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空间防静电薄膜的制备及耐辐照性能研究 被引量：5
1
作者 赵印中 李林 +3 位作者 许旻 何延春 吴春华 王洁冰 《真空与低温》 2008年第4期215-218,共4页
利用射频磁控溅射工艺制备了ITO防静电薄膜。研究了辐照试验前后ITO样品的光电性能变化,并用XPS和AFM对其组分及表面形貌变化进行了分析。结果表明,辐照后ITO薄膜的光学透过率变化不大;表面电阻有一定增加,但幅度不大,完全可以满足防静... 利用射频磁控溅射工艺制备了ITO防静电薄膜。研究了辐照试验前后ITO样品的光电性能变化,并用XPS和AFM对其组分及表面形貌变化进行了分析。结果表明,辐照后ITO薄膜的光学透过率变化不大;表面电阻有一定增加,但幅度不大,完全可以满足防静电的要求。 展开更多
关键词 ITO薄膜 静电防护 辐照
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