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高功率激光系统中缺陷引起的近场调制分析 被引量：7
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作者 尤科伟 张艳丽 +2 位作者 张雪洁 张军勇 朱健强 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期7-12,共6页
高功率激光装置中通过测量光束强度分布来评价近场光束质量。然而测量结果为一稳态分布,并不能真实反映经噪声扰动后光束的强弱调制演变特性,可能会忽略传输过程中存在的调制较为严重的区域。针对此问题着重研究了光束经噪声扰动后的近... 高功率激光装置中通过测量光束强度分布来评价近场光束质量。然而测量结果为一稳态分布,并不能真实反映经噪声扰动后光束的强弱调制演变特性,可能会忽略传输过程中存在的调制较为严重的区域。针对此问题着重研究了光束经噪声扰动后的近场传输演化特性,进而对近场分布测量的局限性进行深化理解和补充。同时,为简化分析单因素局部缺陷影响下不同传播距离处的近场分布变化规律,引入等效菲涅耳数来表征近场强度调制特性。结果表明,当实测近场分布中存在较弱调制信息时,测量位置之前可能存在更为严重的调制区域。以调制为π的相位型缺陷为例,其最大调制相对于入射光强度可增大9倍。 展开更多
关键词 物理光学 近场光束质量 等效菲涅耳数 表面缺陷
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光学元件表面缺陷相对位置分布对近场光束质量的影响 被引量：15
2
作者 尤科伟 张艳丽 +2 位作者 张雪洁 张军勇 朱健强 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期255-263,共9页
针对高功率激光装置,光学元件表面不同分布形态的多个缺陷引起的子光束,在传输过程中会相互干涉叠加,引起光束质量发生复杂变化,因此有必要对缺陷的相对位置关系加以规范。基于光的衍射传输理论,研究了光学元件表面存在不同空间分布的... 针对高功率激光装置,光学元件表面不同分布形态的多个缺陷引起的子光束,在传输过程中会相互干涉叠加,引起光束质量发生复杂变化,因此有必要对缺陷的相对位置关系加以规范。基于光的衍射传输理论,研究了光学元件表面存在不同空间分布的划痕时光场调制的变化,以及划痕深度对调制光束近场分布的影响。结果表明,元件前后表面存在平行或垂直划痕时均会比单一划痕产生更加严重的光束调制,最大调制度可增至1.5倍,且划痕具有更严格的深度要求。研究结果为光学元件图形制备标准的补充及高功率激光装置大口径光学元件表面缺陷指标的确定提供了重要参考。 展开更多
关键词 物理光学 相位调制 近场光束质量 表面缺陷 相对位置分布
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用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性 被引量：9
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作者 温圣林 侯晶 +3 位作者 杨春林 颜浩 马平 周礼书 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1543-1547,共5页
为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近... 为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近场均匀性主要受入射光调制、CPP表面剩余反射率和衍射传输距离的影响;当入射光束质量较差时,CPP后的近场均匀性主要由入射光束质量决定,CPP剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小;但当光束质量比较理想时,干涉和衍射作用会破坏CPP的近场均匀性,衍射传输距离影响尤为突出。 展开更多
关键词 衍射与光栅 连续相位板 近场 光束质量 惯性约束聚变
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