离子束抛光去除函数计算与抛光实验 被引量：13

1

作者 唐瓦 邓伟杰 +1 位作者 郑立功 张学军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期31-39,共9页

由于传统的离子抛光工艺采用的确定去除函数的方法操作复杂且成本很高,本文提出了利用法拉第杯对离子束流空间分布进行测量、标定的方法,并计算得到不同离子源工作参数对应的去除函数。首先,基于离子束抛光材料去除原理,研究了离子束抛... 由于传统的离子抛光工艺采用的确定去除函数的方法操作复杂且成本很高,本文提出了利用法拉第杯对离子束流空间分布进行测量、标定的方法,并计算得到不同离子源工作参数对应的去除函数。首先,基于离子束抛光材料去除原理,研究了离子束抛光过程中束流分布与能量对去除函数的影响,并提出简化的离子束抛光去除函数模型。然后,设计实验并得出离子束流空间分布与去除函数相关参数间的关系,计算得到了不同离子源工作参数产生的离子束流对应的去除函数。对硅和融石英玻璃的相关实验表明:利用法拉第杯扫描结果计算相同材料的去除函数的单位时间体积去除率与实际测量值误差小于2%。结合抛光实验,对Φ800mm碳化硅表面硅改性层平面镜进行抛光,得到的初始面形误差均方根(RMS)值为57.886nm,两次抛光后RMS值为11.837nm,收敛率达到4.89,满足精密光学加工对去除函数的确定性及精度的要求,并大大提升了确定去除函数的效率。 展开更多

关键词 光学加工 离子束抛光 溅射效应 法拉第杯扫描 去除函数

下载PDF 职称材料

硬脆基底材料超精密抛光技术研究进展 被引量：8

2

作者 范娜 陈传东 张忠义 《稀土》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期20-31,共12页

随着高新技术的快速发展,对应用于精密制造业的硬脆材料表面质量提出了越来越高的要求,传统的加工方法难以达到理想的表面精度。超精密抛光作为一种降低表面粗糙度、提高材料去除率,获得表面平坦化的加工技术被广泛用于材料表面末端精加... 随着高新技术的快速发展,对应用于精密制造业的硬脆材料表面质量提出了越来越高的要求,传统的加工方法难以达到理想的表面精度。超精密抛光作为一种降低表面粗糙度、提高材料去除率,获得表面平坦化的加工技术被广泛用于材料表面末端精加工,以获得高精度的材料表面。本文结合近年来硬脆材料超精密抛光技术研究现状,分别介绍了磁流变抛光、离子束抛光和化学机械抛光等超精密抛光技术的原理及特点,总结了其在硬脆材料方面的应用研究进展,展望了硬脆材料超精密抛光技术未来的研究方向。 展开更多

关键词 硬脆基底材料 磁流变抛光 离子束抛光 化学机械抛光

原文传递

离子束抛光等量去除的实现及抛光实验 被引量：8

3

作者 王玉宁 蒋世磊 +2 位作者 孙国斌 刘卫国 党小刚 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2020年第3期234-240,共7页

为了提高光学元件的面形精度,精确拟合出离子束去除函数。以去除函数的方均根(RMS)为分析对象,分析不同叠加间距下离子束等量去除的去除量及波动量。根据理论及实验数据分析验证一维等量去除的可行性,得出最优叠加间距为σ。再以σ为叠... 为了提高光学元件的面形精度,精确拟合出离子束去除函数。以去除函数的方均根(RMS)为分析对象,分析不同叠加间距下离子束等量去除的去除量及波动量。根据理论及实验数据分析验证一维等量去除的可行性,得出最优叠加间距为σ。再以σ为叠加间距进行二维等量去除理论及实验分析,通过30s熔石英二维等量去除实验,得出去除量为384.7nm。结合抛光实验,对RMS值为138.5nm的Φ100mm口径的熔石英平面窗口玻璃进行面形修正,加工后RMS值为18nm,面形收敛率达到7.82。 展开更多

关键词 光电子学 光学加工设备 离子束抛光 去除函数 叠加间距 等量去除

原文传递

多光谱硫化锌光学窗口离子束抛光工艺研究及参数优化

4

作者 蔡根 朱蓓蓓 +2 位作者 秦琳 张楚鹏 陈肖 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期2247-2255,共9页

多光谱硫化锌因其在近、中、远红外等多个光谱波段具有较高的光学透率,广泛应用于红外光学制导导引头、光电探测雷达、机载光电吊舱。为了获得超高面形精度的多光谱硫化锌光学元件,并提高离子束抛光效率,采用正交实验方法对硫化锌进行... 多光谱硫化锌因其在近、中、远红外等多个光谱波段具有较高的光学透率,广泛应用于红外光学制导导引头、光电探测雷达、机载光电吊舱。为了获得超高面形精度的多光谱硫化锌光学元件,并提高离子束抛光效率,采用正交实验方法对硫化锌进行离子束单点刻蚀实验,获取各工艺参数下的去除函数特征量及体积去除率。通过对正交实验数据进行直观法分析和极差法分析,以体积去除率最大为目标进行工艺参数优化,获得的优化工艺参数组合为:离子束流电压1100 V、射频功率110 W、加速电压200 V、氩气流量7 sccm、加工距离30 mm。通过调控工艺参数获得不同的离子束束斑直径对口径为80mm硫化锌进行组合抛光,加工后的硫化锌面形精度PV值由467 nm下降到了71.506 nm、RMS值由112 nm下降到10.758 nm。以上实验结果表明,采用大、小束径离子束组合能够有效提升多光谱硫化锌光学元件的加工效率和面型精度。 展开更多

关键词 硫化锌 离子束抛光 去除函数 工艺优化 极差分析

下载PDF 职称材料

ZnS离子束抛光过程中的粗糙度演变 被引量：5

5

作者 武磊 刘卫国 +3 位作者 蔡长龙 陈智利 周顺 郭延 《西安工业大学学报》 CAS 2014年第12期947-952,共6页

为了得到离子束抛光ZnS的工艺参数,采用微波离子源作为抛光源,分析了离子束能量、离子束流大小、离子束入射角度对ZnS刻蚀速率及表面粗糙度的影响,比较了ZnS刻蚀速率及表面粗糙度的变化趋势.研究结果表明:当离子束能量为400eV、离子束... 为了得到离子束抛光ZnS的工艺参数,采用微波离子源作为抛光源,分析了离子束能量、离子束流大小、离子束入射角度对ZnS刻蚀速率及表面粗糙度的影响,比较了ZnS刻蚀速率及表面粗糙度的变化趋势.研究结果表明:当离子束能量为400eV、离子束流大小为35mA、入射角度为45°时,ZnS表面粗糙度降低了0.23nm. 展开更多

关键词 微波离子源 离子束抛光 刻蚀机理 刻蚀速率 表面粗糙度

下载PDF 职称材料

利用功率谱密度评价离子束抛光光学元件表面粗糙度 被引量：5

6

作者 岳巾英 王泰升 李素文 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期208-211,共4页

利用功率谱密度(PSD)评价光学表面粗糙度具有传统评价手段(Ra)所不具备的优势。给出了功率谱密度的计算方法,以及抽样方向与一维PSD曲线的关系。在离子束抛光K9玻璃实验中引入PSD曲线,以评价抛光光学零件的光学表面粗糙度,结合PSD曲线... 利用功率谱密度(PSD)评价光学表面粗糙度具有传统评价手段(Ra)所不具备的优势。给出了功率谱密度的计算方法,以及抽样方向与一维PSD曲线的关系。在离子束抛光K9玻璃实验中引入PSD曲线,以评价抛光光学零件的光学表面粗糙度,结合PSD曲线与Ra值能够更全面的指导光学加工。 展开更多

关键词 功率谱密度(PSD) 表面粗糙度(Ra) 离子束抛光

原文传递

10cm×30cm矩形射频离子束源的研制 被引量：3

7

作者 苏志伟 陈庆川 韩大凯 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期734-737,共4页

本文介绍了射频(Radiofrequency,RF)感应耦合等离子体(Inductivecoupleplasma,ICP)离子束源的设计研究。该射频离子束源可工作于Ar,在使用四栅引出系统时,可获得100—1000eV的离子束。当射频功率为900W,在Ar为工作气体时,束流可达到600m... 本文介绍了射频(Radiofrequency,RF)感应耦合等离子体(Inductivecoupleplasma,ICP)离子束源的设计研究。该射频离子束源可工作于Ar,在使用四栅引出系统时,可获得100—1000eV的离子束。当射频功率为900W,在Ar为工作气体时,束流可达到600mA。在束流为120mA时,距源26cm处,在主轴方向27cm的范围内不均匀性小于±6%。该离子束源可作为大面积离子束刻蚀、离子束抛光等的离子束源。 展开更多

关键词 射频离子束源 电感耦合等离子体 离子束刻蚀 离子束抛光

下载PDF 职称材料

离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 被引量：4

8

作者 郭伟远 成贤锴 梁斌 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期888-893,共6页

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜... 在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度,首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型,然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快,得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析,比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别,同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型,PV值由83.63nm减小到46.92nm,镜面精度提高了很多。 展开更多

关键词 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形

下载PDF 职称材料

离子束抛光在微电子封装失效分析领域的应用

9

作者 王刚 冯丽婷 +6 位作者 李潮 黎恩良 郑林挺 胡宏伟 刘家儒 夏姗姗 武慧薇 《电子产品可靠性与环境试验》 2023年第6期94-97,共4页

首先,以具体微电子封装失效机理和失效模式研究的应用为落脚点,较为全面地介绍了离子束抛光的工作原理、样品参数选择依据;然后,利用离子束抛光系统对典型的封装互连结构进行抛光,结合材料和离子束刻蚀理论进行参数探索;最后,对尺寸测... 首先,以具体微电子封装失效机理和失效模式研究的应用为落脚点,较为全面地介绍了离子束抛光的工作原理、样品参数选择依据;然后,利用离子束抛光系统对典型的封装互连结构进行抛光,结合材料和离子束刻蚀理论进行参数探索;最后,对尺寸测量、成分分布和相结构等信息进行观察和分析,为离子束抛光系统在微电子封装破坏性物理分析和失效分析中的应用提供了指导。 展开更多

关键词 离子束抛光 截面 扫描电子显微镜 电子背散射衍射 失效分析 失效模式

下载PDF 职称材料

离轴抛物面镜离子束抛光工艺研究 被引量：2

10

作者 孙国斌 蒋世磊 +1 位作者 张余豪 张锦 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第9期233-241,共9页

针对离轴抛物面镜离子束修形过程中存在的热效应累积和迭代加工效率问题,提出了将总去除量按一定比例划分的分批次加工与变束径加工相结合的方法,并采用该方法进行工艺实验探索。对口径为110 mm、曲率半径为1732.7 mm、初始面形峰谷值(... 针对离轴抛物面镜离子束修形过程中存在的热效应累积和迭代加工效率问题,提出了将总去除量按一定比例划分的分批次加工与变束径加工相结合的方法,并采用该方法进行工艺实验探索。对口径为110 mm、曲率半径为1732.7 mm、初始面形峰谷值(PV)为0.525λ(λ=632.8 nm),均方根(RMS)值为0.025λ的球面镜进行分批次变束径离子束抛光实验,最终加工得到顶点曲率半径为1728 mm、离轴量为85 mm、PV为0.36λ、RMS值0.029λ的离轴抛物面镜。对实验过程及结果进行分析,证明分批次加工方法有效消除了离子束加工过程中的热效应,通过变束径局部精修加工的方法可以减少迭代加工次数,提升加工效率。 展开更多

关键词 光学设计 离子束抛光 离轴抛物面镜 热效应 变束径

原文传递

离子束加工中全频段误差的演变 被引量：3

11

作者 李文卿 张继友 +3 位作者 王永刚 马仙梅 孟晓辉 李昂 《航天返回与遥感》 CSCD 2020年第5期47-54,共8页

在空间光学、光刻物镜、惯性约束聚变及强光系统等领域的高精密光学元件制造过程中,采用基于小磨头抛光原理的修形技术,虽然能有效去除面形低频误差,但对中高频误差难以修正。为了达到有效控制全频段误差的目的,文章以直径420mm的非球... 在空间光学、光刻物镜、惯性约束聚变及强光系统等领域的高精密光学元件制造过程中,采用基于小磨头抛光原理的修形技术,虽然能有效去除面形低频误差,但对中高频误差难以修正。为了达到有效控制全频段误差的目的,文章以直径420mm的非球面为样件,在离子束抛光机床上进行不同频段误差的修形收敛试验。针对光学元件面形误差在不同频段的特性,以面形误差频段均方根及梯度均方根指标作为评价参数,分析各频段误差产生的原因,探索离子束工艺参数及其他因素与各频段误差间的对应关系。通过4轮离子束迭代加工后,样件全频段面形误差均方根值从34.973nm收敛到6.025nm,梯度均方根值由0.091λ/cm收敛到0.061λ/cm(λ=632.8nm)。试验结果表明:通过优化离子束的工艺参数,可显著提升光学元件的全频段面形精度,实现频段误差在不同评价参数下的同步收敛。频段均方根及梯度均方根指标可作为评价全频段面形误差变化的标准,对光学加工具有参考价值。 展开更多

关键词 空间频段 全频段误差 离子束修形 工艺参数 航天遥感

下载PDF 职称材料

石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状 被引量：2

12

作者 屈睿 李朝将 +4 位作者 孙元成 张晓强 金鑫 李绍良 左镇 《飞控与探测》 2021年第1期22-35,共14页

具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。其要求元件达到纳米级的表面粗糙度,而且没有损伤层和残余应力,因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。文章介绍了气囊、磁流变、弹性发射... 具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。其要求元件达到纳米级的表面粗糙度,而且没有损伤层和残余应力,因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。文章介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃精密抛光方法,侧重阐述了国内外等离子体抛光技术,包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工技术的研究进展及取得的成果,并且对等离子体技术的未来发展进行了概述。 展开更多

关键词 石英玻璃 等离子体抛光 离子束抛光 亚表面损伤 残余应力

下载PDF 职称材料

高能激光单晶硅反射镜纳米精度控形控性制造技术 被引量：2

13

作者 石峰 田野 +7 位作者 乔硕 周光奇 宋辞 薛帅 铁贵鹏 周林 舒勇 周港 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期128-136,共9页

单晶硅反射镜是高能激光系统中的重要元件,其加工质量直接影响着高能激光系统的整体性能指标。针对单晶硅反射镜加工过程中产生的各类缺陷问题,本研究团队提出了采用超精密切削、浸没式抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密加工方法来... 单晶硅反射镜是高能激光系统中的重要元件,其加工质量直接影响着高能激光系统的整体性能指标。针对单晶硅反射镜加工过程中产生的各类缺陷问题,本研究团队提出了采用超精密切削、浸没式抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密加工方法来提升单晶硅元件的加工质量,并开展了相关研究。本文主要综述了本团队近几年在单晶硅制造技术领域取得的研究进展,包括单晶硅纳米精度表面控形制造技术、单晶硅纳米精度本征表面控性生成方法、纳米精度控形控性组合工艺等一系列关键技术。通过探讨高能激光单晶硅元件制造的现状与关键技术,为实现单晶硅元件纳米精度控形控性制造提供技术支撑。 展开更多

关键词 光学制造 高能激光系统 单晶硅元件 浸没式光顺抛光 离子束抛光

原文传递

离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法 被引量：2

14

作者 郭伟远 成贤锴 白华 《天文研究与技术》 CSCD 2011年第4期374-379,共6页

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法... 在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法占用计算机资源少,运算速度快,同时可以根据预先设定的加工精度算得满足要求的驻留时间函数。对这种新算法进行仿真分析,采用3种不同的消去顺序分步加工,得到了理想的仿真结果,PV值由抛光前的363.721 nm分别减小到6.136 nm、33.347 nm、3.875 nm,抛光后的镜面精度提高了很多。 展开更多

关键词 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形

下载PDF 职称材料

熔石英表面离子束抛光去除函数稳定性研究

15

作者 吴鹏飞 王春阳 +3 位作者 李晓静 赵仕燕 王大森 聂凤明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期284-291,共8页

目的检验熔石英光学元件表面离子束抛光过程中去除函数的稳定性。方法对离子束进行法拉第扫描来获取束流密度信息,构建离子束抛光去除函数模型。分析离子束流密度信息与去除函数模型,并通过实验研究束流密度信息与去除函数之间的关系,... 目的检验熔石英光学元件表面离子束抛光过程中去除函数的稳定性。方法对离子束进行法拉第扫描来获取束流密度信息,构建离子束抛光去除函数模型。分析离子束流密度信息与去除函数模型,并通过实验研究束流密度信息与去除函数之间的关系,获得基于法拉第扫描结果计算去除函数的方法。利用该方法求取离子束抛光过程中的去除函数特征量,分析去除函数特征量随时间的波动情况以此来判断去除函数的稳定性,并对熔石英元件表面进行离子束抛光实验。结果在1 keV离子束能量下对离子源进行长时间的运行实验,利用上述方法计算实验过程中的去除函数。通过计算得到离子束抛光过程中去除函数的峰值去除率(P_(max))、体积去除率(V)和半高全宽(FWHM)在8 h内的变化率都小于3%。利用离子束抛光实验对Φ100 mm的熔石英光学元件进行抛光,抛光后面形PV值由0.78λ下降到0.16λ,RMS值由72.39 nm下降到16.64 nm。结论通过法拉第扫描实现了对去除函数长时间的监测,去除函数特征量在长时间测试实验中有着很好的稳定性,并对熔石英元件表面进行离子束加工,加工后元件表面参数满足光学超精密加工的要求。 展开更多

关键词 离子束抛光 法拉第杯检测 离子束流密度 去除函数 稳定性

下载PDF 职称材料

宽束径离子束抛光KDP晶体表面粗糙度特征研究

16

作者 马波 刘卫国 +2 位作者 周顺 宋世庚 惠大泰 《西安工业大学学报》 CAS 2020年第6期589-597,共9页

为了研究离子束抛光KDP晶体工艺参数对表面粗糙度的影响,实现对KDP晶体的抛光,文中使用微波离子源对KDP晶体进行抛光加工,采用非接触式表面轮廓仪对抛光后晶体的表面粗糙度进行测量。基于离子束溅射模型分析离子束水平入射角对抛光结果... 为了研究离子束抛光KDP晶体工艺参数对表面粗糙度的影响,实现对KDP晶体的抛光,文中使用微波离子源对KDP晶体进行抛光加工,采用非接触式表面轮廓仪对抛光后晶体的表面粗糙度进行测量。基于离子束溅射模型分析离子束水平入射角对抛光结果的影响,并结合实验进行验证;通过实验研究离子束入射能量、氩气流量和抛光时间对抛光结果的影响;根据工艺参数对抛光结果的影响特性设计正交实验,探索离子束刻蚀抛光KDP晶体最优工艺。研究结果表明:抛光后的晶体表面粗糙度随着离子束水平入射角的增大而降低;对于入射离子束能量,抛光后的晶体表面粗糙度在200~400 eV范围内有下降趋势,其中在400 eV出现最小值,当入射能量进一步提高时,表面粗糙度将逐渐变大。对于氩气流量,在氩气流量为20~30 sccm范围内出现粗糙度最小值,随着氩气流量进一步增大,粗糙度变大。对于加工时间,抛光时间由22 min增大到44 min时,表面粗糙度有所降低,随着加工时间继续增大,粗糙度变大,表面朝恶化趋势发展;离子束抛光KDP晶体最佳工艺参数为:离子束压400 eV,氩气流量25 sccm、抛光时间44 min,将尺寸为50 mm×50 mm的KDP晶体表面粗糙度Sq由2.50nm降低到1.68 nm。 展开更多

关键词 离子束抛光 KDP晶体 离子束溅射模型 抛光工艺参数 正交实验 粗糙度

下载PDF 职称材料

等离子抛光石英玻璃表面粗糙度研究 被引量：1

17

作者 郑才国 陈庆川 +2 位作者 聂军伟 李民久 陈美艳 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2020年第2期9-11,59,共4页

为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过调节离子束的能量、束流密度和入射角等工艺参数对抛光效果的影响。试验结果表明,随离子束能量的增加,试... 为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过调节离子束的能量、束流密度和入射角等工艺参数对抛光效果的影响。试验结果表明,随离子束能量的增加,试件的表面粗糙度RMS先减小后增大,当离子束能量为200~600 eV时试件表面粗糙度明显提高,为离子束抛光能量最佳范围。离子束流入射最佳角度范围为45°~60°,随着离子束抛光时间的增加,试样表面粗糙度先降低后增大。 展开更多

关键词 离子束抛光 超光滑 射频离子源 表面粗糙度

下载PDF 职称材料

离子束抛光去除边界效应延拓修正研究

18

作者 周迪 蒋世磊 +2 位作者 孙国斌 康乐 刘卫国 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第13期346-351,共6页

针对离子束抛光光学元件过程中产生的边界效应问题,提出了基于多项式拟合延拓的抑制方法。利用多项式延拓方法对初始面形进行边界延拓,并对得到的延拓面形进行仿真,仿真后面形均方根值为5.20 nm。采用离子束抛光技术对100 mm口径的K9光... 针对离子束抛光光学元件过程中产生的边界效应问题,提出了基于多项式拟合延拓的抑制方法。利用多项式延拓方法对初始面形进行边界延拓,并对得到的延拓面形进行仿真,仿真后面形均方根值为5.20 nm。采用离子束抛光技术对100 mm口径的K9光学元件进行加工,加工后的面形均方根值由19.26 nm降至12.23 nm。选取加工后的面形8%作为边界面形,边界面形均方根值由137.23 nm降至56.72 nm,通过仿真和实验,验证了该方法的可行性。该研究可以为光学加工提供一种新的方法。 展开更多

关键词 光学设计 离子束抛光 边界效应 边界延拓 多项式拟合

原文传递

等离子抛光石英玻璃特性研究

19

作者 郑才国 陈庆川 +2 位作者 聂军伟 李民久 陈美艳 《真空》 CAS 2020年第4期72-76,共5页

离子束具有加工精度高、可控性好、加工面洁净无污染等优点,利用其加工超光滑光学元件可避免传统机械加工方法所带来的亚表面损伤。本文将射频等离子体应用于石英玻璃的加工,对射频等离子体抛光效应进行了研究。分析通过改变离子束的能... 离子束具有加工精度高、可控性好、加工面洁净无污染等优点,利用其加工超光滑光学元件可避免传统机械加工方法所带来的亚表面损伤。本文将射频等离子体应用于石英玻璃的加工,对射频等离子体抛光效应进行了研究。分析通过改变离子束的能量、束流和入射角等工艺参数,对抛光效果的影响。试验结果表明,表面粗糙度RMS随着离子束能量的增大先降低后升高,离子束抛光能量为600eV时,粗糙度到达最小,为1.73RMS/nm,离子束束流为200mA时,粗糙度到达最小为1.26RMS/nm。表面粗糙度随抛光时间增加先降低后升高。 展开更多

关键词 离子束抛光 入射角 射频离子源 表面粗糙度

下载PDF 职称材料

极坐标系统下进行直角坐标扫描的离子束抛光

20

作者 郭伟远 成贤锴 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期164-169,共6页

在离子束抛光设备研制过程中,离子源扫描运动方式的选择是很关键的,一般分为直角坐标方式扫描和极坐标方式扫描两种。根据两种扫描方式的特点,在极坐标系统下进行直角坐标扫描方式加工。该种方法采用直角坐标扫描方式下的驻留时间计算,... 在离子束抛光设备研制过程中,离子源扫描运动方式的选择是很关键的,一般分为直角坐标方式扫描和极坐标方式扫描两种。根据两种扫描方式的特点,在极坐标系统下进行直角坐标扫描方式加工。该种方法采用直角坐标扫描方式下的驻留时间计算,算法相对简单。该种方法在极坐标系统下进行加工,同等情况下可加工圆形镜面的口径比直角坐标系统下更大些;而且离子源的可移动区域是一条直线,其余地方可以摆放其他设备,空间利用率较高。对这种新思路进行仿真分析,证实了其具有可行性。 展开更多

关键词 离子束抛光 极坐标系统 扫描方式 计算机控制光学表面成形

下载PDF 职称材料