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纳米硬质薄膜的研究进展 被引量:7
1
作者 陶斯武 雷诺 曲选辉 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2005年第3期37-41,55,共6页
介绍了纳米硬质薄膜的概念、设计思想、超硬机制、制备技术及工艺、性能、应用前景,综述了近几年来国内外纳米硬质薄膜材料研究的最新进展,对纳米硬质薄膜的发展趋势提出了一些看法。
关键词 纳米硬质薄膜 硬度 纳米多层膜 纳米复合膜
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高磁损耗型纳米多层膜研究 被引量:9
2
作者 邓联文 江建军 +1 位作者 冯则坤 何华辉 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期51-53,共3页
研究一种能用于微波吸收的高磁损耗型纳米多层膜材料 ,该多层膜材料采用软磁合金层CoFeZrNd和绝缘介质层SiO2 交替的周期结构 ,用磁控溅射工艺制备的这类薄膜在微波段可具有高磁导率和大磁损耗 ,2GHz时 μ′=12 1,μ″=14 7.重点探讨了... 研究一种能用于微波吸收的高磁损耗型纳米多层膜材料 ,该多层膜材料采用软磁合金层CoFeZrNd和绝缘介质层SiO2 交替的周期结构 ,用磁控溅射工艺制备的这类薄膜在微波段可具有高磁导率和大磁损耗 ,2GHz时 μ′=12 1,μ″=14 7.重点探讨了磁性合金层厚度、介质层厚度。 展开更多
关键词 吸波材料 纳米多层膜 高频特性 复磁导率
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纳米多层膜的研究现状 被引量:8
3
作者 张山山 王锦标 苏永要 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第21期147-154,共8页
纳米多层膜是在单层膜与复合膜的基础上发展起来的一种新型薄膜,它被广泛应用于机械加工、航空航天、能源等领域,作为结构材料或功能材料都具有良好的发展前景。介绍了近十几年纳米多层膜的研究状况,主要从多层膜体系、制备技术、多层... 纳米多层膜是在单层膜与复合膜的基础上发展起来的一种新型薄膜,它被广泛应用于机械加工、航空航天、能源等领域,作为结构材料或功能材料都具有良好的发展前景。介绍了近十几年纳米多层膜的研究状况,主要从多层膜体系、制备技术、多层膜的性能以及多层膜的表征方法4个方面对纳米多层膜进行了综述,同时对纳米多层膜的超硬机制、纳米多层膜未来的研究方向和应用前景进行了分析。 展开更多
关键词 纳米多层膜 制备技术 性能 表征方法
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TiN/AlN纳米多层膜的调制周期及力学性能研究 被引量:4
4
作者 陈德军 代明江 +2 位作者 林松盛 李洪武 候惠君 《真空》 CAS 北大核心 2007年第4期52-54,共3页
采用一种新型的离子束辅助非平衡反应磁控溅射设备制备了TiN/AlN纳米多层复合膜。采用XRD衍射、TEM、显微硬度计和干涉显微镜对TiN/AlN纳米多层膜的微结构和力学性能进行了表征。结果表明:TiN/AlN多层膜有良好的周期;调制结构影响薄膜... 采用一种新型的离子束辅助非平衡反应磁控溅射设备制备了TiN/AlN纳米多层复合膜。采用XRD衍射、TEM、显微硬度计和干涉显微镜对TiN/AlN纳米多层膜的微结构和力学性能进行了表征。结果表明:TiN/AlN多层膜有良好的周期;调制结构影响薄膜的择优取向,薄膜整体表现出硬度增强的效果,硬度随调制周期的变化而变化并在调制周期为7.5nm时达到最大值。 展开更多
关键词 纳米多层膜 调制周期 非平衡反应磁控溅射 力学性能
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电刷镀Cu/Ni纳米多层膜的微动磨损性能 被引量:5
5
作者 杨红军 谭俊 +1 位作者 郭文才 于甜甜 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2006年第6期1-3,共3页
用球-盘磨损装置研究了电刷镀Cu/Ni纳米多层膜的摩擦磨损性能,采用SEM观察了其表面和截面形貌,并比较了该复合膜层与纯镍镀层的摩擦系数随时间的变化趋势、磨损量以及磨痕形貌。结果表明,该纳米多层膜具有较好的抗微动磨损性能,且晶粒... 用球-盘磨损装置研究了电刷镀Cu/Ni纳米多层膜的摩擦磨损性能,采用SEM观察了其表面和截面形貌,并比较了该复合膜层与纯镍镀层的摩擦系数随时间的变化趋势、磨损量以及磨痕形貌。结果表明,该纳米多层膜具有较好的抗微动磨损性能,且晶粒细小,组织致密,界面清晰,各子层厚度均匀;该镀层与纯镍镀层的摩擦系数在达到稳定值后无明显变化;该多层膜的微动磨损方式为粘着疲劳磨损。 展开更多
关键词 电刷镀 纳米多层膜 Cu/Ni 微动磨损 摩擦系数
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活塞环表面Cr/CrN纳米多层膜的微观结构与摩擦学性能 被引量:5
6
作者 蔡志海 底月兰 张平 《沈阳工业大学学报》 EI CAS 2011年第4期375-381,共7页
为改善发动机活塞环的摩擦学性能,提高其使用寿命,采用多弧离子镀技术在活塞环表面制备了Cr/CrN纳米多层膜.采用x-射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、俄歇能谱仪(AES)、纳米硬度仪和CETR摩擦磨损试验机,系统分析了不同调制周期Cr/Cr... 为改善发动机活塞环的摩擦学性能,提高其使用寿命,采用多弧离子镀技术在活塞环表面制备了Cr/CrN纳米多层膜.采用x-射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、俄歇能谱仪(AES)、纳米硬度仪和CETR摩擦磨损试验机,系统分析了不同调制周期Cr/CrN纳米多层膜的微观结构、成分分布、纳米硬度和抗滑动磨损性能.结果表明:Cr/CrN多层膜由CrN、Cr2N和Cr相组成,在CrN(200)方向上出现择优取向.随调制周期的减小,多层膜的硬度和残余应力增大,当调制周期为80 nm时,多层膜的硬度值最高达到21.5 GPa;当调制周期为120 nm时,H3/E2值达到最高,此时划痕临界载荷值最高.根据摩擦磨损试验结果可知,与电镀Cr和CrN涂层相比,Cr/CrN多层膜具有相对较好的抗滑动磨损性能,其磨损机制主要以磨粒磨损为主,有可能替代原活塞环Cr电镀层. 展开更多
关键词 活塞环 离子镀 铬/氮化铬 纳米多层膜 调制周期 微观结构 摩擦学性能 Cr电镀层
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电化学沉积纳米多层膜研究 被引量:3
7
作者 陶景光 廖兆曙 +1 位作者 冯继军 彭喜英 《武汉科技学院学报》 2003年第1期32-35,共4页
用电化学沉积法和自制的微机数控电化学电源,在半导体硅片等衬底上成功制备出Cu/Co等组分调制多层膜,利用EPMA、SEM、STM(AFM)、TEM多种方法表征其微结构。 电化学沉积实验表明,在较高过电压、较低电流密度和较低PH(≈1.8)等条件下,能获... 用电化学沉积法和自制的微机数控电化学电源,在半导体硅片等衬底上成功制备出Cu/Co等组分调制多层膜,利用EPMA、SEM、STM(AFM)、TEM多种方法表征其微结构。 电化学沉积实验表明,在较高过电压、较低电流密度和较低PH(≈1.8)等条件下,能获得GMR≥8%的纳米多层膜。 展开更多
关键词 电化学沉积 纳米多层膜 巨磁阻效应 结构表征 表面微结构 制备工艺
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磁控溅射沉积TiB_2/DLC纳米多层膜的结构及其机械性能研究 被引量:3
8
作者 任宁 何东青 张广安 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期56-63,共8页
采用非平衡磁控溅射系统在P(100)硅片和304不锈钢基底上制备TiB_2/DLC纳米多层膜。利用FESEM、TEM、XRD和AFM观察多层膜的微观结构和表面形貌;利用纳米压痕仪、维氏硬度计和CSM球-盘摩擦磨损试验机考察TiB_2靶电流对多层膜的机械性能和... 采用非平衡磁控溅射系统在P(100)硅片和304不锈钢基底上制备TiB_2/DLC纳米多层膜。利用FESEM、TEM、XRD和AFM观察多层膜的微观结构和表面形貌;利用纳米压痕仪、维氏硬度计和CSM球-盘摩擦磨损试验机考察TiB_2靶电流对多层膜的机械性能和摩擦学性能的影响。结果表明:TiB_2/DLC多层膜具有良好的多层调制结构,多层膜沿TiB_2(101)晶向择优生长;多层膜的表面粗糙度随着TiB_2靶电流增加而增加;多层膜中的大量异质界面能显著提高薄膜的硬度及韧性,而且当TiB_2靶电流为2.0 A时,多层膜的硬度约为单层DLC薄膜的两倍;多层膜中具有硬质TiB_2层和软质DLC层的交替结构,在摩擦过程中,硬层TiB_2起到良好的承载作用,软层DLC起到良好的润滑作用,使多层膜具有比单层DLC薄膜更低的摩擦因数。 展开更多
关键词 Ti B2/DLC 纳米多层膜 机械性能 摩擦学性能
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纳米多层膜及其在材料连接应用中的研究进展 被引量:3
9
作者 李红 许保珍 +4 位作者 侯金保 邢增程 刘璇 胡安明 TILLMANN Wolfgang 《航空制造技术》 2019年第12期14-21,共8页
纳米多层膜由于尺寸效应,存在熔点降低现象,应用于温度敏感材料的连接具有明显优势。同时由于多层膜层剧烈而快速的自蔓延放热反应,应用于连接时可以提供巨大热量。一方面可作为中间层辅助钎焊或扩散焊接;另一方面可作为独立热源为连接... 纳米多层膜由于尺寸效应,存在熔点降低现象,应用于温度敏感材料的连接具有明显优势。同时由于多层膜层剧烈而快速的自蔓延放热反应,应用于连接时可以提供巨大热量。一方面可作为中间层辅助钎焊或扩散焊接;另一方面可作为独立热源为连接提供热量。纳米多层膜反应过程的实时观察受到单镜头拍摄速度和测量精度等条件的限制,而分子动力学模拟的应用为纳米多层膜反应机理研究拓展了新的思路。 展开更多
关键词 纳米多层膜 自蔓延 连接 尺寸效应 分子动力学模拟
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电刷镀Cu/Ni纳米多层膜镀液的研究 被引量:2
10
作者 谭俊 杨红军 郭文才 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2005年第4期27-30,共4页
应用扫描电子显微镜(SEM)对电刷镀Cu、Ni薄膜表面形貌进行了观察,并对膜层进行了能谱(EDS)成分分析。结果表明:改变镀液配比和沉积电压,镀层的成分和沉积速率都有明显的变化;在适当的镀液配比下,控制沉积电位,可以分别刷镀出Cu镀层和Ni... 应用扫描电子显微镜(SEM)对电刷镀Cu、Ni薄膜表面形貌进行了观察,并对膜层进行了能谱(EDS)成分分析。结果表明:改变镀液配比和沉积电压,镀层的成分和沉积速率都有明显的变化;在适当的镀液配比下,控制沉积电位,可以分别刷镀出Cu镀层和Ni镀层;控制沉积时间,可以实现纳米多层膜的制备;镀层的生长方式以沿晶外延生长为主,当沉积电压增高时,还伴随有新的晶核的形成和取向择优生长。 展开更多
关键词 纳米多层膜 电刷镀 镀液
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Si含量对TaN/TiSiN纳米多层膜结构和性能的影响 被引量:2
11
作者 阎红娟 田沁叶 +3 位作者 张淑婷 司丽娜 刘峰斌 李春阳 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2021年第2期1-7,共7页
采用磁控溅射技术在304不锈钢和硬质合金刀片上交替沉积TaN、TiSiN层,制备不同Si含量的TaN/TiSiN纳米多层膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、纳米压痕仪、原子力显微镜和摩擦磨损试验机等仪器的测试结果来表征其微观结构、硬度、表... 采用磁控溅射技术在304不锈钢和硬质合金刀片上交替沉积TaN、TiSiN层,制备不同Si含量的TaN/TiSiN纳米多层膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、纳米压痕仪、原子力显微镜和摩擦磨损试验机等仪器的测试结果来表征其微观结构、硬度、表面粗糙度及摩擦学等性能。不同Si含量的TaN/TiSiN纳米多层膜均在(200)晶面呈现择优取向,并且衍射峰随着Si含量的增加向右偏移,当Si含量为10%时,衍射峰的偏移量最大。随着Si含量的增加,TaN/TiSiN纳米多层膜的硬度先升高后降低,当Si含量为10%时,硬度最大,达到25.8 GPa。表面粗糙度值随着Si含量的增加先减小后增大,随后又减小,当Si含量为15%时,TaN/TiSiN纳米多层膜的表面最光滑,表面粗糙度值最小,为Ra 2.34 nm。摩擦系数和主切削力均随着Si含量的增加先减小后增大,当Si含量为15%时,摩擦系数最小,耐磨性能最好,主切削力最小;研究结果表明,掺入适量的Si元素可以有效地提高TaN/TiSiN纳米多层膜的硬度、耐磨性能和切削性能。 展开更多
关键词 纳米多层膜 SI含量 微观结构 硬度 摩擦学性能
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自支撑Cu/Zr纳米多层膜的制备研究
12
作者 苑永涛 方敬忠 《光学仪器》 2008年第6期77-80,共4页
自支撑纳米多层膜可用作轻型反射镜面材料,自支撑薄膜的制备技术是目前应用中存在的主要问题之一。利用磁控溅射方法在抛光石英玻璃基片上复制了直径70mm厚约100μm自支撑Cu/Zr纳米多层膜,使用显微硬度计、表面轮廓仪分析了自支撑薄... 自支撑纳米多层膜可用作轻型反射镜面材料,自支撑薄膜的制备技术是目前应用中存在的主要问题之一。利用磁控溅射方法在抛光石英玻璃基片上复制了直径70mm厚约100μm自支撑Cu/Zr纳米多层膜,使用显微硬度计、表面轮廓仪分析了自支撑薄膜的力学性能和表面粗糙度。研究结果表明:自支撑Cu/Zr纳米多层膜面密度0.5kg/m^2,显微硬度5.7GPa,屈服强度1562MPa,复制面表面粗糙度1.33~1.93nm。复制的自支撑薄膜具有优异的力学及表面性能。 展开更多
关键词 纳米多层膜 显微硬度 表面粗糙度 复制
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脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响 被引量:17
13
作者 赵彦辉 林国强 +2 位作者 李晓娜 董闯 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1106-1110,共5页
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜,采用正交实验法设计脉冲偏压电参数,考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响.结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和... 采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜,采用正交实验法设计脉冲偏压电参数,考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响.结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中,脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素;当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900V、占空比为50%及频率为30kHz时,薄膜硬度可高达34.1GPa,此时多层膜调制周期为84nm,TiN和Ti单元层厚度分别为71和13nm;由于薄膜中的单层厚度较厚,纳米尺寸的强化效应并未充分体现于薄膜硬度的贡献中,硬度的提高主要与脉冲偏压工艺,尤其是脉冲偏压幅值对薄膜组织的改善有关. 展开更多
关键词 脉冲偏压 电弧离子镀 Ti/TiN纳米多层薄膜 显微硬度
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基体偏压对磁控溅射制备CrAlN纳米多层薄膜微观结构和力学性能的影响 被引量:6
14
作者 王宇星 张侠 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期41-45,共5页
采用磁控溅射技术在不同基体偏压(-60,-70,-80,-90 V)下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明:随着基体偏压绝对值增大,CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加,物相组成不变,择优取向由CrN(111)... 采用磁控溅射技术在不同基体偏压(-60,-70,-80,-90 V)下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明:随着基体偏压绝对值增大,CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加,物相组成不变,择优取向由CrN(111)晶面转变为CrN(200)晶面,薄膜表面孔隙减少,组织致密性得到改善;基体偏压为-60~-80 V时,偏压对薄膜沉积速率的影响较小,偏压绝对值大于80 V时,沉积速率明显下降;随着基体偏压绝对值增大,薄膜的硬度和弹性模量提高,膜基结合力先增大后减小,在偏压为-80 V时达到最大。 展开更多
关键词 CrAlN纳米多层薄膜 磁控溅射 基体偏压 微观结构 力学性能
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MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜结构设计及其宽温域摩擦性能研究 被引量:1
15
作者 高臻荣 候果源 任思明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期80-89,170,共11页
目的探究环境温度对MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜摩擦磨损性能的影响,探讨并揭示薄膜在高温环境下的损伤机理。方法采用非平衡磁控溅射技术制备MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜,评价Ti、WC双功能组元以及纳米多层结构设计对薄膜表面形貌和微观... 目的探究环境温度对MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜摩擦磨损性能的影响,探讨并揭示薄膜在高温环境下的损伤机理。方法采用非平衡磁控溅射技术制备MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜,评价Ti、WC双功能组元以及纳米多层结构设计对薄膜表面形貌和微观结构的影响。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、扫描探针显微镜(SPM)等表征手段对薄膜的晶体结构、表截面形貌以及表面粗糙度进行分析,利用原位纳米压痕仪对薄膜的力学性能进行评估,利用高温摩擦磨损试验机评价薄膜在不同温度环境(25~300℃)下的摩擦磨损性能,进一步通过激光共聚焦对磨痕和磨斑进行光学形貌分析,并利用能谱仪(EDS)和共聚焦显微拉曼光谱(Micro-Raman)对钢配副表面的摩擦转移膜进行成分分析。最终揭示MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜在不同温度下的磨损机理。结果MoS_(2)/Ti-WC纳米多层的结构设计可以诱导MoS_(2)(002)晶面的择优生长,获得表面平整光滑、结构致密的薄膜。相比于MoS_(2)/Ti薄膜,WC纳米层的引入,赋予薄膜更高的硬度和硬/弹比。MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜在潮湿空气中的平均摩擦因数为0.07,平均磨损率为6.14×10^(-7)mm^(3)/(N·m)。结论MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜在宽温域(100~300℃)内保持稳定的摩擦性能,这得益于薄膜纳米多层的结构设计、高的硬/弹比以及优异的抗氧化性能,同时在钢配副表面形成了连续且致密的转移膜。 展开更多
关键词 磁控溅射 MoS_(2)/Ti-WC纳米多层薄膜 环境适应性 高温润滑性能 摩擦磨损
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难混溶体系Al/Pb金属多层膜的Pb膜微观形貌和生长方式 被引量:3
16
作者 段林昆 孙勇 +1 位作者 郭中正 沈黎 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期14-17,共4页
用磁控溅射法在载玻片上镀制了难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜,考察了调制波长对Pb膜成膜的影响,借用Philip XL370型扫描电子显微镜研究了成膜质量、表面形貌及膜层断面结构形貌,并采用X射线观测了样品中Al、Pb相的存在形式和膜层结构... 用磁控溅射法在载玻片上镀制了难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜,考察了调制波长对Pb膜成膜的影响,借用Philip XL370型扫描电子显微镜研究了成膜质量、表面形貌及膜层断面结构形貌,并采用X射线观测了样品中Al、Pb相的存在形式和膜层结构变化。结果表明,当Pb膜达到一定厚度时,可得到均一、致密的难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜。探讨了膜的形成机理,给出了成核过程模型,并进一步修正了传统成膜机制。 展开更多
关键词 难混溶体系 Al/Pb金属纳米多层膜 成膜质量 表面形貌
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O_2分压和退火对TiO_2/SiO_2纳米多层膜结构和光学性能的影响 被引量:3
17
作者 张瑞奇 董磊 +1 位作者 李德军 刘孟寅 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期2355-2361,共7页
利用Mass软件设计了TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜膜系,并采用高真空电子束蒸发系统在不同O2分压条件下制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,TiO2/SiO2薄膜多层膜体系在沉积条件下获得了很好的宽光谱光学透射性能,在可见光谱范围内透射率接近设计... 利用Mass软件设计了TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜膜系,并采用高真空电子束蒸发系统在不同O2分压条件下制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,TiO2/SiO2薄膜多层膜体系在沉积条件下获得了很好的宽光谱光学透射性能,在可见光谱范围内透射率接近设计值,平均透射率达到90%以上。通过一系列测试方法对多层膜退火前后的透射率、组分结构和退火以后的残余应力以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:在较高O2分压条件下,由于多层膜结构中O空位的减少,使得多层膜透射率逐渐增加。在退火条件下,随着退火温度的增加,导致了表面均方根粗糙度(RMS)的增加以及晶粒的聚集长大,500℃时多层膜组分结晶化明显加强,使得缺陷增多;同时受退火温度的影响,残余应力逐渐增加,组分相互扩散加剧使得多层膜界面受到破坏。这些因素最终导致TiO2/SiO2多层膜的透射率逐渐降低。 展开更多
关键词 O2分压 TIO2 SiO2纳米多层光学增透膜 电子束蒸发 透射率
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超硬纳米多层膜的材料选择与结构设计 被引量:2
18
作者 赵彦辉 肖金泉 +2 位作者 林国强 郎文昌 于宝海 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第10期68-71,95,共5页
综述了近年来超硬纳米多层膜材料选择与结构设计的研究进展,主要介绍了多层膜的选材,从构成多层膜的材料种类、膜与基体的选择、多层膜材料的选择以及从超硬效应理论得到的启示等几个方面总结了多层膜实现超硬特性时要考虑的因素,并指... 综述了近年来超硬纳米多层膜材料选择与结构设计的研究进展,主要介绍了多层膜的选材,从构成多层膜的材料种类、膜与基体的选择、多层膜材料的选择以及从超硬效应理论得到的启示等几个方面总结了多层膜实现超硬特性时要考虑的因素,并指出了目前存在的问题及今后的发展方向。 展开更多
关键词 超硬纳米多层膜 材料选择 结构设计
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(AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜的微观结构和力学性能研究 被引量:2
19
作者 陈立强 李伟 +5 位作者 刘平 何代华 张柯 马凤仓 刘新宽 陈小红 《有色金属材料与工程》 CAS 2021年第1期10-16,共7页
在单晶硅片基底上采用反应磁控溅射技术交替溅射AlCrTiZrNb靶与Al_(2)O_(3)靶,制备了不同厚度Al_(2)O_(3)层的(AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜。采用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD),高分辨率透射电子显微镜(high resolution t... 在单晶硅片基底上采用反应磁控溅射技术交替溅射AlCrTiZrNb靶与Al_(2)O_(3)靶,制备了不同厚度Al_(2)O_(3)层的(AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜。采用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD),高分辨率透射电子显微镜(high resolution transmission electron microscopes,HRTEM),扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)以及纳米压痕测试仪对(AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜的微观结构、力学性能等进行表征。结果表明:当Al_(2)O_(3)层厚度小于0.8 nm时,Al_(2)O_(3)层在(AlCrTiZrNb)N层的模板效应下由非晶态转化为立方结构亚稳态,与(AlCrTiZrNb)N层之间形成共格界面外延生长结构;(AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜的弹性模量和硬度随着Al_(2)O_(3)层厚度的增加先增大后减小,当Al_(2)O_(3)层厚度为0.8 nm时达到最大值,分别为317.6 GPa和29.8 GPa;薄膜的结晶性良好,清晰的柱状晶结构贯穿整个调制周期。 展开更多
关键词 (AlCrTiZrNb)N/Al_(2)O_(3)纳米多层膜 磁控溅射 力学性能
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Structure,magnetic properties and giant magneto-striction studies in [Tb/Fe/Dy]_n nano-multilayer film 被引量:1
20
作者 LI XiaoDong ZHAO ZhenJie HUANG SuMei PAN LiKun CHEN YiWei YANG XieLong SUN Zhuo 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2009年第4期608-611,共4页
[Tb/Fe/Dy]n nano-multilayer films, with precise composition of Tb0.27Dy0.73Fe2, were prepared by the multi-targets magnetron sputtering technique at room temperature (sample A) and 300℃ substrate temperature (sample ... [Tb/Fe/Dy]n nano-multilayer films, with precise composition of Tb0.27Dy0.73Fe2, were prepared by the multi-targets magnetron sputtering technique at room temperature (sample A) and 300℃ substrate temperature (sample B). Both of the nano-multilayer films show columnar structures perpendicular to the film plane according to the scanning electron microscopy results. The magnetic hysteresis loops and the giant magnetostriction (GMS) property of the two samples indicate the perpendicular anisotropy in them. In spite of the perpendicular anisotropy, both of the samples present GMS effect. In a very low applied field of 0.18 T, the GMS value in sample B is 89.3 ppm, which is about four times of that in sample A, 23.5 ppm. The good low-field GMS effect in sample B might attribute to the Laves phase of R-Fe2 segregated from the amorphous matrix under the thermal annealing of the substrate. The relation between the magnetization process and GMS property of the perpendicular anisotropy nano-multilayer films is further investigated. 展开更多
关键词 纳米多层模 磁弹性效果 正交各向异性 [铽/铁/镝]n纳米材料
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