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题名ZrCoRE吸气薄膜的膜层结构与性能研究
被引量：2
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作者
卜继国
毛昌辉
张艳
尉秀英
杜军
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机构
北京有色金属研究总院先进电子材料研究所
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出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期757-761,共5页
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基金
北京有色金属研究总院创新技术基金资助项目(200952702)
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文摘
为了研究膜层结构对非蒸散型吸气薄膜性能的影响,运用射频磁控溅射法(RF magnetron sputtering)制备了ZrCoRE单层膜和双层膜,其中单层膜只含主体层,双层膜含有主体层和附着层。采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射法(XRD)表征了薄膜的形貌和结构,利用ASTM F798-97"动态法"测试了薄膜的吸气性能。结果表明,ZrCoRE薄膜的主体层在较高沉积压强(4 Pa)下受到原子阴影效应与沉积原子低迁移率的作用而形成柱状组织,附着层在较低沉积压强下(0.2 Pa)由于沉积原子迁移率高而形成致密组织,附着层的存在使主体层柱状组织实现连续生长;主体层表面为20 nm的颗粒无序堆积态,形成了大量的表/界面缺陷;通过高频感应在300℃下激活30 min,在2.7×10-4Pa的H2压强下,薄膜的室温吸气速率在1～100 cm3·s-·1cm-2范围内变化;双层膜吸气速率是单层膜的10倍,3 h的吸气量达80 Pa·cm3·cm-2;吸气薄膜的大活性比表面积和高扩散速率,使其单位质量吸气量达104Pa·cm3·g-1量级以上,高于块体吸气剂的103Pa·cm3·g-1量级,附着层的存在提高了主体层的吸气性能。
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关键词
ZrCoRE
非蒸散型吸气薄膜
磁控溅射法
膜层结构
吸气性能
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Keywords
ZrCoRE
non-evaporable getter thin film
magnetron sputtering
layer structure
sorption property
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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