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题名表面等离子体透射增强提高光刻分辨率的模拟
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作者
朱明轩
李海华
王庆康
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机构
上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室
上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室
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出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2010年第4期253-256,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(60808014)
上海市科委纳米专项资助项目(0852nm06600)
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文摘
讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形底角角度变化对透射率和分辨率的影响。当角度在57°～64°之间变化时,得出三角形脊部有透射增强现象产生,最大透射振幅是入射光的4.2倍,分辨率为(30±5)nm。因为凹槽部分透射光强度很小,因此具有很好的分辨率。通过对比周期和非周期边界条件模拟,三角形脊的形状是产生透射增强现象的原因。
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关键词
表面等离子体激元
纳米光刻
FDTD方法
光刻分辨率
光栅
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Keywords
surface plasmon polariton（SPP）
nano-lithography
FDTD method
lithographical resolution
grating
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分类号
O439
[机械工程—光学工程]
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题名超精细图案光刻技术的研究与发展
被引量：2
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作者
赵猛
张亚非
徐东
王印月
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机构
上海交通大学微纳米研究院
兰州大学物理科学与技术学院
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出处
《微细加工技术》
2002年第4期1-6,共6页
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文摘
根据国内外研究和发展现状 ,对有望突破 1 0 0nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述 ,其中包括曝光技术、掩模技术、光学系统改进和以离轴照明、相位移掩模、多重滤光和图形演算为代表的分辨率增强技术等。
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关键词
超精细图案
光刻
分辨率
曝光技术
掩模技术
光学系统
分辨率增强技术
半导体
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Keywords
superfine pattern
lithographic resolution
exposure technology
mask technology
optical system
technology of resolution enhancement
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名激光超衍射光刻原理与技术
被引量：3
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作者
梁紫鑫
赵圆圆
段宣明
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机构
暨南大学光子技术研究院
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出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期470-492,共23页
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基金
广州市重点领域研发计划项目(202007010002)
国家重点研发计划(2016YFA0200500)。
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文摘
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,未能突破光学衍射极限,是衍射极限附近的光刻技术。采用紫外、可见或近红外等长波长光源进行纳米光刻,必须突破光学衍射极限,实现超衍射光刻,研究和发展激光超衍射纳米光刻技术具有十分重要的科学意义和应用价值。本文从光学衍射极限的基本概念出发,系统阐述各类超衍射光刻原理与方法,重点回顾激光远场超衍射光刻相关研究成果与最新进展,并对其现存的问题和发展方向进行评述。
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关键词
光刻
超衍射
激光直写
投影光刻
非线性光学
光刻分辨率
光刻效率
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Keywords
lithography
super-diffraction
laser direct writing
projection lithography
nonlinear optics
lithographic resolution
lithography efficiency
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分类号
O436
[机械工程—光学工程]
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