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磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
被引量:
7
1
作者
涂昱淳
宋竹青
+6 位作者
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期2419-2422,共4页
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的...
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3~15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%~65%。
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关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
梯度多层膜
反射率
同步辐射
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职称材料
磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜(英文)
2
作者
朱京涛
李淼
+3 位作者
朱圣明
张嘉怡
冀斌
崔明启
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期16-20,共5页
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,...
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39nm逐渐增加到7.82nm,周期厚度平均梯度为0.054nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13nm到0.31nm之间。
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关键词
极紫外
横向梯度多层膜
Mo/B4C
磁控溅射
同步辐射
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
被引量:
7
1
作者
涂昱淳
宋竹青
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
机构
同济大学物理系精密光学工程技术研究所
中国运载火箭研究院试验物理与计算数学实验室
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期2419-2422,共4页
基金
国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金项目(10876023)
国家自然科学基金项目(10905042)
+1 种基金
上海市科委优秀学科带头人项目(09XD1404000)
科技部国际交流与合作专项项目(2008DFA01920)
文摘
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3~15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%~65%。
关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
梯度多层膜
反射率
同步辐射
Keywords
Mo/Si
multilayer
magnetron
sputtering
laterally
graded
multilayer
reflectivity
synchrotron
radiation
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜(英文)
2
作者
朱京涛
李淼
朱圣明
张嘉怡
冀斌
崔明启
机构
同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室
中国科学院高能物理研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期16-20,共5页
基金
National Natural Science Foundation of China(11375131,U1432244)
the Royal Society-NSFC International Exchanges Funding(IE141043,11511130051)
the Fundamental Research Funds for Central Universities
文摘
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39nm逐渐增加到7.82nm,周期厚度平均梯度为0.054nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13nm到0.31nm之间。
关键词
极紫外
横向梯度多层膜
Mo/B4C
磁控溅射
同步辐射
Keywords
EUV
laterally
graded
periodic
multilayer
Mo/B4C
magnetron
sputtering
synchrotron
radiation
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
涂昱淳
宋竹青
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
7
下载PDF
职称材料
2
磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜(英文)
朱京涛
李淼
朱圣明
张嘉怡
冀斌
崔明启
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
0
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职称材料
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