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磁控溅射制备Ag/TiO_2复合薄膜的光催化降解性能
被引量:
8
1
作者
侯亚奇
庄大明
+1 位作者
张弓
吴敏生
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期589-592,608,共5页
为了提高TiO2薄膜的光催化效率,利用中频交流磁控溅射技术,采用Ti和Ag金属靶制备了Ag/TiO2复合薄膜。利用X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:Ag在...
为了提高TiO2薄膜的光催化效率,利用中频交流磁控溅射技术,采用Ti和Ag金属靶制备了Ag/TiO2复合薄膜。利用X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:Ag在厚度较薄时以聚集颗粒形式存在;在Ag膜厚度为15nm时,Ag/TiO2复合薄膜与TiO2薄膜相比其光催化效率可提高2倍;Ag/TiO2复合薄膜对亚甲基蓝的光催化降解效率与复合薄膜的透射率均随Ag膜厚度增加逐渐下降,其原因是Ag膜厚度不断增加,最终完全覆盖TiO2薄膜表面,阻挡了TiO2薄膜与污染物的有效接触,Ag作为光生电子捕获剂的有利影响消失。
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关键词
Ag/TiO2复合薄膜
光催化降解
中频交流磁控溅射
亚甲基蓝
X射线衍射
原文传递
退火温度对TiO_2薄膜光学性能的影响
被引量:
1
2
作者
侯亚奇
庄大明
+2 位作者
张弓
赵明
吴敏生
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1441-1443,共3页
为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明:T...
为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明:TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小,500℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能。
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关键词
退火温度
二氧化钛薄膜
光学性能
中频交流磁控溅射
薄膜光学
原文传递
中频交流反应溅射TiO_2薄膜制备及光催化性能研究
被引量:
1
3
作者
侯亚奇
张弓
+1 位作者
庄大明
吴敏生
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期1073-1079,共7页
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜,利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌,并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量...
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜,利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌,并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比,呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相,晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果,同时具有很好的光催化性能稳定性.
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关键词
TIO2薄膜
中频交流磁控溅射
光催化降解
亚甲基蓝
甲基橙
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职称材料
题名
磁控溅射制备Ag/TiO_2复合薄膜的光催化降解性能
被引量:
8
1
作者
侯亚奇
庄大明
张弓
吴敏生
机构
清华大学机械工程系
出处
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期589-592,608,共5页
基金
国家教育振兴计划资助项目
文摘
为了提高TiO2薄膜的光催化效率,利用中频交流磁控溅射技术,采用Ti和Ag金属靶制备了Ag/TiO2复合薄膜。利用X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:Ag在厚度较薄时以聚集颗粒形式存在;在Ag膜厚度为15nm时,Ag/TiO2复合薄膜与TiO2薄膜相比其光催化效率可提高2倍;Ag/TiO2复合薄膜对亚甲基蓝的光催化降解效率与复合薄膜的透射率均随Ag膜厚度增加逐渐下降,其原因是Ag膜厚度不断增加,最终完全覆盖TiO2薄膜表面,阻挡了TiO2薄膜与污染物的有效接触,Ag作为光生电子捕获剂的有利影响消失。
关键词
Ag/TiO2复合薄膜
光催化降解
中频交流磁控溅射
亚甲基蓝
X射线衍射
Keywords
Ag/TiO2
composite
film
mid
-
frequency
ac
magnetron
sputtering
photocatalytic
degradation
methylene
blue
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
退火温度对TiO_2薄膜光学性能的影响
被引量:
1
2
作者
侯亚奇
庄大明
张弓
赵明
吴敏生
机构
清华大学机械工程系
出处
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1441-1443,共3页
基金
国家教育振兴计划资助项目
文摘
为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明:TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小,500℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能。
关键词
退火温度
二氧化钛薄膜
光学性能
中频交流磁控溅射
薄膜光学
Keywords
thin
film
optics
titanium
oxide
thin
film
mid
-
frequency
ac
magnetron
sputtering
annealing
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
原文传递
题名
中频交流反应溅射TiO_2薄膜制备及光催化性能研究
被引量:
1
3
作者
侯亚奇
张弓
庄大明
吴敏生
机构
清华大学机械工程系
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期1073-1079,共7页
基金
国家教育振兴计划资助
文摘
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜,利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌,并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比,呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相,晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果,同时具有很好的光催化性能稳定性.
关键词
TIO2薄膜
中频交流磁控溅射
光催化降解
亚甲基蓝
甲基橙
Keywords
titanium
oxide
thin
film
mid
-
frequency
ac
magnetron
sputtering
photocatalytic
degradation
methylene
blue
methyl
orange
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射制备Ag/TiO_2复合薄膜的光催化降解性能
侯亚奇
庄大明
张弓
吴敏生
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
8
原文传递
2
退火温度对TiO_2薄膜光学性能的影响
侯亚奇
庄大明
张弓
赵明
吴敏生
《清华大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
原文传递
3
中频交流反应溅射TiO_2薄膜制备及光催化性能研究
侯亚奇
张弓
庄大明
吴敏生
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
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职称材料
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