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半导体/超晶格分布布拉格反射镜的特性研究 被引量:2
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作者 晏长岭 钟景昌 +3 位作者 赵英杰 苏伟 黎荣晖 任春燕 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期289-293,共5页
在n+ GaAs (10 0 )衬底上由分子束外延技术 (MBE)生长了以 [GaAs/AlAs]超晶格替代AlxGa1-xAs所形成的新型AlAs/ [GaAs/AlAs]半导体 /超晶格分布布拉格反射镜 (DBR) ,并对此DBR的光、电学特性进行了实验测量。从实验获得的DBR的反射谱... 在n+ GaAs (10 0 )衬底上由分子束外延技术 (MBE)生长了以 [GaAs/AlAs]超晶格替代AlxGa1-xAs所形成的新型AlAs/ [GaAs/AlAs]半导体 /超晶格分布布拉格反射镜 (DBR) ,并对此DBR的光、电学特性进行了实验测量。从实验获得的DBR的反射谱中得出 ,其反射谱中心波长为 85 0nm ,19周期此DBR的峰值反射率高达 99 5 % ,反射带宽度为 90nm左右。与此同时 ,由自行设计的二次钨丝掩模质子注入形成 15× 15 μm2 正方形电流注入区对 p型DBR的串联电阻进行了测量 ,克服了化学湿腐蚀法中腐蚀深度不易控制及侧面同时被腐蚀的缺点。实验得出此 p型DBR的串联电阻仅为 5 0Ω左右。由此可见 ,此DBR在保持高的反射率的同时具有较低的串联电阻。最后 ,对DBR的串联电阻与温度关系的实验研究表明 ,此DBR的串联电阻受温度的影响不大。 展开更多
关键词 分布布拉格反射镜 DBR 超晶格 分子束外延 mbe 串联电阻 半导体激光器 特性研究 GAAS/ALAS 砷化镓/砷化铝
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光调制反射谱作为MBE生长中原位检测手段的应用
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作者 刘兴权 陆卫 +5 位作者 万明芳 陈效双 查访星 严立平 史国良 沈学础 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第11期67-68,74,共3页
本文介绍了光调制光谱(PR)在MBE生长中原位光谱检测中的应用.利用了光调制光谱(PR)本身特有的在室温下有很高的灵敏度,并进一步与MBE系统有效结合,为MBE生长原位光谱检测增添了一种可行的手段.
关键词 光调制反射射谱 mbe 原位检测 半导体材料
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