期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到7篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
用于超宽焦斑光束整形的大口径衍射光学元件设计和制作 被引量：6
1
作者 赵逸琼 王建东 +4 位作者 张晓波 李永平 伍源 王旭迪 傅绍军 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期150-154,共5页
采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有... 采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有极好的离焦宽容性的宽焦斑,但焦斑顶部不均匀性较大。对此进行了深入的模拟分析,结果表明:焦斑顶部较大的光强调制主要来源于现有的工艺及实验条件误差。 展开更多
关键词 应用光学 衍射光学元件 准梯度下降法 镂空掩膜板 离子束刻蚀
下载PDF
离子束表面加工设备控制系统研究与设计
2
作者 范江华 黄一峻 +3 位作者 周立平 周波 刘庆浩 胡坤 《电子工业专用设备》 2024年第6期16-19,53,共5页
通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻... 通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻蚀等工艺控制需求。 展开更多
关键词 离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 控制系统
下载PDF
离子束刻蚀技术与设备常见故障分析 被引量：3
3
作者 程壹涛 刘成群 吴海 《电子工业专用设备》 2021年第5期33-38,共6页
介绍了离子束刻蚀技术的特点及其基本原理,并以某型号离子束刻蚀机为例,重点介绍了该设备组成结构与工作原理。同时,根据以往维修经验,总结归纳了该设备的常见故障,并对故障原因进行了深入分析,给出了相应的解决措施。
关键词 离子束刻蚀 射频离子源 中和器 离子光学系统
下载PDF
离子束刻蚀机的电源系统
4
作者 陈元棣 谈治信 《真空》 CAS 北大核心 2011年第2期56-59,共4页
离子束刻蚀机的性能,除主机外,在很大程度上取决于供电电源系统。为了提高离子束刻蚀机整机工作的稳定性,在以往的配套电源的基础上,研制了一套电源系统,用于离子束刻蚀机中。整机工作稳定度达±0.8%/h,每次连续刻蚀器件8h以上,连... 离子束刻蚀机的性能,除主机外,在很大程度上取决于供电电源系统。为了提高离子束刻蚀机整机工作的稳定性,在以往的配套电源的基础上,研制了一套电源系统,用于离子束刻蚀机中。整机工作稳定度达±0.8%/h,每次连续刻蚀器件8h以上,连续运转3年多,电源系统稳定可靠。是国内离子束刻蚀机电源系统性能较好的供电电源系统。 展开更多
关键词 离子束刻蚀 离子源 真空系统 稳流电源 稳定度
下载PDF
基于TiN涂层/玻璃基体的热压印模板的制备与性能 被引量：3
5
作者 周志涛 王海容 +1 位作者 蒋庒德 刘冲 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期79-83,共5页
对于热压印光刻而言,制备具有精确几何结构、良好耐磨损性能以及长使用寿命模板至关重要。在分析现有Si或SiO2模板使用性能基础上,提出了在TiN涂层/玻璃基体上制备热压印模板。首先采用直流磁过滤电弧在玻璃上沉积TiN薄膜,然后,通过聚... 对于热压印光刻而言,制备具有精确几何结构、良好耐磨损性能以及长使用寿命模板至关重要。在分析现有Si或SiO2模板使用性能基础上,提出了在TiN涂层/玻璃基体上制备热压印模板。首先采用直流磁过滤电弧在玻璃上沉积TiN薄膜,然后,通过聚焦离子束在薄膜上加工出最小线宽71nm的栅型结构,最后,使用所加工的模板,进行热压印实验,获得了良好的压印结果。实验结果表明,TiN作为模板材料可以获得高保真度的纳米图案,并且由于TiN比Si或SiO2具有更高硬度和强度,玻璃基体也具有很好的机械性能,由TiN/玻璃系统制备的压印模板的机械性能和使用寿命较之Si或SiO2基模板得到很大提高。 展开更多
关键词 纳米压印光刻 热压印 压印模板 聚焦离子束 硬质涂层
原文传递
离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀) 被引量：2
6
作者 付秀华 王一博 +2 位作者 潘永刚 何云鹏 任海峰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第9期51-62,共12页
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行... 为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验,对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合,并用Zygo干涉仪测量粗糙度,分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响。结果表明通过离子束的刻蚀,可见光波段Ti_(3)O_(5)单层膜的均匀性为0.36%,粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm。 展开更多
关键词 光学薄膜 膜厚均匀性 离子束刻蚀 三级公自转行星系统 光学透镜
下载PDF
光学元件表面疵病标准板系统设计 被引量：1
7
作者 刘旭 任寰 +3 位作者 柴立群 陈波 杨甬英 高鑫 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第B06期471-475,共5页
为解决大口径光学元件表面疵病检测设备的精确测量、校准和溯源问题。设计了用于标定表面疵病检测系统的标准板，通过电子柬曝光将定标图案转移至掩模板，再采用反应离子束刻蚀的方法制作标准板。通过扫描电镜测量标准板上各标准线的真... 为解决大口径光学元件表面疵病检测设备的精确测量、校准和溯源问题。设计了用于标定表面疵病检测系统的标准板，通过电子柬曝光将定标图案转移至掩模板，再采用反应离子束刻蚀的方法制作标准板。通过扫描电镜测量标准板上各标准线的真实线宽尺寸，并以扫描电镜测量结果为参考值标定大口径表面疵病检测系统。利用所设计的标准板标定基于散射成像法的大口径表面疵病检测系统。结果表明，当疵病线宽尺寸大于45μm时，疵病的散射像满足几何成像原理，当疵病宽度尺寸小于45μm时，需按标定结果进行计算。 展开更多
关键词 光学设计 表面疵病 标准板 反应离子柬 大口径光学元件 高功率激光驱动器
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部