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单色X射线光栅泰伯条纹可见度影响因素模拟研究 被引量：1
1
作者 卢阳沂 李晶 +2 位作者 黄显宾 袁建强 谢卫平 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2016年第3期268-274,共7页
通过模拟单色X射线源下硅材料光栅泰伯自成像,研究振幅为均匀和高斯分布、光源尺寸与横向相干长度比值不同的单色扩展光源与金材料源光栅相结合的成像系统中光栅泰伯效应自成像条纹可见度的影响因素。计算结果表明,基于光栅的X射线相衬... 通过模拟单色X射线源下硅材料光栅泰伯自成像,研究振幅为均匀和高斯分布、光源尺寸与横向相干长度比值不同的单色扩展光源与金材料源光栅相结合的成像系统中光栅泰伯效应自成像条纹可见度的影响因素。计算结果表明,基于光栅的X射线相衬成像系统中光栅泰伯自成像条纹可见度主要受成像距离和光源横向相干长度影响,受单色扩展光源的振幅分布和尺寸影响很小。 展开更多
关键词 光栅 泰伯效应 数值模拟 单色扩展x射线光源 光源参数 条纹可见度
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