模拟器中,鉴于氙灯的优点及其光谱能量分布与太阳光谱的相近性,通常使用氙灯模拟太阳光谱,但由于氙灯光谱与太阳光谱分布存在差异,所以研制一种滤光片进行氙灯光谱分布的修正。考虑到滤光片工作在强光辐照条件下,所以选用的薄膜... 在太阳模拟器中,鉴于氙灯的优点及其光谱能量分布与太阳光谱的相近性,通常使用氙灯模拟太阳光谱,但由于氙灯光谱与太阳光谱分布存在差异,所以研制一种滤光片进行氙灯光谱分布的修正。考虑到滤光片工作在强光辐照条件下,所以选用的薄膜材料必须具有低的吸收和高的抗能量阈值。采用电子束和离子辅助沉积技术进行膜层的制备,选择合理的沉积方式并通过优化工艺参数使膜层表面光滑、牢固且通过抗能量测试,最终研制出的光谱修正滤光片满足使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 滤光片 离子辅助沉积 抗能量阈值 太阳模拟器
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光学薄膜中的偏振效应 被引量：14
9
作者 李刚 孙连春 +1 位作者 于兆波 王亚男 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第6期647-651,共5页
介绍了薄膜偏振效应的基本理论。光学薄膜在光倾斜入射时可等效为一线偏振器和一位相延迟器,这一特性可以用琼斯算法进行描述。利用薄膜的这一特性可以消除光学系统中不想要的偏振效应以保持光的偏振状态,也可以用来制作薄膜位相延迟片... 介绍了薄膜偏振效应的基本理论。光学薄膜在光倾斜入射时可等效为一线偏振器和一位相延迟器,这一特性可以用琼斯算法进行描述。利用薄膜的这一特性可以消除光学系统中不想要的偏振效应以保持光的偏振状态,也可以用来制作薄膜位相延迟片。用琼斯算法对YAG激光用全反射角立方反射镜的偏振特性进行了分析,并利用薄膜的偏振特性设计了两膜系对其进行了补偿;最后对一全介质高反射膜的相移特性进行了分析和优化设计,得到了一偏振保持高反射膜。 展开更多
关键词 光学薄膜 偏振效应 位相延迟 琼斯算法 角立方棱镜
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离子束溅射沉积Ta_2O_5光学薄膜的实验研究 被引量：10
10
作者 刘洪祥 熊胜明 +1 位作者 李凌辉 张云洞 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期41-43,55,共4页
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,... 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜。 展开更多
关键词 离子束溅射 光学薄膜 离子辅助沉积 光学特性
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红外/可见光宽带分色片设计与制备 被引量：13
11
作者 林炳 于天燕 +1 位作者 刘定权 张凤山 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期393-395,共3页
红外、可见光分色片对成像光谱技术起着至关重要的作用 ,应用诱导增透概念设计宽光谱分色片 ,并在薄膜制备过程中 ,采用了光学控制结合晶体振荡控制的方法获得了符合实用要求的红外 /可见分色片 ,其 4 0 0nm～ 90 0nm范围 4 5度入射光... 红外、可见光分色片对成像光谱技术起着至关重要的作用 ,应用诱导增透概念设计宽光谱分色片 ,并在薄膜制备过程中 ,采用了光学控制结合晶体振荡控制的方法获得了符合实用要求的红外 /可见分色片 ,其 4 0 0nm～ 90 0nm范围 4 5度入射光透过率大于 80 % ,在 132 5nm～ 130 0 0nm平均反射率大于 90 % ,其光谱特性在已报道过的同类分色片中位于前沿 . 展开更多
关键词 分色片 红外 入射光 光透过率 薄膜制备 晶体 光谱 宽带 同类 可见光
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光学薄膜及其发展现状 被引量：10
12
作者 李金丽 刘全校 许文才 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期14-15,20,共3页
介绍了传统光学薄膜的原理,并对反光膜、增透膜、纳米光学薄膜等传统光学薄膜的研究现状及应用情况,以及几种新型光学薄膜如高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、光电通信用光学薄膜的研究现状及应用进行了详细分析;最后... 介绍了传统光学薄膜的原理,并对反光膜、增透膜、纳米光学薄膜等传统光学薄膜的研究现状及应用情况,以及几种新型光学薄膜如高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、光电通信用光学薄膜的研究现状及应用进行了详细分析;最后对光学薄膜的发展前景进行了展望。 展开更多
关键词 光学薄膜 反光膜 增透膜 纳米光学薄膜 新型光学薄膜
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一种新型的低角度效应的滤波器 被引量：12
13
作者 薛晖 郑臻荣 +3 位作者 顾培夫 张锦龙 沈伟东 陈海星 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期3983-3987,共5页
低角度效应的滤波器由高折射率的介质膜和金属膜交替的奇数层膜组成.这种滤波器使用于斜入射光和大光锥角照明时,不仅中心波长移动显著减少,而且特性仍能保持良好.理论和实验表明,这种新型滤波器能突破现用滤波器对入射角和光锥角的限制... 低角度效应的滤波器由高折射率的介质膜和金属膜交替的奇数层膜组成.这种滤波器使用于斜入射光和大光锥角照明时,不仅中心波长移动显著减少,而且特性仍能保持良好.理论和实验表明,这种新型滤波器能突破现用滤波器对入射角和光锥角的限制.实现低角度效应的主要原理是高折射率材料的使用及其诱导透射的实现. 展开更多
关键词 光学薄膜 新型滤波器 低角度效应
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光学薄膜制备技术 被引量：6
14
作者 司磊 王玉霞 刘国军 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2004年第2期37-40,共4页
本文综述了光学薄膜制备技术的发展与现状 ,着重介绍了真空蒸镀、离子辅助沉积、离子束溅射等传统与现代技术 ,包括工作原理。
关键词 光学薄膜 沉积 溅射
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激光薄膜缺陷研究 被引量：6
15
作者 凌秀兰 黄伟 +1 位作者 孔明东 张云洞 《光学仪器》 2004年第2期178-182,共5页
薄膜缺陷是影响薄膜元件抗激光损伤的重要因素之一,长期以来一直是人们关注和研究的问题。首先介绍了薄膜缺陷的种类、特点及成因。在此基础上,分析了缺陷对激光损伤阈值的影响以及激光预处理对缺陷的影响。最后,对于如何减少缺陷和提... 薄膜缺陷是影响薄膜元件抗激光损伤的重要因素之一,长期以来一直是人们关注和研究的问题。首先介绍了薄膜缺陷的种类、特点及成因。在此基础上,分析了缺陷对激光损伤阈值的影响以及激光预处理对缺陷的影响。最后,对于如何减少缺陷和提高损伤阈值作了讨论。 展开更多
关键词 光学薄膜 激光损伤 损伤阈值 激光薄膜 薄膜缺陷
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面向多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片设计 被引量：12
16
作者 于志强 费书国 +1 位作者 赵帅锋 郭志帅 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第23期253-260,共8页
设计了一组应用于多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片。根据手掌皮肤在可见、近红外光谱波段反射率不同的特点,研究了掌纹识别滤光片的光谱特性参数及膜系设计。为提高系统获得的掌纹图像质量,采用四通道滤光片设计方案,光谱特性... 设计了一组应用于多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片。根据手掌皮肤在可见、近红外光谱波段反射率不同的特点,研究了掌纹识别滤光片的光谱特性参数及膜系设计。为提高系统获得的掌纹图像质量,采用四通道滤光片设计方案,光谱特性参数要求如下:中心波长为λ_(1)=470 nm、λ_(2)=520 nm、λ_(3)=630 nm、λ_(4)=880 nm;各通道的半宽度在8~12 nm范围内,透射率大于90%,平均截止背景深度大于OD6(即光谱透射率T<10^(-6))。 展开更多
关键词 薄膜 光学薄膜 多光谱掌纹图像采集 滤光片 光谱特性参数 膜系设计
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可见与近红外增透膜的设计和制备 被引量：11
17
作者 张家斌 付秀华 贺才美 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期528-530,共3页
为满足大气辐射系统中光学元件的使用要求,即可见与近红外波段高透过,根据双有效界面法设计原理配合膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整和监控方法的改进,制备400-1200 nm宽带增透膜。所镀... 为满足大气辐射系统中光学元件的使用要求,即可见与近红外波段高透过,根据双有效界面法设计原理配合膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整和监控方法的改进,制备400-1200 nm宽带增透膜。所镀膜层在垂直入射时,400-1200 nm波段平均反射率小于1%。同时对膜层牢固性进行了测试,满足大气辐射系统的使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 大气辐射系统 宽带增透膜 离子辅助
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PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术 被引量：12
18
作者 薛俊 杭凌侠 刘昊轩 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期353-356,361,共5页
渐变折射率光学薄膜用途广泛,PECVD技术在制备渐变折射率光学薄膜方面具有独特的优点。通过控制不同反应气体配比变化,分析了反应气体配比变化与所制备的薄膜折射率、消光系数和沉积速率之间的关系,讨论了薄膜折射率、消光系数和沉积速... 渐变折射率光学薄膜用途广泛,PECVD技术在制备渐变折射率光学薄膜方面具有独特的优点。通过控制不同反应气体配比变化,分析了反应气体配比变化与所制备的薄膜折射率、消光系数和沉积速率之间的关系,讨论了薄膜折射率、消光系数和沉积速率变化的原因,研制了折射率可控的氟氧化硅（SiOxFy）、氮氧化硅（SiOxNy）、氮化硅（SixNy）等薄膜材料,获取了折射率在1.33-2.06之间的光学薄膜材料。 展开更多
关键词 光学薄膜 PECVD 折射率控制
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从欧洲真空镀膜会议分析光学薄膜及其技术的研究和发展 被引量：2
19
作者 黄心耕 刘江 王素英 《光学仪器》 1999年第4期238-242,共5页
简要介绍了９６ 年欧洲真空镀膜会议概况，结合９４ 年第一届欧洲真空镀膜专题讨论会的内容，对欧洲各国在光学薄膜和薄膜技术的研究动向作了介绍；并介绍了广泛应用于激光、红外及航天等高技术中的类金刚石和金刚石薄膜、软Ｘ射线多层... 简要介绍了９６ 年欧洲真空镀膜会议概况，结合９４ 年第一届欧洲真空镀膜专题讨论会的内容，对欧洲各国在光学薄膜和薄膜技术的研究动向作了介绍；并介绍了广泛应用于激光、红外及航天等高技术中的类金刚石和金刚石薄膜、软Ｘ射线多层膜的研究成果。 展开更多
关键词 光学薄膜 薄膜技术 类金刚石 软X射线 真空镀膜
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红外双波段激光滤光膜的研制 被引量：11
20
作者 宫大为 付秀华 +1 位作者 耿似玉 杨道奇 《中国光学》 EI CAS 2011年第3期293-298,共6页
为了满足红外军用仪器的特殊要求,根据薄膜理论进行了红外双波段滤光膜的膜系设计;采用电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整,在多光谱ZnS基底上镀制了1 064 nm高反、3～5μm高透的红外双波段滤光膜。利用低能离子轰击,使膜层与... 为了满足红外军用仪器的特殊要求,根据薄膜理论进行了红外双波段滤光膜的膜系设计;采用电子束真空镀膜的方法,通过对工艺参数的调整,在多光谱ZnS基底上镀制了1 064 nm高反、3～5μm高透的红外双波段滤光膜。利用低能离子轰击,使膜层与基底间的应力明显减小;使用BGS 6341薄膜应力测试仪,采用渐变梯度法,测得其压应力由122 MPa降到51 MPa。另外,通过低能离子轰击和真空退火处理,提高了膜层的抗损伤阈值。结果显示所镀膜层满足红外军用仪器的使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 激光滤光膜 离子轰击 真空退火
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