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软X射线投影光刻原理装置的设计 被引量:14
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作者 金春水 王占山 曹健林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2000年第1期66-70,共5页
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻... 首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 . 展开更多
关键词 软X射线投影 光刻 多层膜反射镜
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加载龙伯透镜反射器的靶标RCS改型设计与仿真 被引量:8
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作者 马德有 杨晨晨 +1 位作者 王毅 曹群生 《火力与指挥控制》 CSCD 北大核心 2016年第10期155-158,162,共5页
针对武器装备试验、训练构建实战化空情模拟条件的要求,提出利用小型靶标加载龙伯透镜反射器模拟空袭武器雷达散射截面(Radar Cross Section,RCS)的方法。基于FEKO电磁仿真软件,分析了龙伯透镜反射器(Luneburg-Lens Reflectors)散射机... 针对武器装备试验、训练构建实战化空情模拟条件的要求,提出利用小型靶标加载龙伯透镜反射器模拟空袭武器雷达散射截面(Radar Cross Section,RCS)的方法。基于FEKO电磁仿真软件,分析了龙伯透镜反射器(Luneburg-Lens Reflectors)散射机理和散射特性影响因素,对不同形状、尺寸和位置反射板的龙伯透镜反射器RCS特性进行了数值仿真,总结了反射板对反射器RCS的影响规律,重点基于反射器对靶标RCS起伏特性进行了改型设计,对靶标加载单个和两个龙伯透镜反射器进行了联合仿真计算和分析。结果表明,利用靶标加载龙伯透镜反射器可以实现RCS改型的目的。 展开更多
关键词 龙伯透镜 多层介质 反射器 靶标 FEKO仿真
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极紫外投影光刻原理装置的集成研究 被引量:4
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作者 金春水 马月英 +1 位作者 裴舒 曹健林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期852-857,共6页
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在... 论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在直径为 0 1mm的像方视场内设计分辨率优于 0 1μm。 展开更多
关键词 极紫外投影光刻原理装置 极紫外投影光刻 多层膜反射镜 Schwarzschild物镜 集成电路 制造技术
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多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限 被引量:3
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作者 李铭 张彬 +2 位作者 戴亚平 王韬 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期761-766,共6页
在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与... 在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据要求的反射率来合理提出反应离子束刻蚀误差容限指标。推导出反应离子束刻蚀误差容限的解析表达式。针对神光Ⅱ千焦拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,分析了调制结构反射镜各层加工的容许误差,确定了反应离子束刻蚀误差容限指标。研究表明:刻蚀高折射率介质的加工误差容限为35 nm;刻蚀低折射率介质的加工误差容限为62 nm。此外,还从使用需要和加工难易的角度,对刻蚀方案进行了讨论。就加工难易程度而言,优选反应离子束刻蚀方案,且采用刻蚀并残留低折射率介质的方案更容易实现。 展开更多
关键词 光学器件 光谱整形 多层介质膜光谱调制反射镜 微纳超精细加工 误差容限
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GZO厚度对非晶硅电池中复合背电极的影响
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作者 辛艳青 孙珲 +3 位作者 郑小龙 魏丛丛 吕英波 宋淑梅 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期73-77,共5页
在非晶硅太阳能电池中加入复合背电极是提高非晶硅太阳能电池光电转换效率和稳定性的有效手段.本文利用磁控溅射技术在非晶硅薄膜太阳能电池上制备了ZnO∶Ga(GZO)/Al复合背电极,研究了GZO厚度对GZO薄膜光电性质及非晶硅电池中GZO/Al复... 在非晶硅太阳能电池中加入复合背电极是提高非晶硅太阳能电池光电转换效率和稳定性的有效手段.本文利用磁控溅射技术在非晶硅薄膜太阳能电池上制备了ZnO∶Ga(GZO)/Al复合背电极,研究了GZO厚度对GZO薄膜光电性质及非晶硅电池中GZO/Al复合背电极性能的影响.研究表明:随着GZO层厚度的增加,GZO薄膜的光电性质均表现出较高水平,适合制备GZO/Al复合背电极;相较于单层Al背电极的非晶硅太阳能电池,具有GZO/Al复合背电极的太阳能电池性能大幅提高.当GZO层厚度为100 nm时,太阳能电池的短路电流(ISC)、开路电压(VOC)和填充因子(FF)分别达到8.66 mA,1.62 V和54.7%. 展开更多
关键词 复合背电极 非晶硅太阳能电池 ZnO∶Ga 磁控溅射 填充因子
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