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持久应力对DD10单晶高温合金1100℃组织稳定性的影响 被引量：8
1
作者 谷怀鹏 曹腊梅 +1 位作者 薛明 周志军 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期1-5,共5页
通过对DD10单晶高温合金1100℃长时时效组织以及在1100℃/140MPa下持久试样断裂后不同部位的组织进行观察分析,研究应力对该合金组织稳定性的影响。结果表明:DD10单晶高温合金经1100℃/253h长时时效和1100℃/140MPa持久断裂后析出的TCP... 通过对DD10单晶高温合金1100℃长时时效组织以及在1100℃/140MPa下持久试样断裂后不同部位的组织进行观察分析,研究应力对该合金组织稳定性的影响。结果表明:DD10单晶高温合金经1100℃/253h长时时效和1100℃/140MPa持久断裂后析出的TCP相均为富集Re,W,Cr和Mo元素的μ相。1100℃/140MPa持久条件下,应力的引入促进μ相的析出,且μ相的析出量随着应力的增大而增大,但应力未改变TCP相的析出种类和形貌。此外,应力促进γ'相的筏排化过程。 展开更多
关键词 DD10 应力 组织稳定性 错配度
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钛掺入对Cu/Si(100)及Cu/SiO_2薄膜体系热稳定性的影响 被引量：1
2
作者 刘嘉聪 王新建 +1 位作者 董显平 吴建生 《理化检验（物理分册）》 CAS 2008年第8期397-400,450,共5页
利用简易合金靶材在Si（100）和SiO2基底上磁控溅射制备了Cu（1.42%Ti）薄膜。研究了少量钛对Cu/Si（100）和Cu/SiO2薄膜体系在573-773 K退火前后的微观组织结构以及界面反应的影响。X射线衍射分析表明，溅射态Cu（Ti）薄膜均呈现Cu（11... 利用简易合金靶材在Si（100）和SiO2基底上磁控溅射制备了Cu（1.42%Ti）薄膜。研究了少量钛对Cu/Si（100）和Cu/SiO2薄膜体系在573-773 K退火前后的微观组织结构以及界面反应的影响。X射线衍射分析表明，溅射态Cu（Ti）薄膜均呈现Cu（111）和Cu（200）衍射峰，而钛显著增强铜薄膜的（111）织构。对于退火态的Cu（Ti）/Si薄膜体系，由于少量钛在薄膜/基底界面处的存在，起到净化界面作用，促使Cu3Si的形成，从而降低了薄膜体系的热稳定性。但对于Cu（Ti）/SiO2薄膜体系，在773 K退火后，仍然呈现出良好的热稳定性。薄膜截面的结构形貌以及界面处俄歇谱的分析结果都充分证实了上述结果。 展开更多
关键词 薄膜 微观结构 界面反应 净化作用 热稳定性
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