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光学材料研磨亚表面损伤的快速检测及其影响规律 被引量:33
1
作者 王卓 吴宇列 +2 位作者 戴一帆 李圣怡 周旭升 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期16-21,共6页
提出了一种光学材料研磨亚表面损伤的非破坏性快速检测方法。基于印压断裂力学理论建立了亚表面损伤深度与表面粗糙度的关系模型。使用磁流变抛光斑点技术测量了K9玻璃在不同研磨条件下的亚表面损伤深度,并验证了上述模型。最后,分析了... 提出了一种光学材料研磨亚表面损伤的非破坏性快速检测方法。基于印压断裂力学理论建立了亚表面损伤深度与表面粗糙度的关系模型。使用磁流变抛光斑点技术测量了K9玻璃在不同研磨条件下的亚表面损伤深度,并验证了上述模型。最后,分析了研磨加工参数对亚表面损伤深度的影响规律,提出了高效率的研磨加工策略。研究表明:光学材料研磨后亚表面损伤深度与表面粗糙度成单调递增的非线性关系,即SSD^SR4/3。磨粒粒度对亚表面损伤深度的影响最显著,研磨盘硬度的影响次之,而研磨压力和研磨盘公转速度的影响基本可以忽略。利用建立的亚表面损伤深度与表面粗糙度间的关系模型能够实现亚表面损伤深度的快速、准确和非破坏性检测。 展开更多
关键词 光学材料 研磨 磁流变抛光 光学检验 亚表面损伤
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磁流变抛光消除磨削亚表面损伤层新工艺 被引量:34
2
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 王卓 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期162-168,共7页
针对传统光学加工技术难于精确测量和控制亚表面损伤的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序并直接衔接磨削的新工艺流程。采用自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验... 针对传统光学加工技术难于精确测量和控制亚表面损伤的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序并直接衔接磨削的新工艺流程。采用自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验研究。结果显示,直径为100mm的K9材料平面玻璃,经过156min的磁流变粗抛,去除了50μm深度的亚表面损伤层,表面粗糙度Ra值进一步提升至0.926nm,经过17.5min磁流变精抛,去除玻璃表面200nm厚的材料,并消除磁流变粗抛产生的抛光纹路,表面粗糙度Ra值提升至0.575nm。由此表明,应用磁流变抛光可以高效消除磨削产生的亚表面损伤层,提出的新工艺流程可以实现近零亚表面损伤和纳米级精度抛光两个工艺目标。 展开更多
关键词 磁流变抛光 亚表面损伤 光学加工
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磁流变光整加工技术研究进展 被引量:19
3
作者 陈逢军 尹韶辉 +1 位作者 余剑武 徐志强 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第19期2382-2392,共11页
介绍了近年来磁流变光整加工(MRF)技术的研究状况及最新进展,对磁流变光整加工机理研究、加工机床与相关装置的开发、加工工艺试验研究、加工算法与模型研究、磁流变液流体开发与应用等五个方面进行了详细的综述与分析。最后探讨了磁流... 介绍了近年来磁流变光整加工(MRF)技术的研究状况及最新进展,对磁流变光整加工机理研究、加工机床与相关装置的开发、加工工艺试验研究、加工算法与模型研究、磁流变液流体开发与应用等五个方面进行了详细的综述与分析。最后探讨了磁流变光整加工中的关键技术与存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 磁流变光整加工(mrf) 磁流变液 光学制造 超精密加工
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高精度光学表面磁流变修形 被引量:16
4
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 宋辞 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1859-1864,共6页
系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理,给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流... 系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理,给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流变抛光机床和KDMRW-1水基磁流变抛光液对直径80mm的K4材料平面反射镜和直径145mm的K9材料球面反射镜进行修形实验。实验显示,样件一面形收敛到PV值55.3nm,RMS值5.5nm;样件二面形收敛到PV值40.5nm,RMS值5nm;样件的表面粗糙度均有显著改善。结果表明,磁流变修形技术具有高精度、高效率、高表面质量的特点。 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变液 高精度光学表面
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磁流变抛光工艺参数的正交实验分析 被引量:9
5
作者 彭小强 戴一帆 李圣怡 《光学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期886-888,892,共4页
对利用自行配制的水基磁流变抛光液和磁流变抛光实验样机进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验。应用正交试验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数(磁场强度、抛光粉浓度、抛光盘的转速、抛光盘与工件间的间隙)对抛光... 对利用自行配制的水基磁流变抛光液和磁流变抛光实验样机进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验。应用正交试验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数(磁场强度、抛光粉浓度、抛光盘的转速、抛光盘与工件间的间隙)对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律,并结合磁流变抛光机理对其进行了分析。根据实验结果对工艺参数进行了优化。 展开更多
关键词 磁流变抛光 正交试验 抛光效率 表面粗糙度
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磁场强度对磁流变抛光表面粗糙度的影响 被引量:13
6
作者 阳志强 郭忠达 +2 位作者 张明颂 刘卫国 杭凌侠 《西安工业大学学报》 CAS 2007年第6期511-514,共4页
在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流变抛光技术中磁场对表面粗糙度的影响.比较了不同磁场强度下的磁流变抛光情况,以及表面粗糙度和抛光效率... 在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流变抛光技术中磁场对表面粗糙度的影响.比较了不同磁场强度下的磁流变抛光情况,以及表面粗糙度和抛光效率的差别,然后,通过采用不同磁场强度组合加工,使初始表面粗糙度(Ra)为400 nm的K9玻璃材料的平面,磁流变抛光30 min,表面粗糙度值达到了0.86 nm,提高了被加工零件的抛光效率和表面质量. 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁场强度 表面粗糙度 抛光效率
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光学镜面磁流变抛光的后置处理 被引量:14
7
作者 宋辞 戴一帆 +1 位作者 彭小强 石峰 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1715-1721,共7页
分析了自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000的拓扑结构以及坐标变换关系,对其进行了运动求解,建立了光学镜面的磁流变抛光后置处理算法模型。针对机床四轴联动的特点,对建立的磁流变抛光后置处理模型进行了近似处理。以球面镜的后置处... 分析了自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000的拓扑结构以及坐标变换关系,对其进行了运动求解,建立了光学镜面的磁流变抛光后置处理算法模型。针对机床四轴联动的特点,对建立的磁流变抛光后置处理模型进行了近似处理。以球面镜的后置处理为例,推导了具有普适性的以光栅扫描方式加工光学镜面的后置处理算法,同时分析了这种近似处理引入的误差,仿真了其对不同口径和不同相对口径球面镜的影响,得到了这种近似处理算法对球面镜的加工范围。最后,对一块口径为200mm,相对口径为1∶1.6的K9材料球面镜进行了磁流变抛光实验,在不考虑边缘效应的情况下其面形误差的PV值和RMS值分别达到了65nm和9nm以下,有效地验证了后置处理算法模型的准确性以及四轴联动近似处理的可行性。该算法对各类形状和大小的光学镜面加工均有参考意义。 展开更多
关键词 光学镜面 磁流变抛光 后置处理 四轴联动
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磁流变抛光技术现状与进展 被引量:9
8
作者 杨雪玲 苏君 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第24期136-139,共4页
详细地介绍了磁流变抛光的原理及加工特点,综述了磁流变抛光技术的国内外研究现状与研究进展,重点详细阐述了超声波磁流变复合抛光和磁射流抛光的机理和复合加工技术。最后对磁流变抛光技术进行了前景展望,提出了今后的重点研究方向。
关键词 磁流变抛光 超声波磁流变 磁射流抛光 复合加工
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复杂曲面铝反射镜磁流变抛光工艺优化 被引量:10
9
作者 徐超 胡皓 +2 位作者 彭小强 李信磊 林之凡 《航空学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第10期260-269,共10页
采用超精密车削加工的复杂曲面铝反射镜只能满足红外光学系统的应用需求,若要满足更高需求的应用场合,需要进一步提升反射镜面形精度。磁流变抛光能够进行确定性修形,在复杂曲面加工中具有独特优势,但是复杂曲面连续变化的面形特征,在... 采用超精密车削加工的复杂曲面铝反射镜只能满足红外光学系统的应用需求,若要满足更高需求的应用场合,需要进一步提升反射镜面形精度。磁流变抛光能够进行确定性修形,在复杂曲面加工中具有独特优势,但是复杂曲面连续变化的面形特征,在磁流变抛光时会导致去除函数不稳定,影响误差收敛效率和加工精度。从高精度复杂曲面铝反射镜的应用需求出发,提出了复杂曲面局部区域磁流变抛光去除函数的动态建模方法,给出了驻留时间求解算法,以平均曲率变化最小为原则,设计了抛光路径优化算法,针对该算法计算速度慢的问题,提出了优化策略,并通过试验进行了验证,最终加工的复杂曲面铝反射镜的面形误差为0.216λPV、0.033λRMS(λ=632.8nm)。 展开更多
关键词 复杂曲面 铝反射镜 面形精度 磁流变抛光 路径优化
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基于矩阵运算的光学零件磁流变加工的驻留时间算法 被引量:9
10
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 宋辞 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期103-106,共4页
提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算... 提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,经过2次迭代加工后,有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40.5nm(约为λ/15),RMS值达到5nm(约为λ/125),表面粗糙度Ra值达到0.57nm。 展开更多
关键词 磁流变抛光 计算机控制光学表面成型(CCOS) 驻留时间算法
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永磁流变抛光纳米精度非球面技术研究 被引量:3
11
作者 程灏波 王英伟 冯之敬 《光学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期52-54,共3页
利用永磁流变抛光技术制造高精度光学元件是一项极具前景的超精密制造技术。对一台五轴联动磁流变数控抛光系统的结构特点、功能特色及关键部件的设计进行了阐述。在此基础上,结合装置开展基础试验,对磁流变抛光过程中的主要控制参量如... 利用永磁流变抛光技术制造高精度光学元件是一项极具前景的超精密制造技术。对一台五轴联动磁流变数控抛光系统的结构特点、功能特色及关键部件的设计进行了阐述。在此基础上,结合装置开展基础试验,对磁流变抛光过程中的主要控制参量如抛光轮下压量、抛光轮速度等对材料去除特性的影响进行了研究。开展了磁流变抛光对提高工件(K9玻璃)表面粗糙度效果的抛光试验,结果证明该套系统具有良好的磁流变抛光特性,抛光23min后工件表面粗糙度降低到0 6739nm。 展开更多
关键词 磁流变抛光 非球面 抛光轮 磁偶极子
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磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定 被引量:9
12
作者 郑立功 李龙响 +2 位作者 王孝坤 薛栋林 张学军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期8-14,共7页
为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床... 为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030mm。实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持。 展开更多
关键词 光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定
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磁流变抛光对熔石英激光损伤特性的影响 被引量:9
13
作者 石峰 万稳 +1 位作者 戴一帆 彭小强 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2931-2937,共7页
为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检... 为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检测磁流变加工前后熔石英元件中金属杂质元素的含量和深度;采用1-on-1方法测试激光损伤阈值,观测损伤形貌,并对损伤坑的形态进行统计。最后,分析了磁流变抛光工艺提升熔石英损伤阈值的原因。与未经磁流变处理的熔石英元件进行了对比,结果显示:磁流变抛光使熔石英元件的零概率激光损伤阈值提升了23.3%,金属杂质元素含量也显著降低,尤其是对熔石英激光损伤特性有重要影响的Ce元素被完全消除。得到的结果表明,磁流变抛光工艺能够被用作HF酸动态酸刻蚀的前道处理工艺。 展开更多
关键词 磁流变抛光 熔石英 光学元件 氢氟酸(HF)动态刻蚀 激光损伤阈值
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Restraint of mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process by maximum entropy method 被引量:5
14
作者 DAI YiFan SHI Feng +1 位作者 PENG XiaoQiang LI ShengYi 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2009年第10期3092-3097,共6页
In order to restrain the mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process, a novel part-random path is designed based on the theory of maximum entropy method (MEM). Using KDMRF-1000F polishing... In order to restrain the mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process, a novel part-random path is designed based on the theory of maximum entropy method (MEM). Using KDMRF-1000F polishing machine, one flat work piece (98 mm in diameter) is polished. The mid-spatial frequency error in the region using part-random path is much lower than that by using common raster path. After one MRF iteration (7.46 min), peak-to-valley (PV) is 0.062 wave (1 wave =632.8 nm), root-mean-square (RMS) is 0.010 wave and no obvious mid-spatial frequency error is found. The result shows that the part-random path is a novel path, which results in a high form accuracy and low mid-spatial frequency error in MRF process. 展开更多
关键词 magnetorheological finishing (mrf) maximum entropy method (MEM) part-random path mid-spatial frequency error
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磁流变抛光高精度光学表面中的工艺参数(英文) 被引量:6
15
作者 宋辞 戴一帆 彭小强 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2008年第6期424-429,共6页
对磁流变抛光进行高精度光学表面加工中必须考虑和控制的7类参数,即磁流变液黏度、磁场强度、磁流变液流量、抛光轮转速、锻带厚度、切深以及抛光斑点特性进行分析和优化,得出单因素条件下材料的去除量总是同这7类参数的变化存在一定的... 对磁流变抛光进行高精度光学表面加工中必须考虑和控制的7类参数,即磁流变液黏度、磁场强度、磁流变液流量、抛光轮转速、锻带厚度、切深以及抛光斑点特性进行分析和优化,得出单因素条件下材料的去除量总是同这7类参数的变化存在一定的内在联系.在分析和优化磁流变抛光过程中这些参数的基础上,采用自研的KDMRF-1000机床对一块K4材料口径100,mm的平面镜进行了抛光加工实验.经过两次循环大约200min的抛光后,面形误差值由最初的峰谷值(PV)为262,nm,均方根值(RMS)为49,nm收敛到最终的PV为55,nm,RMS为5.7,nm.实验中面形误差的收敛表明:只要掌握了磁流变抛光过程中的这7种参数的变化规律,就能充分利用磁流变抛光技术,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障. 展开更多
关键词 磁流变抛光 光学平面 光学球面 高精度光学表面
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结合ELID磨削与磁流变光整加工的单晶硅反射镜超精密制造技术 被引量:4
16
作者 尹韶辉 陈逢军 +3 位作者 张导成 大森整 林伟民 上原嘉宏 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2007年第3期220-223,共4页
分析了在线电解修整(ELID)磨削和磁流变光整加工(MRF)的加工原理与特点,充分结合这2种技术的优点对单晶硅反射镜进行纳米级精度的组合加工.首先进行ELID高效率磨削,在线检测工件表面误差后进行补偿磨削,使反射镜面加工成形,并获得较好... 分析了在线电解修整(ELID)磨削和磁流变光整加工(MRF)的加工原理与特点,充分结合这2种技术的优点对单晶硅反射镜进行纳米级精度的组合加工.首先进行ELID高效率磨削,在线检测工件表面误差后进行补偿磨削,使反射镜面加工成形,并获得较好的形状精度和表面质量.然后,利用磁流变技术进行确定性的光整加工,以减少反射镜的亚表面损伤,使加工表面的形状精度与表面粗糙度得到很大提高与改善.利用该组合工艺,对硅反射镜进行了系列的加工实验,高效率地得到了低于1 nm RMS的表面粗糙度和69 nmP-V形状精度的工件表面. 展开更多
关键词 单晶硅反射镜 在线电解修整 磁流变光整加工 形状精度 表面粗糙度
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磁流变抛光中表面彗尾状缺陷的生成与演变行为 被引量:5
17
作者 袁胜豪 张云飞 +5 位作者 余家欣 李凯隆 王超 田东 海阔 黄文 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期740-748,共9页
为了研究磁流变抛光后元件表面"彗尾状缺陷"的生成和演变机理,本文以石英玻璃为样品,分析了磁流变抛光时抛光液中抛光颗粒浓度与水分含量对彗尾状缺陷的影响。研究表明,彗尾状缺陷的生成与元件表面存在的原始缺陷相关,抛光颗... 为了研究磁流变抛光后元件表面"彗尾状缺陷"的生成和演变机理,本文以石英玻璃为样品,分析了磁流变抛光时抛光液中抛光颗粒浓度与水分含量对彗尾状缺陷的影响。研究表明,彗尾状缺陷的生成与元件表面存在的原始缺陷相关,抛光颗粒在缺陷处的堆积是造成原始缺陷转变成彗尾状缺陷的主要原因。随着抛光颗粒浓度的增加,抛光颗粒在原始缺陷处的堆积明显,生成的彗尾状缺陷数量增加;然而随着水分含量的增加,抛光液的流动性增强,抛光颗粒在缺陷处堆积效应减弱,彗尾状缺陷出现的数量降低。在磁流变抛光过程中,原始凹坑缺陷首先演变成彗尾状缺陷,彗尾状缺陷的头部凹坑深度相对于原始缺陷表现出先增加再降低的趋势;而凹坑的边缘角度随抛光的进行单调增加,直到缺陷被完全去除。本文的研究结果为磁流变抛光中抑制元件表面彗尾状缺陷的生成奠定了理论基础,有助于后期研发控制彗尾状缺陷的抛光液和工艺优化方法。 展开更多
关键词 光学加工 磁流变抛光 彗尾缺陷 堆积效应 石英玻璃
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热压多晶氟化镁的磁流变抛光研究 被引量:4
18
作者 戴一帆 袁征 +1 位作者 陈浩锋 尹自强 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期99-102,共4页
热压多晶氟化镁是一种被广泛应用的红外光学材料。磁流变抛光因其抛光效率高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为倍受瞩目的超精密光整加工技术。在利用传统抛光方法得到热压多晶氟化镁的抛光特性的基础上配制了适用于该材... 热压多晶氟化镁是一种被广泛应用的红外光学材料。磁流变抛光因其抛光效率高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为倍受瞩目的超精密光整加工技术。在利用传统抛光方法得到热压多晶氟化镁的抛光特性的基础上配制了适用于该材料的磁流变抛光液。通过抛光实验证明,与传统抛光方法相比,采用磁流变抛光方法对热压多晶氟化镁进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,并且抛光的效率也大大提高。 展开更多
关键词 氟化镁 磁流变抛光 磁流变液
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磁流变抛光可塑性对彗尾疪病的影响 被引量:4
19
作者 郭忠达 王新海 +3 位作者 阳志强 刘卫国 杭凌侠 陈智利 《西安工业大学学报》 CAS 2010年第2期112-116,共5页
分析了彗尾疪病产生的原因及去除方法.通过研究磁流变抛光的可塑性问题,从可塑性方面分析了彗尾疪病现象产生的过程.利用工艺实验研究彗尾疪病现象的消除方法,在自主设计的磁流变抛光装置上,采用磁场强度值分别为240 kA/m,210 kA/m,180 ... 分析了彗尾疪病产生的原因及去除方法.通过研究磁流变抛光的可塑性问题,从可塑性方面分析了彗尾疪病现象产生的过程.利用工艺实验研究彗尾疪病现象的消除方法,在自主设计的磁流变抛光装置上,采用磁场强度值分别为240 kA/m,210 kA/m,180 kA/m,150 kA/m,90 kA/m的五阶段优化磁场强度法后,使K9玻璃表面粗糙度值达到0.49 nm,消除了磁流变抛光过程中的彗尾疪病现象.实验表明磁场强度的大小影响链条结构的稳定,影响抛光粉颗粒对材料的去除,减小磁场强度可以有效的去除彗尾疵病. 展开更多
关键词 磁流变抛光 可塑性 彗尾疪病 磁场强度
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磁流变抛光技术及其质量控制的研究 被引量:3
20
作者 李中会 杨建国 邱明君 《工具技术》 2010年第3期11-14,共4页
阐述了磁流变抛光原理,依据Preston方程分析了影响磁流变抛光效果的因素,根据实际加工的工件特点,对Preston方程进行了修正;在自制的磁流变抛光实验机上进行抛光加工试验,结果表明,采用修正的磁流变抛光材料去除方程,可以有效控制工件... 阐述了磁流变抛光原理,依据Preston方程分析了影响磁流变抛光效果的因素,根据实际加工的工件特点,对Preston方程进行了修正;在自制的磁流变抛光实验机上进行抛光加工试验,结果表明,采用修正的磁流变抛光材料去除方程,可以有效控制工件的抛光质量、提高抛光效率。 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变液 去除模型 表面粗糙度
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