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窄条边水油藏水驱后期孔隙分布及动用特征 被引量:2
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作者 肖康 姜汉桥 +2 位作者 范英彬 王倩 梁志山 《大庆石油地质与开发》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期129-133,共5页
基于江苏油田窄条状油藏孔隙分布规律、主控因素分析和不同类型岩心的驱替实验,应用水驱、聚合物驱、表活剂驱、聚表二元驱及弱凝胶驱等方式研究了剩余油动用规律。结果表明:窄条状油藏不同部位储层的孔隙变化特征不同,靠近边水部位的... 基于江苏油田窄条状油藏孔隙分布规律、主控因素分析和不同类型岩心的驱替实验,应用水驱、聚合物驱、表活剂驱、聚表二元驱及弱凝胶驱等方式研究了剩余油动用规律。结果表明:窄条状油藏不同部位储层的孔隙变化特征不同,靠近边水部位的较大孔隙的变化较大,腰部位次之,高部位最小;水驱倍数、孔喉大小、黏土矿物含量等是影响孔隙分布的主要因素;靠近边部的岩心适合弱凝胶驱,腰部位适合聚表二元驱,顶部在高速水驱或聚合物驱时效果较好。研究结果为剩余油挖潜提供了理论依据。 展开更多
关键词 窄条状 边水油藏 孔隙分布 剩余油挖潜 偏相关分析 物理实验 核磁共振
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AlGaAs窄条型自脉冲半导体激光器的模拟设计
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作者 伍冠洪 《湖南理工学院学报(自然科学版)》 CAS 2009年第3期52-55,共4页
采用一维计算模型对窄条型自脉冲激光器的结构进行了全面的模拟设计.数值计算模型基于有效折射率法和窄条型结构的自维持脉冲机理,在有源层载流子浓度调节下光场产生的自聚焦和散焦现象增强了自脉冲效应.多量子阱AlGaAs器件的设计输出... 采用一维计算模型对窄条型自脉冲激光器的结构进行了全面的模拟设计.数值计算模型基于有效折射率法和窄条型结构的自维持脉冲机理,在有源层载流子浓度调节下光场产生的自聚焦和散焦现象增强了自脉冲效应.多量子阱AlGaAs器件的设计输出自脉冲频率达到1.45GHz,完全符合实际器件参数. 展开更多
关键词 自脉冲 窄条型 半导体激光器 ALGAAS
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全光3R中的窄条AlGaAs激光器自脉动研究
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作者 王文轩 胡晓晨 《光电技术应用》 2008年第6期5-8,共4页
分析了利用窄条AlGaAs激光器的自持脉动来进行3R时钟恢复的原理,着重阐述F-P腔半导体激光器自持脉动产生的机理和条件,同时研究窄条AlGaAs激光器的结构参数对自持脉动的影响.在此基础上讨论了改变自脉动频率和提高输出光脉冲功率的方法... 分析了利用窄条AlGaAs激光器的自持脉动来进行3R时钟恢复的原理,着重阐述F-P腔半导体激光器自持脉动产生的机理和条件,同时研究窄条AlGaAs激光器的结构参数对自持脉动的影响.在此基础上讨论了改变自脉动频率和提高输出光脉冲功率的方法.最后提出了通过采用一种不规则窄条结构来提高激光器的输出光脉冲频率的方法,并使用仿真程序进行了仿真实验.结果表明,采用该结构可以比在同样条件下采用规则窄条结构获得更高频率的输出光脉冲. 展开更多
关键词 时钟恢复 窄条AlGaAs激光器 自持脉动
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窄条AlGaAs激光器自脉动的研究及结构设计
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作者 王文轩 胡晓晨 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期12-14,共3页
阐述了窄条A1GaAs激光器自脉动现象产生的机理和条件,利用激光器的自脉动可以进行全光3R时钟提取,并研究改变激光器的结构参数对自脉动现象的影响规律。重点提出了一种在窄条AlGaAs激光器中加入量子阱结构的方法,通过仿真实验表明,该种... 阐述了窄条A1GaAs激光器自脉动现象产生的机理和条件,利用激光器的自脉动可以进行全光3R时钟提取,并研究改变激光器的结构参数对自脉动现象的影响规律。重点提出了一种在窄条AlGaAs激光器中加入量子阱结构的方法,通过仿真实验表明,该种含量子阱结构的窄条AlGaAs激光器能够提高输出光脉冲的频率和功率,减少输出光脉冲散光特性。 展开更多
关键词 窄条AlGaAs激光器 自脉动 时钟提取 量子阱
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窄条宽MOCVD选区生长InP系材料的速率增强因子
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作者 张瑞英 董杰 +3 位作者 周帆 冯志伟 边静 王圩 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期399-402,共4页
报道了窄条宽选区生长有机金属化学气相沉积 (NSAG- MOCVD)成功生长的 In P系材料 ,并提出在 NSAG-MOCVD生长研究中 ,引入填充因子的必要性 ,给出速率增强因子随填充因子变化的经验公式 ,计算得出速率增强因子随填充因子的变化关系 .与... 报道了窄条宽选区生长有机金属化学气相沉积 (NSAG- MOCVD)成功生长的 In P系材料 ,并提出在 NSAG-MOCVD生长研究中 ,引入填充因子的必要性 ,给出速率增强因子随填充因子变化的经验公式 ,计算得出速率增强因子随填充因子的变化关系 .与实验结果作了比较 ,发现 In P的速率增强因子主要取决于掩膜宽度 ,In Ga As P的速率增强因子不仅与掩膜宽度有关 ,同时也依赖于生长厚度 。 展开更多
关键词 窄条宽选区生长 MOCVD 磷化铟系材料 速率增强因子
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