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载银高强度抗菌玻璃的制备及性能研究 被引量:8
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作者 陆勇祺 张凡 +4 位作者 陈玮 左岩 付静 徐志伟 张洋 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第S1期12-16,共5页
利用离子交换原理在Na_2O-CaO-SiO_2玻璃表面引入钾离子与银离子,制备载银高强度抗菌玻璃。采用表面应力仪、能谱分析(EDS)、分光光度计以及抗菌实验对样品进行分析表征,研究离子交换时间对玻璃表层银含量、玻璃的透过率和抗菌率的影响... 利用离子交换原理在Na_2O-CaO-SiO_2玻璃表面引入钾离子与银离子,制备载银高强度抗菌玻璃。采用表面应力仪、能谱分析(EDS)、分光光度计以及抗菌实验对样品进行分析表征,研究离子交换时间对玻璃表层银含量、玻璃的透过率和抗菌率的影响规律。研究结果表明:两步离子交换法能够制备出高透过率的抗菌玻璃;抗菌玻璃的载银量随着交换时间的增加而增多,抗菌性能优异,抗菌率大于95%,符合优等品抗菌性能的标准。 展开更多
关键词 抗菌玻璃 离子交换 高强度 透过率 抗菌率
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微通道板离子壁垒膜及其特性 被引量:2
2
作者 姜德龙 吴奎 +5 位作者 王国政 李野 高延军 端木庆铎 富丽晨 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期737-742,共6页
介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术,研究了其粒子(电子和离子)透过特性。给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出采用X射线光电子能谱(XPS)进行成分分析的结果。介绍了离子壁垒... 介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术,研究了其粒子(电子和离子)透过特性。给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出采用X射线光电子能谱(XPS)进行成分分析的结果。介绍了离子壁垒膜的离子透过特性,给出了表征膜层对离子阻止能力的离子透过率的概念,提出了离子透过率测试的原理方案和相关技术等问题。 展开更多
关键词 微通道板 离子壁垒膜 免污染成膜工艺 死电压 离子透过率
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850 nm滤光片的设计、制备及激光损伤特性 被引量:5
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作者 王建 徐均琪 +2 位作者 苏俊宏 李绵 胡景波 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第3期112-118,共7页
目的采用热蒸发沉积技术制备可用于人脸部识别的850 nm滤光片,研究滤光片的激光损伤阈值以及薄膜内部的电场分布。方法采用TFC膜系仿真设计软件完成850nm滤光片的设计与优化。采用真空箱式镀膜机,通过增加挡板、调整监控波长,以离子束... 目的采用热蒸发沉积技术制备可用于人脸部识别的850 nm滤光片,研究滤光片的激光损伤阈值以及薄膜内部的电场分布。方法采用TFC膜系仿真设计软件完成850nm滤光片的设计与优化。采用真空箱式镀膜机,通过增加挡板、调整监控波长,以离子束辅助热蒸发沉积技术完成滤光片的制备。结果通过紫外-红外分光光度计实现了在中心波长透射率为83.05%、其他波段T<5%的光谱特性测试。采用R-on-1的激光损伤测试方法得到TiO2/SiO2组合滤光片的激光损伤阈值达4.2J/cm^2,ZnS/MgF2组合滤光片为2.8 J/cm^2。TiO2/SiO2组合滤光片空气-薄膜界面电场强度为0.3474,ZnS/MgF2组合滤光片为0.9357。分析显微镜下的微观结构得到,相比TiO2/SiO2组合,同一能量下,ZnS/MgF2组合的薄膜激光损伤斑较大,易出现损伤。结论可以通过增加挡板、调整监控波长的方式实现窄带滤光片的制备。为了更好地获得激光损伤阈值较高的滤光片薄膜,在设计滤光片时尽可能地降低薄膜与空气界面处的电场分布,即界面处电场强度分布越小,薄膜表面抗激光损伤的能力越强。同时发现TiO2/SiO2组合滤光片激光损伤阈值大于ZnS/MgF2组合滤光片。 展开更多
关键词 薄膜 窄带滤光片 离子辅助 峰值透射率 激光损伤阈值 电场强度
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卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究 被引量:7
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作者 姜玉刚 刘华松 +3 位作者 王利栓 陈丹 李士达 季一勤 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期804-809,共6页
当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm... 当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm波长的反射和0.5~0.8μm、1.55μm波段的增透,在玻璃基板另一面设计双波段减反射膜,实现0.5~0.8μm和1.55μm波段的增透。采用离子束溅射沉积技术,实现了激光防护窗口薄膜的制备,在0.5~0.8μm的平均透过率大于96%,1.55μm的透过率大于98%,1.315μm的透过率小于0.1%,在2.7μm的透过率为30%,在3.8μm的透过率为1.1%。实验结果表明,该方法实现了可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口的制备,对于卫星平台防护激光武器具有重要作用。 展开更多
关键词 激光武器 离子束溅射技术 防护薄膜 透过率 反射率
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不同离子束参数诱导单晶硅纳米微结构与光学性能 被引量:6
5
作者 陈智利 刘卫国 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第9期2490-2495,共6页
使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+离子束正入射时不同离子柬能量和束流密度对单晶硅(100)表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明,当离子柬能量为1000eV,束流密度为88-310μA/cm2时,样品表面出现自组装纳米点状结构,且随着... 使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+离子束正入射时不同离子柬能量和束流密度对单晶硅(100)表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明,当离子柬能量为1000eV,束流密度为88-310μA/cm2时,样品表面出现自组装纳米点状结构,且随着离子柬流密度增加排列紧密而有序;粗糙度呈现先减小后迅速增大的趋势,在160~A/cm2附近达到极小值;刻蚀后,近红外波段内平均透过率由53%提高到57%以上,且随着纳米自组装结构有序性的提高而增大。当束流密度为270μA/cm2,能量为500~l500eV时。样品表面出现纳米点状结构,且随着离子束能量的增加趋于密集有序;粗糙度呈现先缓慢增加,在l100ev附近达到极大值,之后粗糙度迅速下降;刻蚀后样品透过率明显提高,且平均透过率随着点状结构有序性的提高而增大;刻蚀速率与离子束能量的平方成正比。自组织纳米结构的转变是溅射粗糙化和表面驰豫机制相互作用的结果。 展开更多
关键词 低能离子束刻蚀 自组织纳米结构 表面形貌 表面粗糙度(RMS) 光学透过率
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离子交换增强太阳能电池盖片玻璃的研究 被引量:3
6
作者 王海风 王依民 +1 位作者 郭明星 韩文爵 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期141-143,158,共4页
系统研究了太阳能电池盖片玻璃经离子交换增强(化学钢化)后的机械性能、透光率以及离子束轰击对盖片性能的影响。分别利用动态力学分析仪(DMA)、光学显微镜、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和硬度仪等对盖片玻璃的力学性能、表面... 系统研究了太阳能电池盖片玻璃经离子交换增强(化学钢化)后的机械性能、透光率以及离子束轰击对盖片性能的影响。分别利用动态力学分析仪(DMA)、光学显微镜、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和硬度仪等对盖片玻璃的力学性能、表面形貌、透光率、硬度等性能进行了测试。结果表明,经离子交换增强后的盖片玻璃,弯曲强度最大可以提高约4倍;且在受到离子束轰击时的损伤以及透光率下降的程度都小于原片玻璃,说明化学钢化玻璃具有较好的耐离子束轰击的能力。因此化学钢化能提高太阳能电池长期工作的可靠性,对提高太阳能电池的使用效率及寿命具有实际意义。 展开更多
关键词 太阳能电池盖片玻璃 离子交换增强(化学钢化) 透光率 离子束
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高色散系数线性渐变滤光片的研制 被引量:5
7
作者 张建 高劲松 李玉东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期1221-1226,共6页
采用双离子束溅射物理沉积方法,通过修正线性渐变沉积速率制备了高透过率、高色散系数的线性渐变滤光片。在不同材料的膜厚修正过程中,通过匹配高低折射率材料的线性渐变趋势来减小两种材料的失配误差。利用微小光斑测试方法获得了线性... 采用双离子束溅射物理沉积方法,通过修正线性渐变沉积速率制备了高透过率、高色散系数的线性渐变滤光片。在不同材料的膜厚修正过程中,通过匹配高低折射率材料的线性渐变趋势来减小两种材料的失配误差。利用微小光斑测试方法获得了线性渐变滤光片的线性渐变光谱数据,使用扫描电子显微镜表征了滤光片的表面形貌及微观结构。测试结果表明:制备的线性渐变滤光片各个位置的中心波长峰值透过率均达到85%以上,其工作波长为650~1 050nm,中心波长的线性变化率为20nm/mm,线性度误差在5nm以内,带外截止度在0.1%以下。制备的线性渐变滤光片不仅具有好的光谱特性,也具有良好的稳定性,完全满足滤光片在空间应用时对小型化、集成化和稳定性的需求。 展开更多
关键词 线性渐变滤光片 双离子束溅射 色散 透过率 膜厚修正
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钇铝石榴石(YAG)透明陶瓷的研究进展 被引量:3
8
作者 李鹏杰 白雪 +3 位作者 刘宇阳 王星明 孙悦 储茂友 《中国稀土学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期214-231,共18页
钇铝石榴石(Y_(3)Al_(5)O_(12))透明陶瓷具有机械强度高、物化性质稳定,特别是覆盖紫外、可见及红外光透过等优异性能,在固体激光器、导弹穹顶、红外窗口及透明装甲领域有着广泛的应用。本文系统总结了YAG透明陶瓷的制备工艺,包括粉体... 钇铝石榴石(Y_(3)Al_(5)O_(12))透明陶瓷具有机械强度高、物化性质稳定,特别是覆盖紫外、可见及红外光透过等优异性能,在固体激光器、导弹穹顶、红外窗口及透明装甲领域有着广泛的应用。本文系统总结了YAG透明陶瓷的制备工艺,包括粉体合成、坯体成型、陶瓷烧结及烧结助剂的选用,对比了不同工艺路线制备YAG透明陶瓷的性能、规格、成本等;就不同稀土离子掺杂对YAG基透明陶瓷性能的影响规律进行了全面阐述;最后通过对现有问题的总结,展望了钇铝石榴石(YAG)透明陶瓷未来的发展趋势。 展开更多
关键词 钇铝石榴石 透明陶瓷 稀土离子掺杂 透光性能
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ITO thin films prepared by electron beam evaporation with End-Hall ion source assisted without heating to the substrate 被引量:4
9
作者 GAO Jin-song XU Ying WANG Xiao-yi WANG Tong-tong 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期397-402,共6页
ITO (indium oxide doped with tin) thin films were deposited on glass substrates by using ITO pellet with a composition of w(In2O3)=90% and w(SnO2)=10% by electron beam evaporated with End-Hall ion source assiste... ITO (indium oxide doped with tin) thin films were deposited on glass substrates by using ITO pellet with a composition of w(In2O3)=90% and w(SnO2)=10% by electron beam evaporated with End-Hall ion source assisted without extra heating. The rate of deposition and flow rate of oxygen were measured and changed to obtain the best properties of ITO thin films. Furthermore, the post annealing process was done in vacuum at different annealing temperatures for 2 h and at 400℃ for different keeping time, respectively. The relation between optical, electrical properties and structure was discussed in detail. 展开更多
关键词 ITO 薄膜 电子束 离子源
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退火处理对离子束溅射WO_(3-x)薄膜结构和特性的影响 被引量:3
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作者 苏江滨 王智伟 +3 位作者 祁昊 潘鹏 朱贤方 蒋美萍 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2021年第1期65-71,共7页
利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在... 利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在湿氧气氛下,退火温度越高、退火时间越长,WO_(3-x)薄膜的结晶度越好,除WO3主晶相显著增强以外,还会陆续出现O29W10、O49W18和WO_(2)等缺氧相;在干氧条件下,更高的退火温度和更长的退火时间都有助于降低WO_(3-x)薄膜的电阻值,也都有助于WO_(3-x)薄膜可见光透过率的提升;WO_(3-x)薄膜电致变色器件在632.8 nm波长处的光学调制值达到了70%左右,表现出良好的电致变色特性。 展开更多
关键词 氧化钨(WO_(3-x))薄膜 电致变色器件 离子束溅射 光学调制 可见光透过率
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微通道板BeO防离子反馈膜粒子阻透率的模拟研究
11
作者 鲁蓝霜 王国政 +2 位作者 夏加 张益博 杨继凯 《半导体光电》 CAS 北大核心 2023年第3期400-403,共4页
带有防离子反馈膜的微通道板是第三代微光像增强器件中的核心部件。文章阐述了防离子反馈膜的电子透过、离子阻止特性,利用Monte-Carlo模拟方法计算了氧化铍和三氧化二铝防离子反馈膜电子透过率和离子阻止率在不同条件下的变化曲线。模... 带有防离子反馈膜的微通道板是第三代微光像增强器件中的核心部件。文章阐述了防离子反馈膜的电子透过、离子阻止特性,利用Monte-Carlo模拟方法计算了氧化铍和三氧化二铝防离子反馈膜电子透过率和离子阻止率在不同条件下的变化曲线。模拟结果表明,氧化铍薄膜比三氧化二铝薄膜的电子透过特性好,而三氧化二铝薄膜比氧化铍薄膜的离子阻止本领好,证实了氧化铍作为防离子反馈膜的可行性。 展开更多
关键词 防离子反馈膜 蒙特卡罗模拟 电子透过率 离子阻止率
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微通道板离子壁垒膜粒子阻透特性的蒙特卡罗模拟(英文) 被引量:1
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作者 姜德龙 房立峰 +2 位作者 那延祥 李野 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期816-820,共5页
在三代微光像管中,微通道板(MCP)输入面上覆盖一层超薄离子壁垒膜(IBF),目的是保护光电阴极,延长像管使用寿命。为了深入研究离子壁垒膜的特性,本文对Al2O3和SiO2两种离子壁垒膜的粒子阻透能力进行了蒙特卡罗模拟,结果表明:5 nm厚Al2O3... 在三代微光像管中,微通道板(MCP)输入面上覆盖一层超薄离子壁垒膜(IBF),目的是保护光电阴极,延长像管使用寿命。为了深入研究离子壁垒膜的特性,本文对Al2O3和SiO2两种离子壁垒膜的粒子阻透能力进行了蒙特卡罗模拟,结果表明:5 nm厚Al2O3和SiO2离子壁垒膜的死电压分别为230~240 V和220~230 V之间;输入能量0.24 keV时背散射电子数最高达19%左右;输入能量0.8 keV时,Al2O3膜电子透过率为87.16%,SiO2膜为88.12%,电子透过的极限膜厚前者为15 nm,后者为16 nm;对于输入能量0.26 keV的C+、N+、O+离子,Al2O3膜的离子阻当率为95%~99%;Al2O3离子壁垒膜在厚度5 nm时具有较好的电子透过率和较高的离子阻挡率。 展开更多
关键词 微通道板 离子壁垒膜 蒙特卡罗模拟 电子透过 离子阻止
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防离子反馈膜粒子阻透率随环境温度变化的模拟研究 被引量:1
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作者 付申成 李野 +2 位作者 端木庆铎 桑文玲 孙擘 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第1期129-132,共4页
覆有防离子反馈膜的微通道板是第三代微光像增强器的核心部件之一。真空高温烘烤除气过程对防离子反馈膜粒子阻透特性会产生破坏性的影响。文中利用分子动力学方法模拟计算并得到Al2O3薄膜的膜层密度随环境温度的变化规律。利用蒙特卡... 覆有防离子反馈膜的微通道板是第三代微光像增强器的核心部件之一。真空高温烘烤除气过程对防离子反馈膜粒子阻透特性会产生破坏性的影响。文中利用分子动力学方法模拟计算并得到Al2O3薄膜的膜层密度随环境温度的变化规律。利用蒙特卡洛方法模拟计算了Al2O3薄膜的电子透过率和离子阻挡率随入射粒子能量的变化曲线。得到Al2O3薄膜的死电压在235 V左右,同时得出防离子反馈膜离子阻挡率在入射离子能量降低后有所增加。在入射离子能量降低为250 eV时,C、N、O离子被Al2O3薄膜阻挡的比率高达96%-99%。综合以上因素分析得出,随着外部温度的升高,电子透过率线性增加,而离子阻挡率非线性的下降。合理优化并调整高温烘烤时间和量值将有助于防离子反馈膜工作性能的改善。 展开更多
关键词 防离子反馈膜 电子透过率 离子阻挡率 环境温度
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低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜 被引量:2
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作者 徐颖 高劲松 +2 位作者 王笑夷 陈红 冯君刚 《光学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期669-671,共3页
溅射镀膜方法是制备ITO透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法。实验使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺—低压反应离子镀方法—制备ITO透明导电膜。实验对不同沉积速率和不同氧气流量对ITO透明导电膜的方块电阻以及光学透过率... 溅射镀膜方法是制备ITO透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法。实验使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺—低压反应离子镀方法—制备ITO透明导电膜。实验对不同沉积速率和不同氧气流量对ITO透明导电膜的方块电阻以及光学透过率的影响进行了详细地分析,并综合比较得到了当沉积速率为0.5nm/s,氧气流量为24cm3/min时,在波长为550nm处,方块电阻为20Ω,λ=550nm透过率为90.8%的优质ITO透明导电膜。 展开更多
关键词 低压反应离子镀 ITO透明导电膜 透过率 方块电阻
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双离子束溅射淀积DLC膜的红外特性 被引量:2
15
作者 王维洁 刘贵昂 +5 位作者 王天民 黄良甫 罗崇泰 刘定权 徐明 杨一民 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第12期1118-1124,共7页
用双离子束溅射法在50℃以下的玻璃基片上淀积了类金刚石碳(DLC)膜.研究了轰击离子能量、轰击离子束流密度及轰击源内氢/氩流量比例对淀积片红外透射特性的影响.所用波段是1.5~5.5μm.结果表明,对所有淀积样片,其相对透过率均随波长增... 用双离子束溅射法在50℃以下的玻璃基片上淀积了类金刚石碳(DLC)膜.研究了轰击离子能量、轰击离子束流密度及轰击源内氢/氩流量比例对淀积片红外透射特性的影响.所用波段是1.5~5.5μm.结果表明,对所有淀积样片,其相对透过率均随波长增长而增大.在每组实验中,随如上各可变参量的增大,各样片的相对透过率~波长曲线均有先上升后下降的规律.确定了各组相应的临界参数.结果还表明,轰击源不含氢并不影响DLC膜的制取,但轰击源合氢时所制得的膜具有更好的红外透射性.从结构变化的角度解释了上述规律. 展开更多
关键词 双离子束 溅射绽积 DLC膜 红外特性
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低能斜入射离子束诱导单晶硅纳米结构与光学性能研究 被引量:2
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作者 陈智利 刘卫国 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期826-831,共6页
为了研究低能Ar+离子束在不同入射角度下对单晶硅表面的刻蚀效果及光学性能,使用微波回旋共振离子源,对单晶Si(100)表面进行刻蚀,采用原子力显微镜、非接触式表面测量仪和傅里叶变换红外光谱仪对刻蚀后硅片的表面形貌、粗糙度和光学... 为了研究低能Ar+离子束在不同入射角度下对单晶硅表面的刻蚀效果及光学性能,使用微波回旋共振离子源,对单晶Si(100)表面进行刻蚀,采用原子力显微镜、非接触式表面测量仪和傅里叶变换红外光谱仪对刻蚀后硅片的表面形貌、粗糙度和光学透过率进行了测量。实验结果表明:当离子束能量为1000 eV、束流密度为265μA.cm-2、刻蚀时间为30 min时,离子束入射角度从0°增加到30°,样品表面出现条纹状结构。入射角度在0°~15°,随着角度增加,样品表面粗糙度增加,条纹周期减小,光学透过率提高;而在15°~30°范围内,随着角度增加,粗糙度开始减小,条纹周期增大,同时光学透过率降低。继续增加入射角度,条纹状结构逐渐消失,入射角度到45°时,粗糙度和光学透过率达到最小值;增加入射角度到55°,样品表面出现自组织点状结构,表面粗糙度急剧增大,光学透过率随着角度增加开始增加;继续增加离子束入射角度到80°,表面粗糙度和光学透过率继续增加,样品表面呈现出均匀有序的自组织柱状结构;此后,随着入射角度的增加,表面粗糙度又开始减小,光学透过率降低。自组织条纹结构到柱状结构的转变是溅射粗糙化和表面驰豫机制相互作用的结果。 展开更多
关键词 低能离子束刻蚀 自组织纳米结构 表面形貌 表面粗糙度 光学透过率
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Damage produced on GaN surface by highly charged Krq+irradiation
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作者 Li-Qing Zhang Chong-Hong Zhang +6 位作者 Chao-Liang Xu Heng-Qing Zhang Yi-Tao Yang Jin-Yu Li Hui-Ping Liu Zhao-Nan Ding Ting-Xing Yan 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2017年第12期220-225,共6页
Surface morphology, compositions, microstructure and optical properties of GaN film irradiated by highly charged Kr^(q+)(q = 23, 15, 11) in two geometries to a fluence of 1×10^(15)kr^(q+)/cm^2 were studied using ... Surface morphology, compositions, microstructure and optical properties of GaN film irradiated by highly charged Kr^(q+)(q = 23, 15, 11) in two geometries to a fluence of 1×10^(15)kr^(q+)/cm^2 were studied using AFM,XPS, PL, Raman scattering and UV–visible spectroscopy.The AFM observation shows that the irradiated GaN area is a swollen terrace. The swelling rate increased with the charge state(potential energy). For the same charge state,the swelling rate of tilted incidence was greater than that for normal incidence. The XPS measurements reveal that N deficiency, Ga enrichment and Ga–O and Ga dangling bonds generated on the irradiated GaN surface increased with the charge state, and more N was lost for normal incidence than that for tilted incidence. The UV–Vis results show that the transmittance decreased with increasing charge state. For the same charge state, the transmittance for tilted incidence is higher than that for normal incidence.The PL spectra present that, with increasing charge state,the YL band intensity decreased, with a blueshift in its peak position; while the NBE peak intensity increased firstand then reduced, and a blue luminescence band appeared.A rapid quenching of both the YL and the NEB for normal incidence was observed. Raman spectra display that screw dislocations perhaps were produced near the surface for normal incidence. 展开更多
关键词 GAN HIGHLY CHARGED KRYPTON ion AFM XPS UV–Vis transmittance SPECTRA PL Raman SPECTRA
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不同离子束参数刻蚀蓝宝石纳米微结构及其光学性能 被引量:1
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作者 王梦皎 陈智利 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期691-695,共5页
使用微波回旋共振离子源,研究Ar+离子束在不同角度、不同入射能量下对蓝宝石表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明:所用能量800eV,1 000eV及1 200eV时透过率都有很大的提升,由原来的50%提高到70%~80%,在能量为1 000eV时增幅最大,能量为1 ... 使用微波回旋共振离子源,研究Ar+离子束在不同角度、不同入射能量下对蓝宝石表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明:所用能量800eV,1 000eV及1 200eV时透过率都有很大的提升,由原来的50%提高到70%~80%,在能量为1 000eV时增幅最大,能量为1 200eV时增幅最小;在相同能量、不同角度下刻蚀后蓝宝石粗糙度呈先增大后减小的趋势,而在相同角度、不同能量下粗糙度方面无明显规律。刻蚀后表面形貌测试表明:角度不变,能量为1 000eV时出现点状纳米结构,能量为1 200eV时出现柱状纳米结构;能量不变,角度为10°、50°及80°时出现了规律较明显的点状或条状纳米结构,角度为30°时表面较为光滑。 展开更多
关键词 低能离子束刻蚀 透过率 表面粗糙度 纳米结构
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共沉淀法优化纳米粉体制备高质量的Co:MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷 被引量:1
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作者 荆延秋 刘强 +5 位作者 苏莎 李晓英 刘欣 刘子玉 田丰 李江 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第12期2783-2789,共7页
通过反滴共沉淀法合成Co:MgAl_(2)O_(4)纳米粉体,通过真空烧结和HIP后处理制备了高透明的Co:MgAl_(2)O_(4)陶瓷。研究了碳酸铵的添加量对合成前驱体、纳米粉体和陶瓷性能的影响。结果表明:碳酸铵添加量对Co:MgAl_(2)O_(4)纳米粉体的分... 通过反滴共沉淀法合成Co:MgAl_(2)O_(4)纳米粉体,通过真空烧结和HIP后处理制备了高透明的Co:MgAl_(2)O_(4)陶瓷。研究了碳酸铵的添加量对合成前驱体、纳米粉体和陶瓷性能的影响。结果表明:碳酸铵添加量对Co:MgAl_(2)O_(4)纳米粉体的分散性和陶瓷的光学性能有一定影响。pH值会影响Co:MgAl_(2)O_(4)纳米粉体的团聚程度,而添加0.5 L碳酸铵制备得到的纳米粉体的团聚程度最弱。同时,添加0.5 L碳酸铵制备得到的Co:MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷具有最佳光学质量,在400 nm和1100 nm的直线透过率分别达到84.4%和86.9%,平均晶粒尺寸为21.3μm。 展开更多
关键词 碳酸铵 共沉淀法 钴掺杂镁铝尖晶石 透明陶瓷 透过率
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溅射时间对磁控溅射V_(2)O_(5)离子储存薄膜结构与性能的影响
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作者 付亚东 刘鉴宁 +3 位作者 刘红英 张远洋 张得全 梁小平 《玻璃》 2021年第4期21-24,29,共5页
在ITO玻璃基体上采用磁控溅射法制备用于电致变色玻璃的V_(2)O_(5)离子储存薄膜,重点研究了溅射时间(2~5 h)对V_(2)O_(5)薄膜结构与性能的影响。研究结果表明:随着溅射时间延长,V_(2)O_(5)薄膜的厚度随着溅射时间延长而增厚,透过率随着... 在ITO玻璃基体上采用磁控溅射法制备用于电致变色玻璃的V_(2)O_(5)离子储存薄膜,重点研究了溅射时间(2~5 h)对V_(2)O_(5)薄膜结构与性能的影响。研究结果表明:随着溅射时间延长,V_(2)O_(5)薄膜的厚度随着溅射时间延长而增厚,透过率随着厚度增加而呈现降低趋势;溅射4~5 h下制备的V_(2)O_(5)薄膜离子储量高于20 mC/cm^(2)。综合考虑离子储存量和可见光透过率,磁控溅射法制备离子储存V_(2)O_(5)薄膜的溅射时间控制为4 h为宜。 展开更多
关键词 磁控溅射 离子储存薄膜 V_(2)O_(5) 溅射时间 透过率
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