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复合外场中磁光薄膜(BiTm)_3(FeGa)_5O_(12)缺陷周围磁畴壁的形貌特征
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作者 曾文光 邓雪儿 林长净 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期611-614,共4页
用自组装系统记录了外场分别为匀速率增加的直流磁场、低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征。分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺... 用自组装系统记录了外场分别为匀速率增加的直流磁场、低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征。分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺陷区域出现无畴条块或区域,在直流场中无此现象。在低频交变场以及复合外场下该缺陷周围磁畴壁形成椭圆形图案。 展开更多
关键词 复合外场 磁光薄膜 (BiTm)3(FeGa)5O12 缺陷 磁畴壁 形貌特征 复合外场
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