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分子流状态平面密封结构漏率预估 被引量:4
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作者 杜秋华 杜海深 +1 位作者 巫宗萍 李超 《真空》 CAS 2012年第1期36-38,共3页
本文结合Roth模型建立了分子流状态下的漏率计算模型,得出了平面密封泄漏漏率与密封力矩、密封面粗糙度之间的对应关系,同时还给出为保证分子流状态,密封力矩、密封面粗糙度应满足的条件。在理论计算的同时,还通过实验证明了漏率预估方... 本文结合Roth模型建立了分子流状态下的漏率计算模型,得出了平面密封泄漏漏率与密封力矩、密封面粗糙度之间的对应关系,同时还给出为保证分子流状态,密封力矩、密封面粗糙度应满足的条件。在理论计算的同时,还通过实验证明了漏率预估方法的准确性。 展开更多
关键词 平面密封 Roth模型 分子流 漏率预估
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